[實用新型]掩膜板、顯示器件、顯示面板及顯示終端有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820707909.4 | 申請日: | 2018-05-14 |
| 公開(公告)號: | CN208266251U | 公開(公告)日: | 2018-12-21 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉明星;王徐亮;張玄;甘帥燕;高峰 | 申請(專利權)人: | 昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/24;H01L27/32 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 唐清凱 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 開口 掩膜板 蒸鍍 投影 顯示面板 顯示器件 顯示終端 玻璃面 蒸鍍面 本實用新型 玻璃 褶皺 傳輸通道 方向垂直 間距加寬 開口覆蓋 正投影 變寬 拉伸 傳輸 傳遞 貫穿 | ||
1.一種掩膜板,其特征在于,包括蒸鍍面和背向所述蒸鍍面的玻璃面,所述掩膜板上陣列分布有多個蒸鍍開口,所述蒸鍍開口貫穿所述蒸鍍面和所述玻璃面,且所述蒸鍍開口包括在所述蒸鍍面上的第一開口和在所述玻璃面上的第二開口,所述第一開口在所述玻璃面上的正投影為第一投影開口,所述第一投影開口覆蓋所述第二開口;
其中,在拉伸掩膜板的第一方向上所述第一投影開口與第二開口之間的間距為第一間距,在與所述第一方向垂直的第二方向上所述第一投影開口與所述第二開口之間的間距為第二間距,所述第二間距小于所述第一間距。
2.根據權利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述蒸鍍開口包括第一刻蝕孔和第二刻蝕孔,所述第一刻蝕孔具有所述第一開口,所述第二刻蝕孔具有所述第二開口;所述第一刻蝕孔在所述第一開口指向所述第二開口的方向上逐漸收攏,所述第二刻蝕孔在所述第二開口指向所述第一開口的方向上逐漸收攏至與所述第一刻蝕孔連通。
3.根據權利要求2所述的掩膜板,其特征在于,沿平行所述蒸鍍面的平面,所述第一刻蝕孔和所述第二刻蝕孔的橫截面均為矩形。
4.根據權利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述第一開口包括兩條第一邊和兩條第二邊,兩條所述第一邊沿所述第一方向相對間隔設置,兩條所述第二邊沿所述第二方向相對間隔設置且連接于兩條所述第一邊之間;所述第二開口包括兩條第三邊和兩條第四邊,兩條所述第三邊沿所述第一方向相對間隔設置,兩條所述第四邊沿所述第二方向相對間隔設置且連接于兩條所述第三邊之間;所述第一邊與所述第三邊之間在所述第一方向上的垂直間距為所述第一間距,所述第二邊與所述第四邊之間在所述第二方向的垂直間距為所述第二間距。
5.根據權利要求4所述的掩膜板,其特征在于,所述蒸鍍開口還包括連接于所述第一邊與所述第三邊之間的第一傾斜壁以及連接于所述第二邊與所述第四邊之間的第二傾斜壁,所述第一傾斜壁相對所述掩膜板厚度方向的傾斜角為第一傾斜角,所述第二傾斜壁相對所述掩膜板厚度方向的傾斜角為第二傾斜角,所述第一傾斜角大于所述第二傾斜角。
6.根據權利要求1所述的掩膜板,其特征在于,每個所述第二開口均包括與所述第一方向平行的中心線,多個所述第二開口分布為多排,其中奇數排的所述第二開口的所述中心線重合,偶數排的所述蒸鍍開口的所述中心線重合,且奇數排的所述蒸鍍開口的所述中心線與偶數排的所述蒸鍍開口的中心線,在所述第二方向上相互錯開。
7.一種掩膜板,其特征在于,包括蒸鍍面和背向所述蒸鍍面的玻璃面,所述掩膜板上陣列分布有多個蒸鍍開口,所述蒸鍍開口貫穿所述蒸鍍面和所述玻璃面,且所述蒸鍍開口包括在所述蒸鍍面上的第一開口和在所述玻璃面上的第二開口,所述第一開口在所述玻璃面上的正投影為第一投影開口,所述第一投影開口覆蓋所述第二開口;
其中,在拉伸掩膜板的第一方向上所述第一投影開口與第二開口之間的間距為第一間距,在與所述第一方向垂直的第二方向上所述第一投影開口與所述第二開口之間的間距為第二間距;
并且,多個所述蒸鍍開口分布為多排,其中偶數排的所述蒸鍍開口的第二間距小于所述第一間距,奇數排的所述蒸鍍開口的所述第二間距等于所述第一間距;或者偶數排的所述蒸鍍開口的第二間距等于所述第一間距,奇數排的所述蒸鍍開口的第二間距小于所述第一間距。
8.一種顯示器件,其特征在于,通過上述權利要求1-7任意一項所述的掩膜板蒸鍍制成。
9.一種顯示面板,其特征在于,包括基板、顯示器件及封裝層,所述顯示器件如權利要求8所述且設于所述基板上,所述封裝層封裝于所述顯示器件外。
10.一種顯示終端,其特征在于,包括如權利要求9所述的顯示面板。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





