[實(shí)用新型]一種用于衰減全內(nèi)反射色譜儀的上樣裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201820715288.4
• 申請(qǐng)日: 2018-05-14
• 公開（公告）號(hào): CN208420658U
• 公開（公告）日: 2019-01-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐懿挺;羅祖秀
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 成都康弘生物科技有限公司
• 主分類號(hào): G01N21/01
• 分類號(hào): G01N21/01
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實(shí)用新型公開了一種用于衰減全內(nèi)反射色譜儀的上樣裝置，含有柱狀中空構(gòu)件，利用樣品自身重力與底部向上壓力的順差，克服液體樣品由于自身浸潤特性引起的滲漏，使待測(cè)液體的底層形成凹型液膜有效接觸ATR晶體反射的凸型表面，提高浸潤液體樣品檢測(cè)效果的準(zhǔn)確性。本實(shí)用新型還通過增設(shè)環(huán)狀防漏部件、帶有加樣孔的頂蓋、蓋片以及手持構(gòu)件提高揮發(fā)性、非浸潤性液體樣品檢測(cè)的準(zhǔn)確性和儀器可操作性。本實(shí)用新型所公開的上樣裝置結(jié)構(gòu)簡單、操作簡便、成本低、可適性強(qiáng)，可廣泛適用于衰減全內(nèi)反射色譜儀的配套安裝和老舊衰減全內(nèi)反射色譜儀的改造。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型屬于光譜儀器領(lǐng)域，具體涉及一種用于衰減全內(nèi)反射光譜儀的的上樣裝置。

背景技術(shù)

紅外光譜分析可用于研究分子的結(jié)構(gòu)和化學(xué)鍵，也可以作為表征和鑒別化學(xué)物種的方法，還可以依照其特征吸收峰的強(qiáng)度來檢測(cè)混合物中各組分的含量，具有高靈敏度、試樣用量少、能分析各種狀態(tài)試樣等的特點(diǎn)。尤其是衰減全內(nèi)反射色譜儀，因其具有無需制樣，水干擾小的特點(diǎn)，極大地提高了紅外色譜儀的性能，目前已成為紅外光譜儀的主導(dǎo)產(chǎn)品，使許多采用透射紅外光譜技術(shù)無法制樣或樣品制作過程十分復(fù)雜、難度大的檢測(cè)分析成為可能。但衰減全內(nèi)反射色譜儀在進(jìn)行液體定量或定性分析過程中，仍存在以下缺點(diǎn)；

1、ATR附件清洗或拉制樣品薄膜難度較大，容易磨損晶體反射表面，破壞光路，造成信噪比差，影響儀器檢測(cè)效果。

2、待測(cè)樣品與ATR附件晶體反射表面容易接觸不緊密，無法對(duì)易揮發(fā)、低沸點(diǎn)以及不能在晶體的反射面上形成液層的高沸點(diǎn)液體進(jìn)行有效的定性或定量分析。

為了克服常規(guī)衰減全內(nèi)反射色譜儀上述缺點(diǎn)，提高其靈敏度和重復(fù)性，現(xiàn)有技術(shù)中CN205262955U專利公開了一種衰減全發(fā)射的紅外測(cè)試裝置，利用測(cè)試上夾具與下夾具所形成的上下可調(diào)節(jié)的樣品容納腔，通過上下夾具擠壓將樣品壓成厚度可控的待檢樣品，便于進(jìn)行定量分析。該技術(shù)方案雖然在一定程度解決了粉末樣品或液體樣品厚度不可控?zé)o法與ATR附件晶體反射表面有效接觸的技術(shù)難題，但其實(shí)施過程中仍存在以下幾個(gè)方面的缺點(diǎn)：

第一，無法對(duì)低沸點(diǎn)或不能在晶體的反射面上形成液層的高沸點(diǎn)液體進(jìn)行有效的定量分析。壓力觸頭與ATR附件晶體反射表面接觸面過小，不但會(huì)使在壓力觸頭與ATR附件晶體反射表面的樣品過少，在檢測(cè)過程中低沸點(diǎn)液體容易被瞬間氣化導(dǎo)致無法進(jìn)行定量分析；而且也容易使在壓力觸頭與ATR附件晶體反射表面之間的高沸點(diǎn)液體液膜向上凸起，無法ATR附件晶體反射表面形成完整的液膜，無法對(duì)其進(jìn)行有效的定量分析；

第二，在每次樣品上樣前均需事先組裝上下夾具，在定型加壓時(shí)仍須事先針對(duì)待檢樣品特性進(jìn)行調(diào)整和驗(yàn)證，其樣品裝樣和定性加壓比較復(fù)雜，難度大；

第三，上夾具與下夾具結(jié)構(gòu)復(fù)雜，清洗難度大，容易被樣品污染，影響樣品檢測(cè)的靈敏度和重現(xiàn)性。

現(xiàn)有技術(shù)中還沒有對(duì)于液體樣品測(cè)試的好的解決辦法。目前亟待設(shè)計(jì)出一種既能在測(cè)試過程中既要確保液體樣品能與ATR晶體反射表面緊密接觸，又能有效降低操作難度，使紅外檢測(cè)方法樣品裝樣、清洗更加簡化，靈敏度更高、重現(xiàn)性更好、耐受性更強(qiáng)。

實(shí)用新型內(nèi)容

為克服現(xiàn)有衰減全發(fā)射紅外色譜儀液體樣品接觸性差、裝樣困難、清洗難度高的技術(shù)難題，本實(shí)用新型提供了如下技術(shù)方案：

一種用于衰減全內(nèi)反射色譜儀的上樣裝置，其特征在于所述上樣裝置為柱狀的中空構(gòu)件(1)固定安放在衰減全內(nèi)反射色譜儀的ATR晶體支架板上，與ATR晶體支架板形成容納腔(2)，其底端內(nèi)切圓半徑應(yīng)大于ATR晶體反射表面的外切圓半徑，且小于或等于頂端內(nèi)切圓半徑。

進(jìn)一步所述中空構(gòu)件(1)底端設(shè)有環(huán)狀防漏部件(11)，其內(nèi)環(huán)直徑大于ATR晶體與ATR晶體支架板橫切面直徑，其底部與ATR晶體支架板緊密連接，阻止待測(cè)樣品往容納腔(2)外滲透。