[實用新型]單槽晶片凈化清洗裝置

有效

• 申請號: 201820755711.3
• 申請日: 2018-05-18
• 公開（公告）號: CN208513195U
• 公開（公告）日: 2019-02-19
• 發明（設計）人: 周海;韋嘉輝;宋放;徐曉明;徐彤彤
• 申請（專利權）人: 鹽城工學院
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/10;B08B3/12;B08B3/14;B08B13/00
• 代理公司: 南京經緯專利商標代理有限公司 32200
• 代理人: 楊海軍

1.一種單槽晶片凈化清洗裝置，其特征在于：它包括：機體外殼(5)，可升降蓋板(1)，設置在機體外殼(5)內的清洗槽(11)，開設在清洗槽(11)上的進液閥(14)，與進液閥(14)通過導液管(16)相連的儲液罐(12)，安裝在清洗槽(11)下方的超聲波換能器(8)，安裝在清洗槽(11)側壁上的電加熱絲(13)和液位傳感器(4)；

可升降蓋板(1)與安裝在機體外殼(5)內的液壓升降裝置或氣壓傳動裝置(17)相連，可升降蓋板(1)底部安裝有烘干裝置(2)和載片架(3)；

清洗槽(11)底部開設有第一排液口(7)；

所述的電加熱絲(13)、液位傳感器(4)、氣壓傳動裝置(17)、超聲波換能器(8)和進液閥(14)均與控制面板(6)相連。

2.根據權利要求1所述的單槽晶片凈化清洗裝置，其特征在于：所述的清洗槽(11)底板表面安裝有電機驅動的轉輪(15)，轉輪(15)與控制面板(6)相連。

3.根據權利要求1所述的單槽晶片凈化清洗裝置，其特征在于：所述的氣壓傳動裝置(17)包括依次相連的氣源、氣動執行元件、氣動控制閥和管子聯接件。

4.根據權利要求3所述的單槽晶片凈化清洗裝置，其特征在于：所述的氣源為空氣壓縮機，氣動執行元件為氣缸或氣動馬達。

5.根據權利要求1所述的單槽晶片凈化清洗裝置，其特征在于：第一排液口(7)與廢液凈化箱(9)相連，廢液凈化箱(9)與第二排液口(10)相連。

6.根據權利要求1至5任一項所述的單槽晶片凈化清洗裝置，其特征在于：所述的儲液罐(12)包括5個儲液小槽，5個儲液小槽底部均分別通過導液管(16)與5個進液閥(14)分別相連。