[實用新型]一種脈寬壓縮裝置以及脈寬壓縮系統有效
| 申請號： | 201820435613.1 | 申請日： | 2018-03-29 |
| 公開（公告）號： | CN208110221U | 公開（公告）日： | 2018-11-16 |
| 發明（設計）人： | 侯杰;李旭 | 申請（專利權）人： | 北京華岸科技有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/35 | 分類號： | G02F1/35;G02F1/355 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 趙志遠 |
| 地址： | 100744 北京市地*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 脈寬壓縮 倍頻晶體 反射鏡 窄脈寬 基頻 反射鏡設置 倍頻激光 入射激光 工位 本實用新型 倍頻處理 倍頻過程 脈沖技術 壓縮脈寬 倍頻光 基頻光 剩余基 倍頻 濾除 反射 過濾 激光 恢復 | ||
1.一種脈寬壓縮裝置，其特征在于，包括第一倍頻晶體(1)、第一反射鏡(2)和第二反射鏡(4)；
所述第一反射鏡(2)設置在所述第一倍頻晶體(1)的下工位，用于將透過所述第一倍頻晶體(1)射出的入射激光反射回所述第一倍頻晶體(1)；
所述第二反射鏡(4)設置在所述第一倍頻晶體(1)的下工位，用于對反射回所述第一倍頻晶體(1)并再次透過所述第一倍頻晶體(1)射出的入射激光進行過濾。
2.根據權利要求1所述的脈寬壓縮裝置，其特征在于，所述入射激光的波長范圍在0.1μm至100μm之間。
3.根據權利要求1所述的脈寬壓縮裝置，其特征在于，所述入射激光的脈寬范圍在0.01ps至100ns之間。
4.根據權利要求1所述的脈寬壓縮裝置，其特征在于，所述第一倍頻晶體(1)包括KTP、KTA和PPLN中的任意一種。
5.一種脈寬壓縮系統，其特征在于，包括如權利要求1-4中任一項所述的脈寬壓縮裝置。
6.一種脈寬壓縮裝置，其特征在于，包括第一倍頻晶體(1)、第一反射鏡(2)、第二倍頻晶體(3)和第二反射鏡(4)；
所述第一反射鏡(2)設置在所述第一倍頻晶體(1)的下工位，用于將透過所述第一倍頻晶體(1)射出的入射激光反射至所述第二倍頻晶體(3)；
所述第二反射鏡(4)設置在所述第二倍頻晶體(3)的下工位，用于對透過所述第二倍頻晶體(3)射出的入射激光進行過濾。
7.根據權利要求6所述的脈寬壓縮裝置，其特征在于，所述入射激光的波長范圍在0.1μm至100μm之間。
8.根據權利要求6所述的脈寬壓縮裝置，其特征在于，所述入射激光的脈寬范圍在0.01ps至100ns之間。
9.根據權利要求6所述的脈寬壓縮裝置，其特征在于，所述第一倍頻晶體(1)和\或所述第二倍頻晶體(3)包括KTP、KTA和PPLN中的任意一種。
10.一種脈寬壓縮系統，其特征在于，包括如權利要求6-9中任一項所述的脈寬壓縮裝置。
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