[實用新型]基板處理裝置

有效

• 申請號: 201820548460.1
• 申請日: 2018-04-18
• 公開（公告）號: CN208478288U
• 公開（公告）日: 2019-02-05
• 發明（設計）人: 李載鴻
• 申請（專利權）人: 凱斯科技股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京冠和權律師事務所 11399
• 代理人: 朱健;張國香

1.一種基板處理裝置，其包括：

清洗液噴射部，其向基板噴射清洗液；

光照射部，其將光照射在噴射有所述清洗液的基板的表面。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，還包括：

流體噴射部，其連接于流體供給部，將流體噴射到所述基板上。

3.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述光照射部設置于夾具上，夾具用于調節所述光照射部的位置。

4.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述光照射部以可以調節所述光的照射角度的形式設置于固定裝置。

5.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述流體噴射部設置于夾具上，夾具用于調節所述流體噴射部的位置。

6.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述流體噴射部設置為可以調節所述流體的噴射的角度。

7.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，包括：

噴嘴，其在內部從所述基板的半徑方向外側開始依次配置有所述清洗液噴射部、所述光照射部、所述流體噴射部，

所述噴嘴從所述基板的中心開始沿半徑方向移動，并且使得所述清洗液、所述光、所述流體依次到達所述基板上。

8.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，還包括：

真空裝置，其用于吸入所述清洗液蒸發而生成的蒸汽。

9.根據權利要求1至8中任意一項所述的基板處理裝置，其特征在于，還包括：

腔室，其收容基板，并執行基板干燥工藝；

旋轉夾頭，其以能夠旋轉的形式設置于所述腔室內，并支撐所述基板；

驅動軸，其使得所述旋轉夾頭旋轉。

10.根據權利要求1至8中任意一項所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述清洗液是IPA。

11.根據權利要求1至8中任意一項所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述光是激光束。

12.根據權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述流體是N2。