[實用新型]藥液泄漏防止裝置有效
| 申請號: | 201820691323.3 | 申請日: | 2018-05-10 |
| 公開(公告)號: | CN208478292U | 公開(公告)日: | 2019-02-05 |
| 發明(設計)人: | 李載鴻;鄭基正;李在元;金炯剟;李俊弧 | 申請(專利權)人: | 凱斯科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京冠和權律師事務所 11399 | 代理人: | 朱健;張國香 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 藥液噴射 防止裝置 藥液泄漏 噴嘴 本實用新型 氣體供給部 藥液供給部 表面噴射 待機狀態 噴嘴泄漏 清洗工藝 基板 殘留 外部 預防 | ||
1.一種藥液泄漏防止裝置,其特征在于,包括:
藥液噴射噴嘴,其向基板的表面噴射藥液;
藥液供給部,其向所述藥液噴射噴嘴供給所述藥液;
噴管,其連接所述藥液噴射噴嘴和所述藥液供給部并成為藥液的供給流路;
氣體供給部,其與所述噴管相連接并供給氣體,氣體用于將殘留于所述藥液噴射噴嘴內部的所述藥液吹出來并排出至外部。
2.根據權利要求1所述的藥液泄漏防止裝置,其特征在于,還包括:
藥液供給閥,其用于控制流入所述噴管的所述藥液的供給;
第一管,其連接所述噴管和所述氣體供給部;
第一閥,其設置于所述第一管,對從所述氣體供給部流入所述噴管的所述氣體的流路進行開閉。
3.根據權利要求2所述的藥液泄漏防止裝置,其特征在于,還包括:
第二管,其從所述噴管的一側分支出來;
第二閥,其設置于所述噴管和所述第二管相連接的部分,對通過所述第二管向外部排出的所述藥液的流路進行開閉。
4.根據權利要求1至3中任意一項所述的藥液泄漏防止裝置,其特征在于,
所述氣體供給部供給的所述氣體是氮氣。
5.根據權利要求2或3所述的藥液泄漏防止裝置,其特征在于,
在所述第一管上設置有壓力計。
6.根據權利要求3所述的藥液泄漏防止裝置,其特征在于,還包括:
藥液感知部,其可對通過所述第二管降落的所述藥液進行感知。
7.根據權利要求6所述的藥液泄漏防止裝置,其特征在于,
所述藥液感知部包括區域傳感器,區域傳感器位于所述第二管下側,并且包括多個發光部和多個受光部。
8.根據權利要求6所述的藥液泄漏防止裝置,其特征在于,
所述藥液感知部是泄漏感知傳感器,泄漏感知傳感器位于所述第二管上,若液體接觸到兩個電極之間,則使得電流流動,從而泄漏感知傳感器感知所述藥液的降落。
9.根據權利要求6至8中任意一項所述的藥液泄漏防止裝置,其特征在于,所述藥液感知部包括:
警報裝置,若感知到通過所述第二管降落的所述藥液,則警報裝置響起警報。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





