[實用新型]一種PEVCD臥式石墨舟結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820493615.6 | 申請日: | 2018-04-09 |
| 公開(公告)號: | CN208157378U | 公開(公告)日: | 2018-11-27 |
| 發(fā)明(設計)人: | 楊寶立;李時俊;伍波;張勇 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市捷佳偉創(chuàng)新能源裝備股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/673 | 分類號: | H01L21/673;H01L31/18 |
| 代理公司: | 深圳市康弘知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44247 | 代理人: | 尹彥;胡朝陽 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市龍崗區(qū)橫*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 石墨舟片 硅片 固定桿 石英爐管 石墨舟 層疊間隔 間隔設置 水平設置 陣列排列 整體設置 不良率 放入 黑邊 豎直 貼合 | ||
1.一種PEVCD臥式石墨舟結(jié)構(gòu),其特征在于:包括多個固定桿(1)、多個石墨舟片(2),所述的固定桿(1)豎直間隔設置在石英爐管(3)內(nèi),呈陣列排列;所述的石墨舟片(2)水平設置且層疊間隔固定在所述的固定桿(1)上,所述的固定桿(1)、石墨舟片(2)整體設置在石英爐管(3)的內(nèi)部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PEVCD臥式石墨舟結(jié)構(gòu),其特征在于:所述石墨舟片(2)上設置有多個第一通孔,所述的固定桿(1)穿過第一通孔,每兩層石墨舟片之間還設置有分隔件(4),該分隔件上設置有第二通孔,所述的固定桿(1)穿過所述的分隔件上的第二通孔。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的PEVCD臥式石墨舟結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的分隔件(4)為圓柱狀或是方塊狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PEVCD臥式石墨舟結(jié)構(gòu),其特征在于:石英爐管軸心兩側(cè)的固定桿的底部還固定設置有多個底座(5),該底座與石英爐管(3)的內(nèi)壁貼合。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的PEVCD臥式石墨舟結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的底座(5)為類L型結(jié)構(gòu),包括水平壁(51)和弧形壁(52),該水平壁固定設置在最下面的兩個石墨舟片之間,該弧形壁的弧形外徑與石英爐管(3)的內(nèi)徑配合。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的PEVCD臥式石墨舟結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的水平壁(51)上設置有第三通孔,固定桿(1)穿過第三通孔。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項所述的PEVCD臥式石墨舟結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的固定桿兩端設置有螺紋,石墨舟片通過固定桿上的螺紋和螺母固定。
8.一種包含了上述任意一項權(quán)利要求所述的PEVCD臥式石墨舟結(jié)構(gòu)的臥式硅片鍍減反膜機。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





