[實用新型]一種脈寬壓縮裝置以及脈寬壓縮系統

有效

• 申請號: 201820435613.1
• 申請日: 2018-03-29
• 公開（公告）號: CN208110221U
• 公開（公告）日: 2018-11-16
• 發明（設計）人: 侯杰;李旭
• 申請（專利權）人: 北京華岸科技有限公司
• 主分類號: G02F1/35
• 分類號: G02F1/35;G02F1/355
• 代理公司: 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371
• 代理人: 趙志遠

本實用新型提供的一種脈寬壓縮裝置以及脈寬壓縮系統，涉及脈沖技術領域，包括第一倍頻晶體、第一反射鏡和第二反射鏡；所述第一反射鏡設置在所述第一倍頻晶體的下工位；所述第二反射鏡設置在所述第一倍頻晶體的下工位。在上述技術方案中，提供了一種結構簡單、壓縮脈寬效果好的脈寬壓縮裝置，該脈寬壓縮裝置采用了第一倍頻晶體對基頻入射激光實施倍頻同時壓窄脈寬，然后再通過第一反射鏡濾除剩余基頻入射激光；同時將倍頻激光反射回第一倍頻晶體進行逆倍頻過程，使倍頻激光恢復至基頻同時再次壓窄脈寬；經過逆倍頻處理后的剩余倍頻光和基頻光再次經過第二反射鏡過濾，即可得到純凈的基頻窄脈寬激光了。

技術領域

本實用新型涉及脈沖技術領域，尤其是涉及一種脈寬壓縮裝置以及脈寬壓縮系統。

背景技術

脈寬是脈沖寬度的縮寫，不同的領域，脈沖寬度有不同的含義。通常的脈沖寬度是指電磁領域中，脈沖持續的時間內，脈沖峰值強度的半高全寬所確定的時間。而一般在實際生產制造當中，經常需要對光脈沖信號的脈寬進行壓縮處理，也即壓縮脈寬。現有的壓縮脈寬方式一般利用的是啁啾技術、光譜展寬技術和色散補償技術的結合，使用的是非線性光纖器件和光柵器件的組合。

但是，采用非線性光纖器件和光柵器件的組合進行壓縮脈寬時，整個光路比較復雜，體積也較大。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種脈寬壓縮裝置以及脈寬壓縮系統，以解決現有技術中存在的采用非線性光纖器件和光柵器件的組合進行壓縮脈寬處理時，其光路復雜、體積大的技術問題。

本實用新型提供的一種脈寬壓縮裝置，包括第一倍頻晶體、第一反射鏡和第二反射鏡；

所述第一反射鏡設置在所述第一倍頻晶體的下工位，用于將透過所述第一倍頻晶體射出的倍頻激光反射回所述第一倍頻晶體；

所述第二反射鏡設置在所述第一倍頻晶體的下工位，用于對反射回所述第一倍頻晶體并再次透過所述第一倍頻晶體射出的倍頻激光進行過濾。

在上述技術方案中，提供了一種結構簡單、壓縮脈寬效果好的脈寬壓縮裝置，該脈寬壓縮裝置采用了第一倍頻晶體對基頻入射激光實施倍頻并壓窄脈寬，然后再通過第一反射鏡濾除剩余基頻入射激光；同時將倍頻激光反射回第一倍頻晶體進行逆倍頻過程，使倍頻激光恢復至基頻，同時再次壓窄脈寬；經過逆倍頻處理后的基頻激光和剩余倍頻激光經過第二反射鏡過濾，即可得到純凈的基頻窄脈寬激光了。

進一步的，在本實用新型的實施例中，所述基頻入射激光的波長范圍在0.1μm至100μm之間；

和\或，所述基頻入射激光的脈寬范圍在0.01ps至100ns之間。

進一步的，在本實用新型的實施例中，所述第一倍頻晶體包括KTP、KTA和PPLN中的任意一種。

本實用新型還提供了一種脈寬壓縮系統，包括上述所述的脈寬壓縮裝置。

本實用新型還提供了一種脈寬壓縮裝置，包括第一倍頻晶體、第一反射鏡、第二倍頻晶體和第二反射鏡；

所述第一反射鏡設置在所述第一倍頻晶體的下工位，用于將透過所述第一倍頻晶體射出的倍頻激光透射至所述第二倍頻晶體；

所述第二反射鏡設置在所述第二倍頻晶體的下工位，用于對透過所述第二倍頻晶體射出的倍頻激光進行過濾。

進一步的，在本實用新型的實施例中，所述基頻入射激光的波長范圍在0.1μm至100μm之間；

和\或，所述基頻入射激光的脈寬范圍在0.01ps至100ns之間。

進一步的，在本實用新型的實施例中，所述第一倍頻晶體和\或所述第二倍頻晶體包括KTP、KTA和PPLN中的任意一種。

本實用新型還提供了一種脈寬壓縮系統，包括上述所述的脈寬壓縮裝置。