[實用新型]載臺表面清潔裝置

有效

• 申請號: 201820608414.6
• 申請日: 2018-04-26
• 公開（公告）號: CN208514315U
• 公開（公告）日: 2019-02-19
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 長鑫存儲技術有限公司
• 主分類號: B24B37/34
• 分類號: B24B37/34
• 代理公司: 上海市錦天城律師事務所 31273
• 代理人: 何金花

1.一種載臺表面清潔裝置，用于光刻膠曝光制程的前段整修，包括：

晶圓載臺，具有一承載面，用于承載待處理的晶圓；

設置于所述晶圓載臺上方的化學機械研磨頭，所述化學機械研磨頭具有一朝下的研磨面與所述晶圓載臺的承載面相對，用于移除所述承載面上的污染物，并且所述研磨面的面積小于所述晶圓載臺的所述承載面的面積；

研磨頭移動件，位于所述晶圓載臺的上方并連接所述化學機械研磨頭，所述研磨頭移動件的連接端包括旋轉盤，用于帶動所述化學機械研磨頭進行旋轉；

其特征在于，所述化學機械研磨頭具有化學清潔劑噴出管道和化學清潔劑回收管道，所述化學清潔劑噴出管道的導出口位于所述研磨面的中央，所述化學清潔劑回收管道的吸入口位于所述研磨面的周邊，所述化學清潔劑噴出管道和所述化學清潔劑回收管道貫穿所述化學機械研磨頭。

2.根據權利要求1所述的載臺表面清潔裝置，其特征在于，所述研磨頭移動件還包括機械手臂。

3.根據權利要求1所述的載臺表面清潔裝置，其特征在于，所述化學機械研磨頭還包括環形排出溝，所述環形排出溝設置于所述研磨面的周邊，所述環形排出溝與所述化學清潔劑回收管道連通。

4.根據權利要求3所述的載臺表面清潔裝置，其特征在于，所述環形排出溝距離所述化學機械研磨頭具有一間隙且不相連通。

5.根據權利要求3所述的載臺表面清潔裝置，其特征在于，所述環形排出溝的內徑介于47毫米～49毫米，所述環形排出溝的外徑介于50毫米～59毫米。

6.根據權利要求1所述的載臺表面清潔裝置，其特征在于，所述化學機械研磨頭的成份包括大理石，所述化學機械研磨頭為圓柱狀，所述化學機械研磨頭橫截面的直徑介于60毫米～65毫米。

7.根據權利要求1所述的載臺表面清潔裝置，其特征在于，還包括設置于所述化學機械研磨頭上方的化學清潔劑提供裝置和干燥空氣供給裝置，所述化學清潔劑提供裝置和所述干燥空氣供給裝置分別與所述化學清潔劑噴出管道相連通。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的載臺表面清潔裝置，其特征在于，所述化學清潔劑噴出管道的下端部設有喇叭狀混合噴嘴。

9.根據權利要求8所述的載臺表面清潔裝置，其特征在于，所述化學機械研磨頭還包括環形排出溝，所述環形排出溝設置于所述研磨面的周邊，所述環形排出溝與所述化學清潔劑回收管道連通，所述喇叭狀混合噴嘴的高度大于所述環形排出溝的深度。

10.根據權利要求8所述的載臺表面清潔裝置，其特征在于，所述喇叭狀混合噴嘴上端口的內徑介于5毫米～6毫米，所述喇叭狀混合噴嘴下端口的內徑介于10毫米～12毫米。

11.一種應用權利要求1至7任一項所述載臺表面清潔裝置的晶圓表面整平裝置，用于整修晶圓上的局部突起，包括：

用于設置于待整平晶圓上方的化學機械研磨頭，所述化學機械研磨頭具有一朝下的研磨面與所述待整平晶圓相對，用于整平所述待整平晶圓上的突起物，并且所述研磨面的面積小于所述待整平晶圓的面積；

研磨頭移動件，位于所述待整平晶圓的上方并連接所述化學機械研磨頭，所述研磨頭移動件的連接端包括旋轉盤，用于帶動所述化學機械研磨頭進行旋轉；

其特征在于，所述化學機械研磨頭具有化學清潔劑噴出管道和化學清潔劑回收管道，所述化學清潔劑噴出管道的導出口位于所述研磨面的中央，所述化學清潔劑回收管道的吸入口位于所述研磨面的周邊，所述化學清潔劑噴出管道和所述化學清潔劑回收管道貫穿所述化學機械研磨頭。