[實用新型]一種濕式制程設備液流物理洗凈裝置

有效

• 申請號: 201820719175.1
• 申請日: 2018-05-14
• 公開（公告）號: CN208427504U
• 公開（公告）日: 2019-01-25
• 發明（設計）人: 陳瀅如;簡健哲
• 申請（專利權）人: 安徽宏實自動化裝備有限公司
• 主分類號: B08B11/00
• 分類號: B08B11/00;B08B1/00;B08B1/02;B08B3/02;H01L21/67
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

一種濕式制程設備液流物理洗凈裝置，橫向安裝在濕式制程設備中，包括本體，本體包括特氟龍管，所述特氟龍管為一端封口，另一端設有連接孔的圓柱形腔體，其連接孔端與濕式制程機臺的藥液進液管聯通，且端部與濕式制程機臺的傳動裝置軸套連接，特氟龍管的圓柱外壁設有均勻排列的通孔，特氟龍管外壁設有包覆的刷毛。本實用新型所述的一種濕式制程設備液流物理洗凈裝置，設計為整合型模刷清洗機構，特氟龍管一端通入藥液，藥液經特氟龍管上的通孔流出，可一邊刷一邊通入藥液，藥液從刷毛間流出，洗刷過程中的沖力可以使得臟污難以粘附在毛刷上，保持毛刷的潔凈度，從而可保證對半導體晶圓刷洗過程中不帶入污染物，提高良品率的同時，延長模刷的使用壽命。

技術領域

本實用新型涉及濕式制程設備領域，尤其涉及一種濕式制程設備液流物理洗凈裝置。

背景技術

半導體制程是在超潔凈無塵室進行的，仍然有些污染源的存在，至于污染源的來源，不外乎設備本身材料產生、現場作業員或制程工程師人體自身與動作的影響、化學材料或制程藥劑殘留或不純度的發生，以及制程反應產生物的結果，尤其是制程反應產生物一項，更成為制程污染的主要來源，大多會造成良率和可靠度的下降；在半導體制程中，無論是在去光阻、化學氣相沉淀、氧化擴散、晶圓研磨以后等各階段制程都需要反復清洗步驟。

濕式制程機臺在半導體產業已是成熟發展，但有些機構設計，使用上有維修困難、耗液量大、均勻性不佳、漏液，背面臟污等等問題。其中，模刷機構最常被使用到，主要用來刷除基板上半導體晶圓表面殘留的污染物等，但刷毛使用一段時間后，其表面經常會粘附臟污，容易將臟污帶入到半導體晶圓上，影響產品的良率，另外，刷毛因容易粘附臟污，導致刷毛的使用壽命降低，需要經常更換，費時費力的同時，增加了設備成本降低了生產效率。

實用新型內容

本實用新型正是針對現有技術存在的不足，提供了一種濕式制程設備液流物理洗凈裝置。

為解決上述問題，本實用新型所采取的技術方案如下：

一種濕式制程設備液流物理洗凈裝置，橫向安裝在濕式制程設備中，包括本體，所述本體包括特氟龍管，所述特氟龍管為一端封口，另一端設有連接孔的圓柱形腔體，其連接孔端與濕式制程機臺的藥液進液管聯通，且端部與濕式制程機臺的傳動裝置軸套連接，特氟龍管的圓柱外壁設有均勻排列的通孔，特氟龍管外壁設有包覆的刷毛。

進一步的，所述濕式制程設備包括傳動輥和噴淋管，所述傳動輥為圓柱形，其上承載有基板，噴淋管位于載具上方，特氟龍管位于基板與噴淋管之間，且特氟龍管的刷毛與基板上表面緊貼。

進一步的，所述特氟龍管上通孔呈螺旋狀均勻排列。

進一步的，所述刷毛外表面整體為海綿體型的波點。

本實用新型與現有技術相比較，本實用新型的有益效果如下：

本實用新型所述的一種濕式制程設備液流物理洗凈裝置，設計為整合型模刷清洗機構，特氟龍管一端可通入藥液，藥液經特氟龍管上的通孔流出，可一邊刷一邊通入藥液，藥液從刷毛間流出，洗刷過程中的沖力可以使得臟污難以粘附在毛刷上，保持毛刷的潔凈度，從而可保證對半導體晶圓刷洗過程中不帶入污染物，提高良品率的同時，延長模刷的使用壽命。

附圖說明

圖1為本實用新型所述的一種濕式制程設備液流物理洗凈裝置結構示意圖。

具體實施方式

下面將結合具體的實施例來說明本實用新型的內容。