[實用新型]單槽晶片凈化清洗裝置

有效

• 申請號: 201820755711.3
• 申請日: 2018-05-18
• 公開（公告）號: CN208513195U
• 公開（公告）日: 2019-02-19
• 發明（設計）人: 周海;韋嘉輝;宋放;徐曉明;徐彤彤
• 申請（專利權）人: 鹽城工學院
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/10;B08B3/12;B08B3/14;B08B13/00
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 楊海軍

本實用新型公開了一種單槽晶片凈化清洗裝置，它包括：機體外殼（5），可升降蓋板（1），設置在機體外殼（5）內的清洗槽（11），開設在清洗槽（11）上的進液閥（14），與進液閥（14）相連的儲液罐（12），安裝在清洗槽（11）下方的超聲波換能器（8），安裝在清洗槽（11）側壁上的電加熱絲（13）和液位傳感器（4）；可升降蓋板（1）與安裝在機體外殼（5）內的氣壓傳動裝置（17）相連，可升降蓋板（1）底部安裝有烘干裝置（2）和載片架（3）。本實用新型結構設計合理，操作方便，自動化程度高，清洗效率高，可以一次裝片，采用多種試劑進行清洗，然后烘干，可避免多槽清洗過程中轉移晶片所造成的污染。

技術領域

本發明涉及光電子晶片超精密加工技術領域，特別是涉及一種單槽晶片凈化清洗裝置和清洗方法。

背景技術

光電子材料，如藍寶石，碳化硅，氧化鎵等，普遍具有硬度高、熔點高、透光性好、電絕緣性優良、化學性能穩定等優點，廣泛應用于機械、光學、信息等高技術領域。

對于光電子材料的超精密加工過程中，切割、磨削、研磨、拋光等不同工序都會產生雜質沾污，如不清洗潔凈，對后續的加工會造成嚴重影響。

特別是針對拋光加工后，晶片表面的雜質沾污嚴重，需放入清洗機清洗，目前主要的清洗設備多采用多槽清洗法，步驟繁瑣，并且轉移藍寶石晶片時易發生再次污染。

發明內容

發明目的：本發明的目的是為了克服現有技術的不足，提供一種結構設計合理，使用方便，清洗效率高，自動化程度高，不需要多槽清洗，可在一個清洗槽內可清洗完成的單槽晶片凈化清洗裝置。本發明另一個目的是提供晶片清洗方法。

技術方案：為了實現以上目的，本發明所采用的主要技術方案為：

一種單槽晶片凈化清洗裝置，它包括：機體外殼，可升降蓋板，設置在機體外殼內的清洗槽，開設在清洗槽上的進液閥，與進液閥通過導液管相連的儲液罐，安裝在清洗槽下方的超聲波換能器，安裝在清洗槽側壁上的電加熱絲和液位傳感器；

可升降蓋板與安裝在機體外殼內的液壓升降裝置或氣壓傳動裝置相連，可升降蓋板底部安裝有烘干裝置和載片架；

清洗槽底部開設有第一排液口，第一排液口與廢液凈化箱相連，廢液凈化箱與第二排液口相連；

所述的電加熱絲、液位傳感器、氣壓傳動裝置、超聲波換能器和進液閥均與控制面板相連。

作為優選方案，以上所述的單槽晶片凈化清洗裝置，所述的清洗槽底板表面安裝有電機驅動的轉輪，轉輪與控制面板。

作為優選方案，以上所述的單槽晶片凈化清洗裝置，所述的氣壓傳動裝置包括依次相連的氣源、氣動執行元件和氣動控制閥與管子聯接件等。所述的氣源為空氣壓縮機；氣動執行元件為氣缸或氣動馬達，用來把壓縮氣體的壓力能轉化為機械能，氣動控制閥用來調節氣流方向，壓力和流量。管子聯接件在氣壓作用下使可升降蓋板上升和下降。

作為優選方案，以上所述的單槽晶片凈化清洗裝置，所述的儲液罐包括5 個儲液小槽，5個儲液小槽底部均分別通過導液管與5個進液閥分別相連。

作為優選方案，以上所述的單槽晶片凈化清洗裝置，所述的廢液凈化箱可采用北京亞歐德鵬科技有限公司生產的DP26017型號的化學實驗廢水處理裝置。

本發明提供的單槽晶片凈化清洗裝置實際應用時，包括以下步驟：

A、將待清洗的藍寶石晶片放在載片架上，完成裝片過程；

B、通過控制面板控制液壓升降裝置或氣壓傳動裝置使可升降蓋板下降至與機體外殼緊密蓋合；