[實用新型]一種烹飪器具有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820558500.0 | 申請日： | 2018-04-19 |
| 公開（公告）號： | CN208909690U | 公開（公告）日： | 2019-05-31 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 朱澤春;崔衛(wèi)民;謝偉峰;賴七生 | 申請（專利權(quán)）人： | 九陽股份有限公司 |
| 主分類號： | A47J27/00 | 分類號： | A47J27/00;A47J36/24;A47J36/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 250117 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 繞線區(qū) 內(nèi)膽 盤架 電磁線盤 煲體 烹飪器具 波峰 煲蓋 本實用新型 加熱內(nèi)膽 加熱效果 交變磁場 線圈繞制 波頂 波谷 側(cè)壁 底壁 蓋合 上凸 下凹 加熱 跨度 體內(nèi) | ||
1.一種烹飪器具，包括煲體、內(nèi)膽和煲蓋，煲蓋蓋合煲體，內(nèi)膽放置在煲體內(nèi)，煲體下部設(shè)有加熱內(nèi)膽的電磁線盤，所述電磁線盤包括盤架和產(chǎn)生交變磁場的線圈，線圈繞制在盤架上形成繞線區(qū)，其特征在于，所述電磁線盤包括位于盤架底壁的第一繞線區(qū)以及位于盤架側(cè)壁的第二繞線區(qū)，第二繞線區(qū)包括多個上凸的波峰繞線區(qū)和多個下凹的波谷繞線區(qū)，波峰繞線區(qū)的任一波頂?shù)絻?nèi)膽底面的高度與內(nèi)膽高度的比值為1:6至1:3。
2.如權(quán)利要求1所述的一種烹飪器具，其特征在于，所述波谷繞線區(qū)的谷底呈直線狀或弧線狀；和/或所述波峰繞線區(qū)的波頂呈直線狀或弧線。
3.如權(quán)利要求1所述的一種烹飪器具，其特征在于，所述內(nèi)膽包括膽底、膽側(cè)壁和連接膽底與膽側(cè)壁的膽連接壁，所述波峰繞線區(qū)和波谷繞線區(qū)交替設(shè)置，波峰繞線區(qū)和波谷繞線區(qū)對接的位置為過渡區(qū)，過渡區(qū)處于或高于膽連接壁與膽側(cè)壁的連接線。
4.如權(quán)利要求1所述的一種烹飪器具，其特征在于，所述內(nèi)膽包括膽底、膽側(cè)壁和連接膽底與膽側(cè)壁的膽連接壁，第二繞線區(qū)還包括圓環(huán)狀的子繞線區(qū)，波峰繞線區(qū)和波谷繞線區(qū)設(shè)置在子繞線區(qū)上部，子繞線區(qū)至少為2圈且與膽連接壁對應(yīng)。
5.如權(quán)利要求1所述的一種烹飪器具，其特征在于，所述波峰繞線區(qū)和波谷繞線區(qū)數(shù)量相同，均為2-5個。
6.如權(quán)利要求1所述的一種烹飪器具，其特征在于，所述波峰繞線區(qū)的線圈繞線密度與波谷繞線區(qū)的線圈繞線密度相同。
7.如權(quán)利要求1所述的一種烹飪器具，其特征在于，所述波峰繞線區(qū)的面積小于或等于波谷繞線區(qū)的面積。
8.如權(quán)利要求1所述的一種烹飪器具，其特征在于，所述波峰繞線區(qū)的線圈繞線密度小于波谷繞線區(qū)線圈繞線密度。
9.如權(quán)利要求1所述的一種烹飪器具，其特征在于，所述波峰繞線區(qū)從上至下的線圈繞線密度逐漸增加。
10.如權(quán)利要求1至9任意一項所述的一種烹飪器具，其特征在于，所述盤架的外側(cè)面設(shè)有繞線槽，線圈繞制在繞線槽內(nèi)形成繞線區(qū)。
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