[實用新型]一種多功能光刻真空吸盤

有效

• 申請號: 201820527890.5
• 申請日: 2018-04-14
• 公開（公告）號: CN208482742U
• 公開（公告）日: 2019-02-12
• 發明（設計）人: 郭城;呂明;王永超;郭英云
• 申請（專利權）人: 山東科芯電子有限公司
• 主分類號: B05C13/02
• 分類號: B05C13/02;B05C11/08
• 代理公司: 青島高曉專利事務所(普通合伙) 37104
• 代理人: 黃曉敏

本實用新型涉及半導體光刻吸盤技術領域，尤其是一種多功能光刻真空吸盤。該多功能光刻真空吸盤，包括吸盤，通氣管和法蘭盤，吸盤由表面吸盤和底部吸盤組成，底部吸盤上表面設置一個同心的凹形圓，凹形圓的中心設置第一通孔，第一通孔與通氣管連通，表面吸盤的中心設置有中心定位通孔，表面吸盤的上表面設置有多個同心的環形凹槽，環形凹槽上均設置有均勻分布的吸附孔，環形凹槽的底面下部均設置有環形空心結構，環形空心結構的底面與表面吸盤的底面之間沿徑向設置有螺紋孔，螺紋孔內旋接有出氣調節式螺桿。本實用新型的一種多功能光刻真空吸盤設計合理，結構簡單，便于實現不同尺寸的硅片的吸附，且使硅片表面涂覆的液態材料的均勻分布。

技術領域

本實用新型涉及半導體光刻吸盤技術領域，尤其是一種多功能光刻真空吸盤。

背景技術

在半導體制造過程中需要對晶圓片單片進行操作，因為在操作過程中需要避免與人體接觸，所以需要將晶圓片放置在一種載具上且進行固定，以方便對晶圓片表面進行操作，目前普遍使用的是真空吸盤載具。現有的真空吸盤一般一種規格只對應吸附一種硅片，如果想要吸附不同大小的硅片就要設計相對應的多個吸盤，為了解決這一問題，部分技術人員設計了能夠對不同尺寸的半導體硅片進行吸附的真空吸盤，這種真空吸盤節約了人力財力，節省了生產效率，但是此類真空吸盤在使用時仍存在一下不足：由于結構負責，結構設計合理性欠缺，在吸附過程中可能出現漏氣現象；（2）采用多路控制，對每種規格的硅片的吸附均需連接獨立的吸氣管，設備組成繁瑣，費用較高；（3）將真空管路設置在吸盤的側面，通過螺釘固定在設備上，不可轉動，不利于表面涂覆的液態材料的均勻分布。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種多功能光刻真空吸盤，設計合理，結構簡單，克服前述現有技術的不足，便于實現不同尺寸的硅片的吸附，且使硅片表面涂覆的液態材料的均勻分布。

本實用新型解決其技術問題所采取的技術方案是：一種多功能光刻真空吸盤，包括吸盤，設置于吸盤底部的通氣管和設置于通氣管底部的法蘭盤，所述吸盤由表面吸盤和底部吸盤組成，底部吸盤上表面設置一個同心的凹形圓，凹形圓的中心設置第一通孔，第一通孔與通氣管連通，所述表面吸盤的中心設置有用于對硅片中心進行定位和固定的中心定位通孔，表面吸盤的上表面設置有多個同心的環形凹槽，同心的環形凹槽位置根據需要吸附的硅片的大小設定，環形凹槽上均設置有均勻分布的吸附孔，用于吸附硅片表面四周，環形凹槽的底面下部均設置有環形空心結構，環形空心結構的底面與表面吸盤的底面之間沿徑向設置有貫穿表面吸盤的螺紋孔，所述螺紋孔內旋接有出氣調節式螺桿，螺紋孔上表面設置有多個與出氣調節式螺桿方向一致的第一進氣孔，表面吸盤的下表面上設置有多個與出氣調節式螺桿方向一致的第二進氣孔。

進一步的，所述出氣調節式螺桿包括螺紋桿和兩端對稱設置于螺紋桿上的多個第二通孔，位于同一端的多個第二通孔之間互成夾角。

進一步的，所述第二通孔的數量為環形凹槽數量的兩倍，所述第二通孔的位置與環形凹槽的位置相對應。

進一步的，所述第一進氣孔和第二進氣孔的位置均與第二通孔的位置一一對應，通過調節出氣調節式螺桿在螺紋孔中的位置角度使位于不同的環形凹槽下方的第一進氣孔、第二通孔和第二進氣孔連通，進而起到吸附作用。

進一步的，所述螺紋孔的孔徑大于第一進氣孔和第二進氣孔的孔徑且小于中心定位通孔的孔徑，防止漏氣，且確保中心定位孔在吸附不同尺寸的硅片時均起對硅片中心的定位吸附作用，所述第二通孔的孔徑小于等于第一進氣孔和第二進氣孔的孔徑，防止漏氣。

進一步的，所述凹形圓的直徑大于表面吸盤最大的環形凹槽的直徑。

進一步的，所述表面吸盤底面的圓周外圈設置有均勻分布的吸盤柱腳，底部吸盤的圓周外圈設置有與吸盤柱腳一一對應的吸盤柱孔。

進一步的，所述表面吸盤和底部吸盤的接觸面上涂覆密封物質。