[實(shí)用新型]篩板式氣液分流裝置及應(yīng)用其裝置的單塔雙循環(huán)脫硫系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201820554079.6
• 申請(qǐng)日: 2018-04-18
• 公開（公告）號(hào): CN208320457U
• 公開（公告）日: 2019-01-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孫晶;程旺斌;李小宇;柳楊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 哈爾濱鍋爐廠環(huán)保工程技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): B01D53/80
• 分類號(hào): B01D53/80;B01D53/50;B01D47/06;B01D47/00
• 代理公司: 哈爾濱市偉晨專利代理事務(wù)所(普通合伙) 23209
• 代理人: 李曉敏

本實(shí)用新型涉及篩板式氣液分流裝置及應(yīng)用其裝置的單塔雙循環(huán)脫硫系統(tǒng)，篩板式氣液分流裝置，包括：筒形塔體，在筒形塔體內(nèi)由上至下依次設(shè)置有導(dǎo)流錐、均流器和集液盤，導(dǎo)流錐為倒置的空心錐臺(tái)型，導(dǎo)流錐上端的外邊緣水平固定在筒形塔體內(nèi)壁上，導(dǎo)流錐的下端邊緣與均流器連接，均流器下方設(shè)有集液盤，集液盤通過(guò)升降機(jī)構(gòu)與導(dǎo)流錐連接，集液盤為倒置的空心圓錐型，且集液盤的最大水平截面面積小于均流器的水平截面面積，在均流器上設(shè)有若干均勻的通孔，集液盤通過(guò)塔內(nèi)漿液回收管路與筒形塔體外部連通。應(yīng)用了該裝置的單塔雙循環(huán)脫硫系統(tǒng)除塵和脫硫的功效明顯，具有占用空間小、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、阻力損失小等優(yōu)點(diǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域：

本實(shí)用新型屬于煙氣脫硫技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及篩板式氣液分流裝置及應(yīng)用其裝置的單塔雙循環(huán)脫硫系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

傳統(tǒng)的石灰石-石膏濕法脫硫系統(tǒng)，為了提高脫硫效率，會(huì)在脫硫吸收塔系統(tǒng)中設(shè)置多層噴淋層，特別是對(duì)于中高硫煤，噴淋層數(shù)會(huì)更多，因此吸收塔一般較高、漿液池也較大，導(dǎo)致循環(huán)泵的電耗較高，此時(shí)循環(huán)的漿液基本控制在一個(gè)PH值段，受化學(xué)反應(yīng)和石膏結(jié)晶成長(zhǎng)等方面的限制，脫硫效率比較難于達(dá)到超低排放的要求，屬于單循環(huán)技術(shù)領(lǐng)域。為了進(jìn)一步提高脫硫效率，研發(fā)了石灰石-石膏濕法脫硫單塔雙循環(huán)工藝，通過(guò)在吸收塔內(nèi)設(shè)置集液裝置將煙氣的脫硫分隔為兩個(gè)區(qū)，形成分隔開的上循環(huán)和下循環(huán)回路，上循環(huán)回路漿液PH值較高，有利于SO₂高效吸收，而下循環(huán)回路漿液PH值維持較低，有利于石膏氧化結(jié)晶和石灰石溶解。為了獲得最佳的氣液接觸效果和較小的系統(tǒng)阻力損失成為重中之重，已有的集液裝置形式有的為錐斗形式；有的將集液裝置設(shè)置成斜板形式，使?jié){液流向一側(cè)；有的設(shè)計(jì)為葉柵式集液裝置，即在集液斗的上面設(shè)有葉柵結(jié)構(gòu)，能夠在一定程度上起到均勻氣液流場(chǎng)的作用等。然而，這些集液裝置需要占據(jù)較大的塔截面或煙氣要突破一定厚度的液層，因而在煙氣流經(jīng)集液裝置由下循環(huán)進(jìn)入上循環(huán)的過(guò)程中，往往會(huì)造成較大的阻力，或上循環(huán)回路中煙氣流速也會(huì)變的不均勻，使得塔內(nèi)氣液接觸不充分，傳質(zhì)能力下降，最終影響脫硫效率，使脫硫系統(tǒng)的運(yùn)行成本較高。

實(shí)用新型內(nèi)容：

本實(shí)用新型為克服上述缺陷，提供了一種篩板式氣液分流裝置及應(yīng)用其裝置的單塔雙循環(huán)脫硫系統(tǒng)，其投資成本低，減少了檢修維護(hù)工作，均布了煙氣流場(chǎng)，保證了最終的脫硫效果。

本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案在于：一種篩板式氣液分流裝置，包括：筒形塔體，在筒形塔體內(nèi)由上至下依次設(shè)置有導(dǎo)流錐、均流器和集液盤，所述導(dǎo)流錐為倒置的空心錐臺(tái)型，導(dǎo)流錐上端的外邊緣水平固定在筒形塔體內(nèi)壁上，導(dǎo)流錐的下端邊緣與均流器連接，均流器下方設(shè)有集液盤，集液盤通過(guò)升降機(jī)構(gòu)與導(dǎo)流錐連接，所述集液盤為倒置的空心圓錐型，且集液盤的最大水平截面面積小于均流器的水平截面面積，在均流器上設(shè)有均勻的通孔，集液盤側(cè)壁設(shè)有與筒形塔體外部連通的塔內(nèi)漿液回收管路。

優(yōu)選地，所述升降機(jī)構(gòu)為微型液壓推桿器，所述微型液壓推桿器的底座固定在導(dǎo)流錐的外側(cè)壁上，微型液壓推桿器的伸出端與集液盤連接。

優(yōu)選地，所述集液盤的最大水平截面面積為筒形塔體水平截面面積的50％-70％。

優(yōu)選地，集液盤的底角與水平方向夾角為α，所述α為12°-18°。

優(yōu)選地，均流器與集液盤之間的間距為0.5m-3m。

優(yōu)選地，所述均流器上的通孔開孔率為30％-60％,單個(gè)通孔的孔徑為25mm-35mm，且每個(gè)通孔間的孔隙不小于40mm。

優(yōu)選地，均流器為合金材質(zhì)，其厚度為2mm-4mm。