[實用新型]一種SiC結(jié)勢壘肖特基二極管有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820717286.9 | 申請日: | 2018-05-15 |
| 公開(公告)號: | CN208521941U | 公開(公告)日: | 2019-02-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 孫茂友;宋李梅;周麗哲 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇矽導(dǎo)集成科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/872 | 分類號: | H01L29/872 |
| 代理公司: | 南京蘇科專利代理有限責任公司 32102 | 代理人: | 陳棟智 |
| 地址: | 225000 江蘇省揚州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 結(jié)終端 襯底 結(jié)勢壘肖特基二極管 本實用新型 擴展結(jié)構(gòu) 陽極電極 外延層 漸變 摻雜 電力電子領(lǐng)域 肖特基二極管 二極管 肖特基結(jié) 陰極電極 終端擴展 介質(zhì)層 外邊緣 可用 敏感 | ||
本實用新型公開了二極管領(lǐng)域內(nèi)的一種SiC結(jié)勢壘肖特基二極管,包括N+?SiC襯底;形成于N+?SiC襯底背部的陰極電極;形成于N+?SiC襯底上的同型N??SiC外延層;形成于N??SiC外延層上的SiO2介質(zhì)層和陽極電極;形成于陽極電極下的P?結(jié)終端擴展結(jié)構(gòu);P?型結(jié)終端擴展位于肖特基結(jié)的外邊緣處,具有漸變的摻雜濃度。本實用新型中的SiC肖特基二極管采用濃度漸變的結(jié)終端擴展結(jié)構(gòu),解決了結(jié)終端擴展結(jié)構(gòu)對摻雜濃度和劑量過于敏感的問題,可用于電力電子領(lǐng)域。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種二極管,特別涉及一種肖特基二極管。
背景技術(shù)
電力電子技術(shù)是利用如晶閘管、GTO、IGBT等電力電子器件對電能進行變換和控制的一門電子技術(shù),在當今能源開發(fā)和利用中發(fā)揮著舉足輕重的作用。當前,傳統(tǒng)的硅基電力電子器件的性能指標水平基本上維持在109-1010W?Hz,已逼近了硅材料因寄生二極管制約而能達到的極限。為了突破目前的器件極限,一般選擇采用寬能帶間隙材料制作的半導(dǎo)體器件,如碳化硅(SiC)或氮化鎵(GaN)器件。
碳化硅材料具有優(yōu)良的物理和電學特性,以其寬的禁帶寬度、高的熱導(dǎo)率、大的飽和漂移速度和高的臨界擊穿電場等獨特優(yōu)點,成為制作大功率、高頻、耐高溫、抗輻射器件的理想半導(dǎo)體材料。碳化硅電力電子器件的擊穿電壓可達到硅器件的十倍,而導(dǎo)通電阻僅為硅器件的數(shù)十分之一,開關(guān)速度快,熱導(dǎo)率高,電能轉(zhuǎn)換損耗小,散熱系統(tǒng)簡單,最終使整個系統(tǒng)的體積和重量顯著降低。以SiC材料制備的電力電子器件已成為目前半導(dǎo)體領(lǐng)域的熱點器件和前沿研究領(lǐng)域之一,是電力電子技術(shù)最為重要的發(fā)展方向,在軍事和民用領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用前景。
利用SiC材料制備的肖特基二極管能提供理想的動態(tài)性能。SiC肖特基二極管屬于多數(shù)載流子器件,工作過程中沒有電荷儲存,因此反向恢復(fù)電流僅由耗盡層結(jié)電容造成,其反向恢復(fù)電流以及其反向恢復(fù)損耗比Si超快恢復(fù)二極管要低一到兩個數(shù)量級;進一步地,能夠大幅度減少和SiC肖特基二極管匹配的開關(guān)管的開通損耗,提高電路的開關(guān)頻率;進一步地,SiC肖特基二極管幾乎沒有正向恢復(fù)電壓,能夠立即導(dǎo)通,不存在雙極型器件的開通延時現(xiàn)象。在常溫下,SiC肖特基二極管的正向?qū)▔航岛蚐i超快恢復(fù)器件基本相同,但是由于SiC肖特基二極管的導(dǎo)通電阻具有正溫度系數(shù),這將有利于將多個SiC肖特基二極管并聯(lián)。在二極管單芯片面積和電流受限的情況下,這可以大幅度提高SiC肖特基二極管的容量,使它在較大容量中的應(yīng)用成為可能。SiC肖特基二極管可以廣泛應(yīng)用于電動汽車/混合動力車等需進行功率轉(zhuǎn)換的逆變器、轉(zhuǎn)換器、PFC電路,以及太陽能、風能等新能源中的整流、逆變等領(lǐng)域。
在電力電子系統(tǒng)中,電力電子器件的特性對系統(tǒng)性能的實現(xiàn)和改善起著至關(guān)重要的作用。由于器件的擊穿電壓在很大程度上取決于結(jié)曲率引起的邊緣強電場,因此為了緩解表面終止的結(jié)邊緣處的電場集中,提高器件的實際擊穿電壓,需要對器件進行結(jié)終端結(jié)構(gòu)的設(shè)計。結(jié)終端結(jié)構(gòu)主要包括場板(FP)、場限環(huán)(FLR)、結(jié)終端延伸(JTE)等。在平面結(jié)終端技術(shù)中,場板技術(shù)對耐壓的提升有限,不能達到耐壓要求;場限環(huán)技術(shù)能達到耐壓要求,但是其對環(huán)間距太過敏感,器件設(shè)計和工藝難度大;JTE的擊穿效率最高,在SiC電力電子器件結(jié)構(gòu)中具有非常廣泛的應(yīng)用。
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