[實用新型]掩膜條及掩膜板

有效

• 申請號: 201820591199.3
• 申請日: 2018-04-24
• 公開（公告）號: CN208266250U
• 公開（公告）日: 2018-12-21
• 發明（設計）人: 劉明星;王徐亮;甘帥燕;高峰
• 申請（專利權）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 唐清凱

本實用新型涉及一種掩膜條及掩膜板，該掩膜條包括本體，所述本體上設置有蒸鍍區及兩組過渡區，兩組過渡區分別沿本體延伸方向相對設置，蒸鍍區位于兩組過渡區之間，每組過渡區內均設置有多個刻蝕圖形，且每組過渡區內的刻蝕圖形關于第一中心線軸對稱分布，兩組過渡區內的刻蝕圖形關于與第一中心線垂直的第二中心線對稱分布，且每個刻蝕圖形均包括應力分散部，應力分散部具有向遠離第二中心線方向凸伸的弧形邊。上述掩膜條中，通過多個應力分散部分解本體被拉伸時產生的內力。應力分散部的弧形邊向遠離第二中心線的方向凸出，而掩膜條為了抵抗變形產生的內力指向第二中心線，并在弧形邊處被分散減弱，減弱拉伸掩膜條時產生褶皺的現象。

技術領域

本實用新型涉及顯示器制備技術領域，特別是涉及掩膜條及掩膜板。

背景技術

目前的顯示類型主要包括液晶顯示(Liquid Crystal Display,LCD)、有機發光二極管顯示(Organic Light—Emitting Diode,OLED)、等離子顯示(Plasma Display Panel,PDP)和電子墨水顯示等多種。其中，OLED顯示器以其輕薄、主動發光、快響應速度、廣視角、色彩豐富及高亮度、低功耗、耐高低溫等眾多優點而被業界公認為是繼LCD顯示器之后的第三代顯示技術，可以廣泛用于智能手機、平板電腦、電視等終端產品。

精細金屬掩膜(FMM Mask)模式，是通過蒸鍍方式將有機發光材料按照預定程序蒸鍍到低溫多晶硅背板上，利用精細掩模板上的圖形，蒸鍍紅綠藍有機物到規定位置上。目前的精細掩模板結構通常包括多個平行排列的掩模條以及支撐框架，將每一掩膜條張緊固定于支撐框架上，并且每一掩模條上設置有蒸鍍區，蒸鍍區內開設有多個用于蒸鍍像素材料的像素開口。

在實際生產中，發明人發現，采用現有技術中的精細掩膜板，蒸鍍的有機材料與背板上設計的像素位置出現偏差，影響產品的性能。

實用新型內容

基于此，本實用新型提供了一種掩膜條，解決了蒸鍍的有機材料與背板上設計的像素位置出現偏出的問題，提高了產品性能。

為實現以上目的，本實用新型提供了一種掩膜條。

一種掩膜條，包括：

本體，所述本體具有第一中心線和第二中心線，所述第一中心線和所述第二中心線均為所述本體的中線，且所述第一中心線與所述本體的延伸方向平行，所述第二中心線與所述第一中心線垂直；

設置于所述本體上的蒸鍍區及兩組過渡區，兩組所述過渡區分別沿所述本體延伸方向相對設置，所述蒸鍍區位于兩組所述過渡區之間；

其中，每組所述過渡區內均設置有多個刻蝕圖形，且每組所述過渡區內的所述刻蝕圖形關于第一中心線軸對稱分布，兩組所述過渡區內的所述刻蝕圖形關于所述第二中心線對稱分布；所述刻蝕圖形包括應力分散部，所述應力分散部具有向遠離所述第二中心線方向凸起的弧形邊。

上述掩膜條中每組過渡區內的刻蝕圖形關于第一中心線軸對稱分布，并且兩組過渡區內的刻蝕圖形關于與第一中心線垂直的第二中心線軸對稱分布，保證過渡區在整個本體的對稱性，避免因為過渡區的不對稱而使掩膜條受力不均而褶皺。

并且，每個過渡區內設置有多個刻蝕圖形，每個刻蝕圖形包括應力分散部且位于拉伸方向上，通過多個應力分散部分解本體被拉伸時產生的內力，進而可以減小掩膜條張緊時因為拉伸方向受力較大而在拉伸線周圍產生褶皺的現象。

當掩膜條受到由第二中心線指向端部的拉力時，掩膜條為了抵抗變形產生會在拉伸方向上產生較大的應力，該應力傳遞至弧形邊處被分散減弱，進而使拉伸方向的應力與其他區域應力之間的差距減小，使掩膜條整體的應力較為均勻，進而減弱張緊掩膜條時產生褶皺的現象，避免蒸鍍區內的像素開口伸展程度不同而使像素位置異位，防止蒸鍍的有機材料與背板上設計的像素位置出現偏差，提高產品性能。