[實用新型]一種電容耦合等離子體高分子表面處理裝置

有效

• 申請號: 201820703668.6
• 申請日: 2018-05-12
• 公開（公告）號: CN208497713U
• 公開（公告）日: 2019-02-15
• 發明（設計）人: 詹鐵錘;程光周;薛進;劉龍威
• 申請（專利權）人: 合肥杰碩真空科技有限公司
• 主分類號: B29C65/48
• 分類號: B29C65/48;C08J7/12
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種電容耦合等離子體高分子材料表面處理裝置，包括：等離子體表面處理真空室、前真空門、前觀察窗、后真空門、后觀察窗、上電容電極、下電容電極、進氣接口、氣體混合室、進氣管路、進氣室、進氣緩沖擋板、材料放置架。本實用新型的一種電容耦合等離子體高分子材料表面處理裝置，利用電容耦合等離子體穩定、均勻的優點，給高分子材料處理真空腔內提供穩定且均勻的等離子體處理環境；同時裝置通過設置一進氣混合裝置，可提高通入混合氣體時的氣體混合效果，并提高氣體進入真空室后分布的均勻性，保證處理效果的均勻性。

技術領域

本實用新型屬于一種等離子體表面處理裝置技術領域，具體涉及一種電容耦合等離子體高分子材料表面處理裝置。

背景技術

高分子材料粘接前的表面處理，目前常用的方法有化學濕法處理、光化學法處理、輻射法處理以及等離子體處理等。與其它方法相比，等離子體表面處理則具有更高的溫度和能量密度、易產生活性成分等優點。相比于目前工業中廣泛使用的化學濕法處理，等離子體表面處理具有節省能源、減少污染等顯著特點，對環境保護和實現可持續發展也有重要意義。

電容耦合等離子體能夠產生比較均勻且大面積的等離子體，并且工作氣壓較低（0.1- 10Pa）,能夠在短時間內獲得工作真空度，同時結構簡單、造價低，具有很好的工業應用優勢。考慮到實際生產中利用等離子體對高分子材料進行表面處理時，材料在傳送過程中同時需要等離子體活化和等離子體接枝的場合，并對產品處理效果也要求有一定的均勻性。為了保證處理效果的均勻性和處理技術的實用性，電極的設計和布置至關重要。同時，對于不同高分子材料，有時需要在多種氣體混合氣氛下進行，此時便需要向真空室內通入兩種或以上的氣體，而通過設置多個通氣管道直接向真空室內通氣，一方面在真空室壁上開口太多會影響真空裝置的致密性，另外多種氣體進入真空室后的混合效果以及進入真空室后氣體分布的均勻性也較難保證。

實用新型內容

為克服前述技術問題，本實用新型專利提供了一種電容耦合等離子體高分子材料表面處理裝置以及混合進氣裝置。

本實用新型的技術方案是一種電容耦合等離子體高分子材料表面處理裝置，包括：等離子體表面處理真空室、前真空門、前觀察窗、后真空門、后觀察窗、上電容電極、下電容電極、進氣接口、氣體混合室、進氣管路、進氣室、進氣緩沖擋板、材料放置架；所述等離子體表面處理真空室在前后側設置真空門，所述上電容電極和下電容電極均放置于真空室內；所述放置架位于上電容電極與下電容電極之間；所述進氣室位于真空室內，并設置于上電容電極上方；所述進氣室通過進氣管路與氣體混合室連接，所述混合室外設置進氣接口。

本實用新型進一步改進在于，所述真空室、進氣室、氣體混合室、進氣管路內均涂覆一層致密的四氟乙烯涂層。

本實用新型進一步改進在于，所述電容電極使用銅管并依照真空腔室結構設計，同時銅管內可通冷卻水。

本實用新型進一步改進在于，所述進氣室內相對于進氣管路的開口處設置一個圓形擋板作為進氣緩沖擋板。

本實用新型進一步改進在于，所述進氣室底部均勻分布有氣孔。

本實用新型進一步改進在于，所述進氣接口在所述混合室兩側相對布置，并可依據工藝要求在所述混合室外設置多個進氣接口。

本實用新型的有益效果：

本實用新型的一種電容耦合等離子體高分子材料表面處理裝置，利用電容耦合等離子體穩定、均勻的優點，給高分子材料處理真空腔內提供穩定且均勻的等離子體處理環境；同時裝置通過設置一進氣混合裝置，可提高通入混合氣體時的氣體混合效果，并提高氣體進入真空室后分布的均勻性，保證處理效果的均勻性。

附圖說明

圖1為本實用新型的一種電容耦合等離子體高分子材料表面處理裝置的結構示意圖；