[實用新型]一種低輻射鍍膜玻璃

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201820542044.0
• 申請日: 2018-04-16
• 公開（公告）號: CN208308693U
• 公開（公告）日: 2019-01-01
• 發(fā)明（設計）人: 黃成龍;張開欣;徐伯永;鄧云軍;李建根
• 申請（專利權(quán)）人: 四川南玻節(jié)能玻璃有限公司
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36
• 代理公司: 四川力久律師事務所 51221
• 代理人: 陳明龍;韓洋

本實用新型公開了一種低輻射鍍膜玻璃，屬于環(huán)保節(jié)能建筑材料領域，該低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基片，在玻璃基片表面依次鍍覆有：第一氧化鈦膜層、第二氧化鋅膜層、第三銀膜層、第四鎳鉻合金膜層、第五氧化鋅膜層和第六氮化硅膜層。上述低輻射鍍膜玻璃通過對玻璃基片上鍍制的膜層材料和膜層厚度設置，可實現(xiàn)高透率同時，使室外反射色、室內(nèi)反射色、透過色均呈現(xiàn)出高透無色狀態(tài)，有效克服現(xiàn)有低輻射鍍膜玻璃無法同時滿足高透率和各方反射色無色的技術(shù)難題，對拓寬低輻射節(jié)能鍍膜玻璃在日照不足或采光要求高地區(qū)的廣泛應用具有顯著促進意義。

技術(shù)領域

本實用新型屬于環(huán)保節(jié)能建筑材料領域，特別涉及一種低輻射鍍膜玻璃，該低輻射玻璃具有高透純凈的特點，外觀質(zhì)感更佳。

背景技術(shù)

隨著社會的發(fā)展，人們對大自然的開發(fā)，能源的消耗越來越大。能源的短缺，環(huán)境的破壞已讓人們意識到節(jié)能減排的重要意義，綠色建筑便是如今構(gòu)建節(jié)能減排型社會的重要理念和方式之一。為了推進建筑節(jié)能，具有低輻射性能，能將太陽能熱輻射過濾成冷光源的低輻射(Low Emissivity簡稱Low-E)節(jié)能玻璃，儼然成為了節(jié)能建筑的重要應用材料。

目前，低輻射鍍膜玻璃種類較多，外觀顏色多元化。現(xiàn)有關于中性色外觀的低輻射鍍膜玻璃主要是體現(xiàn)在透過色上，專利CN20140607113.8報道了一種中性透過色的單銀Low-E玻璃，對于其余二維度的顏色沒有作說明；專利CN201210430335.8、CN20140607063.3介紹了中性色的雙銀低輻射鍍膜玻璃，主要體現(xiàn)在透過色呈現(xiàn)中性灰的特點；三銀鍍膜玻璃由于膜層的層數(shù)較多，在保證了室外反射色呈中性的情況下，產(chǎn)品的可見光透過率難以得到較大的提高，而且絕大多數(shù)的三銀產(chǎn)品均呈現(xiàn)出透過色呈黃色的弊病。

總體而言，現(xiàn)有的中性色低輻射節(jié)能玻璃由于受膜層結(jié)構(gòu)及厚度匹配限制，在保證透過色的情況下，室內(nèi)反射色則會呈現(xiàn)出紫紅或藍綠色；在保證室外反射色為中性色時，透過色表現(xiàn)出黃綠色，難以達到使室外反射色、室內(nèi)反射色、透過色均呈現(xiàn)無色，且透過率接近浮法原片的特性，無法將室外環(huán)境真實地呈現(xiàn)給室內(nèi)用戶。在一些日照不充足或者采光要求高的地方，應用市場非常受限。

實用新型內(nèi)容

本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有所存在的上述不足，提供一種高透純凈低輻射鍍膜玻璃，通過對該鍍膜玻璃膜層材質(zhì)及結(jié)構(gòu)的特定優(yōu)化選擇，使該特定膜層結(jié)構(gòu)的鍍膜玻璃，不僅傳熱系數(shù)低、遮陽系數(shù)低、熱工性能良好，節(jié)能性能優(yōu)異；而且，該鍍膜玻璃還具備可見光透過率高，接近浮法白玻自身透過率，采光性能好；使室外反射色、室內(nèi)反射色、透過色同時呈現(xiàn)出無色純凈的光學特性。

為了實現(xiàn)上述實用新型目的，本實用新型提供了以下技術(shù)方案：

一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片，在玻璃基片表面依次鍍有：在玻璃基片表面依次鍍有：第一氧化鈦膜層、第二氧化鋅膜層、第三銀膜層、第四鎳鉻合金膜層、第五氧化鋅膜層和第六氮化硅膜層。

進一步，所述低輻射鍍膜玻璃采用高真空磁控濺射技術(shù)或原子層沉積方法制備。

其中，原子層沉積方法(也稱ALD原子層沉積方法)，是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。

進一步，所述玻璃基片可選用一般的玻璃基底，優(yōu)選為浮法白玻或超白玻璃。

進一步，所述第一氧化鈦膜層厚度為15-26nm，優(yōu)選為20-22nm。

所述第二氧化鋅膜層厚度為17-27nm，優(yōu)選為19-25nm。

所述第三銀膜層厚度為6-10nm，優(yōu)選為8-9nm。

所述第四鎳鉻合金膜層厚度為0.1-2nm，優(yōu)選為0.5-1.5nm。

所述第五氧化鋅膜層的厚度為4-9nm，優(yōu)選為5-6nm。

所述第六氮化硅膜層的厚度為20-25nm，優(yōu)選為22-24nm。