[實用新型]一種低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820542044.0 | 申請日： | 2018-04-16 |
| 公開（公告）號： | CN208308693U | 公開（公告）日： | 2019-01-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 黃成龍;張開欣;徐伯永;鄧云軍;李建根 | 申請（專利權(quán)）人： | 四川南玻節(jié)能玻璃有限公司 |
| 主分類號： | C03C17/36 | 分類號： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 四川力久律師事務(wù)所 51221 | 代理人： | 陳明龍;韓洋 |
| 地址： | 610213 四川省成*** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 低輻射鍍膜玻璃 反射色 氧化鋅膜層 玻璃基片 環(huán)保節(jié)能建筑材料 玻璃基片表面 本實用新型 氮化硅膜層 鎳鉻合金膜 氧化鈦膜層 鍍膜玻璃 厚度設(shè)置 技術(shù)難題 膜層材料 日照不足 無色狀態(tài) 低輻射 銀膜層 采光 鍍覆 鍍制 膜層 無色 室外 節(jié)能 室內(nèi) 應(yīng)用 | ||
1.一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片，其特征在于，在玻璃基片表面依次鍍有：第一氧化鈦膜層、第二氧化鋅膜層、第三銀膜層、第四鎳鉻合金膜層、第五氧化鋅膜層和第六氮化硅膜層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述低輻射鍍膜玻璃采用高真空磁控濺射技術(shù)或原子層沉積方式制備。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述玻璃基片為浮法白玻或超白玻璃。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第一氧化鈦膜層厚度為15-26nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第二氧化鋅膜層厚度為17-27nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第三銀膜層厚度為6-10nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第四鎳鉻合金膜層厚度為0.1-2nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第五氧化鋅膜層的厚度為4-9nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述第六氮化硅膜層的厚度為20-25nm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片，其特征在于，所述玻璃基片為浮法白玻基片，并在所述浮法白玻基片表面依次鍍有：20nm厚的第一氧化鈦膜層、16nm厚的第二氧化鋅膜層、8nm厚的第三銀膜層、2.5nm厚的第四鎳鉻合金膜層、6nm厚的第五氧化鋅膜層和22nm厚的第六氮化硅膜層。
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