[實用新型]一種PEVCD臥式石墨舟結構

有效

• 申請號: 201820493615.6
• 申請日: 2018-04-09
• 公開（公告）號: CN208157378U
• 公開（公告）日: 2018-11-27
• 發明（設計）人: 楊寶立;李時俊;伍波;張勇
• 申請（專利權）人: 深圳市捷佳偉創新能源裝備股份有限公司
• 主分類號: H01L21/673
• 分類號: H01L21/673;H01L31/18
• 代理公司: 深圳市康弘知識產權代理有限公司 44247
• 代理人: 尹彥;胡朝陽

一種PEVCD臥式石墨舟結構，包括多個固定桿、多個石墨舟片，所述的固定桿豎直間隔設置在石英爐管內，呈陣列排列；所述的石墨舟片水平設置且層疊間隔固定在所述的固定桿上，所述的固定桿、石墨舟片整體設置在石英爐管的內部，采用了石墨舟片水平的設置，硅片水平放入，當石墨舟結構在石英爐管里放置不水平的時候，硅片也還是貼合石墨舟片的，鍍減反膜工藝后的硅片不會出現繞鍍，硅片四周也不會產生黑邊的問題，降低了硅片鍍減反膜的不良率。

技術領域

本實用新型涉及太陽能硅片的制作領域，更具體地說是一種PEVCD臥式石墨舟結構。

背景技術

在光伏行業，據測算，光在硅表面的反射損失率高達35%左右，減反膜可以極高地提高電池片對太陽光的利用率，有助于提高光生電流密度，進而提高轉換效率。

PECVD用于對單晶硅片、多晶硅片的表面鍍減反膜。在本行業的發展中，人們一直在追求工藝的提升，提升鍍減反膜的良品率。其中，石墨舟結構在工藝提升方面也有至關重要的作用。

如圖3和圖4，目前市場上的石墨舟結構采用了立式鍍減反膜的結構，石墨舟片2豎直設置，均勻層疊間隔的固定在固定桿1上，在需要鍍反射膜時，把硅片豎直放置在石墨舟片之間，與石墨舟片貼合，最后把整個石墨舟結構放置在石英爐管內鍍減反膜，由于硅片6需要豎直放置，所以也在石墨舟片上設置卡點（圖中未示出），以防止硅片脫落。當石墨舟結構在石英爐管里放置不水平的時候，會出現硅片表面與石墨舟片表面貼合不緊的情況，從而導致硅片導電不良，工藝后的硅片出現繞鍍，硅片四周會產生黑邊，致使不良品率升高。

因此，需要一種新型的石墨舟結構來降低硅片鍍減反膜工藝的不良率。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供PEVCD臥式石墨舟結構，把石墨舟片水平設置，硅片能夠水平放在石墨舟片上，提高硅片鍍減反膜的良率。

為達上述目的，本實用新型采用的技術方案如下：

一種PEVCD臥式石墨舟結構，包括多個固定桿、多個石墨舟片，所述的固定桿豎直間隔設置在石英爐管內，呈陣列排列；所述的石墨舟片水平設置且層疊間隔固定在所述的固定桿上，所述的固定桿、石墨舟片整體設置在石英爐管的內部。

優選地，所述石墨舟片上設置有多個第一通孔，所述的固定桿穿過第一通孔，每兩層石墨舟片之間還設置有分隔件，該分隔件上設置有第二通孔，所述的固定桿穿過所述的分隔件上的第二通孔。

優選地，所述的分隔件為圓柱狀或是方塊狀。

優選地，石英爐管軸心兩側的固定桿的底部還固定設置有多個底座，該底座與石英爐管的內壁貼合。

優選地，所述的底座為類L型結構，包括水平壁和弧形壁，該水平壁固定設置在最下面的兩個石墨舟片之間，該弧形壁的弧形外徑與石英爐管的內徑配合。

優選地，所述的水平壁上設置有第三通孔，固定桿穿過第三通孔。

優選地，所述的固定桿兩端設置有螺紋，石墨舟片通過固定桿上的螺紋和螺母固定。

一種臥式硅片鍍減反膜機，包括了上述的PEVCD臥式石墨舟結構。

與現有技術相比，本實用新型至少具有以下有益效果：

本實用新型PEVCD臥式石墨舟結構，采用了把石墨舟片水平設置，硅片水平放置在石墨舟片上，當石墨舟結構在石英爐管里放置不水平的時候，硅片也是貼合石墨舟片的，鍍減反膜工藝后的硅片不會出現繞鍍，硅片四周也不會產生黑邊；由于硅片的放置面方向與水平方向平行，故不再需要卡點，所以鍍膜工藝后的硅片表面不會留有印跡,降低了鍍減反膜的不良率。

附圖說明

圖1為一實施例的側視圖；

圖2為圖1的立體結構圖；