[實用新型]半導體晶圓的清洗裝置有效
| 申請號： | 201820677321.9 | 申請日： | 2018-05-08 |
| 公開（公告）號： | CN208240615U | 公開（公告）日： | 2018-12-14 |
| 發明（設計）人： | 翁國權 | 申請（專利權）人： | 廣西桂芯半導體科技有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/02 | 分類號： | H01L21/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 530007 廣西壯族自治*** | 國省代碼： | 廣西;45 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 半導體晶圓 控制系統 清洗裝置 清洗室 清洗 觸控面板 傳動系統 烘干室 加酸 自動化清洗 清洗效果 有效解決 良品率 最大化 申請 應用 | ||
1.一種半導體晶圓的清洗裝置，其特征在于：包括清洗室、快排快沖室、烘干室、傳動系統、加酸箱、控制系統、觸控面板和片盒，傳動系統分別與片盒、控制系統、清洗室、快排快沖室和烘干室連接，加酸箱與清洗室連接，控制系統與觸控面板連接；
清洗室內設有加熱器、溫度傳感器、液位傳感器和酸水排放管道，加熱器置于清洗室底部，酸水排放管道設有酸水排放閥，加熱器、溫度傳感器、液位傳感器和酸水排放閥分別與控制系統連接；
快排快沖室內設有水箱、交叉噴淋管路和排水管，排水管上設有水排放閥，交叉噴淋管路的出水口設有霧化噴頭，霧化噴頭和水排放閥與控制系統連接；
烘干室內頂部設有風機，底部為出風口，風機與控制系統連接；
加酸箱出口設有流量閥，流量閥與控制系統連接。
2.根據權利要求1所述的半導體晶圓的清洗裝置，其特征在于：所述觸控面板為人機界面，是一種可接收觸頭輸入訊號的感應式液晶顯示裝置。
3.根據權利要求1所述的半導體晶圓的清洗裝置，其特征在于：所述控制系統為集成電路、PLC控制器或單片機。
4.根據權利要求1所述的半導體晶圓的清洗裝置，其特征在于：所述控制系統設有工作指示燈和故障指示燈。
5.根據權利要求1所述的半導體晶圓的清洗裝置，其特征在于：所述控制系統設有蜂鳴器。
6.根據權利要求1所述的半導體晶圓的清洗裝置，其特征在于：所述清洗室內表面為石英體。
7.根據權利要求1所述的半導體晶圓的清洗裝置，其特征在于：所述加熱器所有的加熱絲及其導線都是用PFA包裹。
8.根據權利要求1所述的半導體晶圓的清洗裝置，其特征在于：所述傳動系統包括變頻電機、減速器、導軌和齒輪齒條，變頻電機和減速器與控制系統連接。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
