[實用新型]一種用于衰減全內反射色譜儀的上樣裝置有效
| 申請號: | 201820715288.4 | 申請日: | 2018-05-14 |
| 公開(公告)號: | CN208420658U | 公開(公告)日: | 2019-01-22 |
| 發明(設計)人: | 唐懿挺;羅祖秀 | 申請(專利權)人: | 成都康弘生物科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/01 | 分類號: | G01N21/01 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 610036 *** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 全內反射 色譜儀 衰減 本實用新型 上樣裝置 液體樣品檢測 浸潤 柱狀中空構件 揮發性 底層形成 防漏部件 手持構件 凸型表面 向上壓力 液體樣品 有效接觸 頂蓋 非浸潤 加樣孔 凹型 蓋片 液膜 反射 滲漏 增設 配套 改造 | ||
1.一種用于衰減全內反射色譜儀的上樣裝置,其特征在于所述上樣裝置為柱狀的中空構件(1)固定安放在衰減全內反射色譜儀的ATR晶體支架板上,與ATR晶體支架板形成容納腔(2),其底端內切圓半徑應大于ATR晶體反射表面的外切圓半徑,且小于或等于頂端內切圓半徑。
2.根據權利要求1所述的上樣裝置,其特征在于,所述中空構件(1)底端設有環狀防漏部件(11),其內環直徑大于ATR晶體與ATR晶體支架板橫切面直徑,其底部與ATR晶體支架板緊密連接,阻止待測樣品往容納腔(2)外滲透。
3.根據權利要求2所述的上樣裝置,其特征在于,所述環狀防漏部件(11)底部設有紋路,并與ATR晶體支架板表面紋路相咬合。
4.根據權利要求2所述的上樣裝置,其特征在于,所述中空構件(1)頂端設有帶有加樣孔(13)的頂蓋(12),其加樣孔(13)直徑應大于ATR晶體與ATR晶體支架板橫切面直徑,且加樣孔(13)正對與ATR晶體反射表面頂端。
5.根據權利要求4所述的上樣裝置,其特征在于,所述頂蓋(12)與中空構件(1)為一體件。
6.根據權利要求4所述的上樣裝置,其特征在于,所述加樣孔(13)下面的中空構件(1)外壁設有手持部件(14),便于安放或移除上樣裝置。
7.根據權利要求6所述的上樣裝置,其特征在于,所述手持部件(14)選自夾板式、把式、柄式或提式部件。
8.根據權利要求4所述的上樣裝置,其特征在于,所述加樣孔(13)上設有蓋片(15)蓋住加樣孔(13)。
9.根據權利要求8所述的上樣裝置,其特征在于,所述蓋片(15)為封口膜制成。
10.根據根據權利要求1-9任意一項所述的上樣裝置,其特征在于,所述中空構件(1)由惰性材料制成。
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