[實用新型]一種共晶機

有效

• 申請號: 201820461485.8
• 申請日: 2018-04-03
• 公開（公告）號: CN207966940U
• 公開（公告）日: 2018-10-12
• 發明（設計）人: 鐘銳;徐歡;卡塔琳娜·費舍爾
• 申請（專利權）人: 浙江辛帝亞自動化科技有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/68;H01L21/60
• 代理公司: 浙江杭州金通專利事務所有限公司 33100
• 代理人: 王麗丹

本實用新型公開了一種共晶機，包括機臺和整機控制系統，機臺上設有上下料系統、共晶臺、雙晶圓臺、芯片拾取控制系統和芯片校準系統,上下料系統包括管座托盤、吸嘴、氣缸、滑軌、線性精密XY滑臺和控制線性精密XY滑臺的電機；共晶臺包括將管座從上下料系統輸送至共晶臺的輸送裝置、手指吸嘴、共晶座、管座夾爪、夾爪氣缸和加熱棒，雙晶圓臺包括熱沉托盤固定環、芯片托盤固定環、頂針系統組件和線性精密XY模組，所述頂針系統組件包括頂針、頂針帽和頂針調節系統；芯片拾取控制系統包括熱沉吸嘴、芯片吸嘴、運動組件和攝像頭。本實用新型配合多軸運動控制、視覺定位等技術，自動化程度高，產品良率高，且具有快速批量生產能力。

技術領域

本實用新型涉及共晶領域，具體涉及一種共晶機。

背景技術

目前，光電通訊領域的TO（晶體管外形）型激光器件的全自動共晶貼片設備,均生產效率低，自動化程度不高，產品良率低。特別是管座共晶，其芯片所貼位置偏差大，熱沉熔化不充分，共晶操作煩瑣，需要大量人工勞動力，且生產效率低，不能快速批量生產。

發明內容

本實用新型所要解決的技術問題是提供一種共晶機，配合多軸運動控制、視覺定位等技術，自動化程度高，產品良率高，且具有快速批量生產能力。

本實用新型解決技術問題所采用的技術方案是：一種共晶機，包括機臺和整機控制系統，所述機臺上設有上下料系統、共晶臺、雙晶圓臺、芯片拾取控制系統和芯片校準系統,所述上下料系統包括管座托盤、吸嘴、氣缸、滑軌、線性精密XY滑臺和控制線性精密XY滑臺的電機，所述吸嘴通過氣缸和滑軌實現上下運動，所述吸嘴上方設有光電感應件和光電開關；所述共晶臺包括將管座從上下料系統輸送至共晶臺的輸送裝置、手指吸嘴、共晶座、管座夾爪、夾爪氣缸和加熱棒，所述加熱棒處設有熱敏傳感器；所述雙晶圓臺包括熱沉托盤固定環、芯片托盤固定環、頂針系統組件和線性精密XY模組，所述頂針系統組件包括頂針、頂針帽和頂針調節系統，所述頂針帽下設有抽真空管；所述芯片拾取控制系統包括熱沉吸嘴、芯片吸嘴、運動組件和攝像頭；所述芯片校準系統包括芯片校準臺、下攝像頭和芯片校準控制系統，所述芯片校準臺上設有可吸住芯片的小孔，所述小孔與真空吸管連通。

作為進一步的改進，所述共晶座前側設有壓縮彈簧，后側設有氮氣小孔和空氣小孔。

作為一種優選，所述輸送裝置包括氣動滑臺、水平氣缸、轉軸、連桿和調節螺絲。

作為一種優選，所述加熱棒加熱溫度為380～450℃。

作為進一步的改進，所述頂針調節系統包括導向臺和惰輪，實現頂針帽向上或向下。

作為一種優選，所述熱沉吸嘴和芯片吸嘴運動重復精度為：XY 小于正負 4 微米，θ小于 0.1 度。

作為進一步的改進，所述芯片校準控制系統包括線性XY滑臺及控制線性XY滑臺的伺服電機，所述線性XY滑臺上設有支撐臂用于支撐和調節芯片校準臺。

本實用新型的有益效果是:配合多軸運動控制、視覺定位等技術，自動化程度高，產品良率高，且具有批量生產能力。共晶座后側設有氮氣小孔通入氮氣，防止加熱共晶時焊料氧化，大大提高產品良率。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例的結構示意圖。

圖2為本實用新型實施例上下料系統的結構示意圖。

圖3為本實用新型實施例共晶臺的結構示意圖。

圖4為本實用新型實施例雙晶圓臺的結構示意圖。

圖5為本實用新型實施例頂針調節系統的結構示意圖。

圖6為本實用新型實施例芯片拾取控制系統的結構示意圖一。

圖7為本實用新型實施例芯片拾取控制系統的結構示意圖二。