[實用新型]掩膜條及掩膜板

有效

• 申請號: 201820591199.3
• 申請日: 2018-04-24
• 公開（公告）號: CN208266250U
• 公開（公告）日: 2018-12-21
• 發明（設計）人: 劉明星;王徐亮;甘帥燕;高峰
• 申請（專利權）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 唐清凱

1.一種掩膜條，其特征在于，包括：

本體，所述本體具有第一中心線和第二中心線，所述第一中心線和所述第二中心線均為所述本體的中線，且所述第一中心線與所述本體的延伸方向平行，所述第二中心線與所述第一中心線垂直；

設置于所述本體上的蒸鍍區及兩組過渡區，兩組所述過渡區分別沿所述本體的延伸方向相對設置，所述蒸鍍區位于兩組所述過渡區之間；

其中，每組所述過渡區內均設置有多個刻蝕圖形，且每組所述過渡區內的所述刻蝕圖形關于第一中心線軸對稱分布，兩組所述過渡區內的所述刻蝕圖形關于所述第二中心線對稱分布；所述刻蝕圖形包括應力分散部，所述應力分散部具有向遠離所述第二中心線方向凸起的弧形邊。

2.根據權利要求1所述的掩膜條，其特征在于，所述本體延伸方向的兩端分別包括第一拉伸作用點和第二拉伸作用點，所述第一拉伸作用點和所述第二拉伸作用點關于所述第二中心線對稱分布，且所述第一拉伸作用點和所述第二拉伸作用點之間形成拉伸作用帶，每組所述過渡區內的至少一個所述刻蝕圖形分布于所述拉伸作用帶上。

3.根據權利要求1所述的掩膜條，其特征在于，所述刻蝕圖形還包括應力整合部，所述應力整合部和所述應力分散部沿所述本體的延伸方向順序設置，且所述應力整合部位于所述應力分散部靠近所述第二中心線的一側。

4.根據權利要求3所述的掩膜條，其特征在于，所述應力整合部與所述應力分散部連通，或者所述應力整合部與所述應力分散部之間設有間隔。

5.根據權利要求3所述的掩膜條，其特征在于，所述應力分散部軸對稱圖形，且所述應力分散部的對稱軸與所述第一中心線平行；所述應力整合部為軸對稱圖形，所述應力整合部的對稱軸與所述應力分散部的對稱軸重合。

6.根據權利要求3-5任意一項所述的掩膜條，其特征在于，所述應力分散部為圓弧形刻蝕區，所述應力整合部為矩形刻蝕區；或者，所述應力分散部為波浪形刻蝕區，所述應力整合部為矩形刻蝕區。

7.根據權利要求6所述的掩膜條，其特征在于，所述應力分散部在所述第二中心線方向上的最大寬度，大于所述應力整合部在所述第二中心線方向上的最大寬度。

8.根據權利7所述的掩膜條，其特征在于，所述應力分散部的刻蝕深度等于或小于所述本體的厚度，所述應力整合部的刻蝕深度等于所述本體的厚度。

9.根據權利要求5所述的掩膜條，其特征在于，所述過渡區內的所述刻蝕圖形設置為多排，其中奇數排的所述刻蝕圖形的對稱軸重合，偶數排的所述刻蝕圖形的對稱軸重合，且奇數排的所述刻蝕圖形的對稱軸與所述偶數排的所述刻蝕圖形的對稱軸，在所述第二中心線的方向上相互錯開。

10.一種掩膜板，其特征在于，包括支撐框架及上述權利要求1-9任意一項所述的掩膜條，所述掩膜條拉伸張緊于所述支撐框架上。