[實用新型]一種新型的軌下吸振結構

有效

• 申請號: 201820659207.3
• 申請日: 2018-05-04
• 公開（公告）號: CN208517749U
• 公開（公告）日: 2019-02-19
• 發明（設計）人: 馮青松;張運來;辛偉
• 申請（專利權）人: 華東交通大學
• 主分類號: E01B19/00
• 分類號: E01B19/00
• 代理公司: 北京中政聯科專利代理事務所(普通合伙) 11489
• 代理人: 陳超

1.一種新型的軌下吸振結構，其特征在于：主要包括依次連接的上部受壓部、下部支持部和中間的調高部；所述上部受壓部為一在上表面圓心開有凹槽的圓柱體，下表面有與凹槽部分相同尺寸的突起，其中上部受壓部表面應盡可能平整光滑，以保證與軌道的完好接觸；所述下部支持部為一在上表面圓心開有凹槽的圓柱體，與上部受壓部突起部分尺寸相同，下表面平整；所述中間調高部為一環形結構，內徑和上部受壓部凹槽尺寸相同。

2.根據權利要求1所述新型的軌下吸振結構，其特征在于：所述上部受壓部、下部支持部和中間的調高部通過螺栓連接。

3.根據權利要求1所述的新型的軌下吸振結構，其特征在于：所述上部受壓部、下部支持部和中間調高部均為彈性材料制成。

4.根據權利要求3所述的新型的軌下吸振結構，其特征在于：所述彈性材料為θ凝膠。

5.根據權利要求1所述的新型的軌下吸振結構，其特征在于：所述環形結構為環形姐妹結構，具體為相同的兩半環結構，在兩半環結構接觸部分為緊密扣壓在一起的齒槽結構。

6.根據權利要求5所述的新型的軌下吸振結構，其特征在于：在下部支撐部的上表面形成一個環形凹槽或凸起，用于與中間調高部下表面上形成的環形凸起或凹槽配合，在中間調高部的上表面形成環形凹槽或凸起，用于與其上面的中間調高部的下表面形成的環形凸起或凹槽配合，在上部受壓部下表面形成環形凸起，用于與其相鄰的中間調高部上表面的環形凹槽或凸起配合。