[實用新型]一種減反射鍍膜系統

有效

• 申請號: 201820400622.7
• 申請日: 2018-03-23
• 公開（公告）號: CN208151470U
• 公開（公告）日: 2018-11-27
• 發明（設計）人: 高建勛
• 申請（專利權）人: 昆明勛凱瑞光學儀器有限公司
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30;C23C14/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型涉及光學鏡片加工技術領域，目的在于提供一種減反射鍍膜系統。所采用的技術方案是：一種減反射鍍膜系統，包括真空室，所述真空室內設置基片安裝機構、蒸鍍機構，還包括中部設置的烘干機構，所述烘干機構包括安裝在真空室側壁的第一支桿，所述第一支桿的頂端鉸接燈罩，所述燈罩內設置有紅外線燈；所述蒸鍍機構包括由電機驅動的轉動盤、電子槍，所述轉動盤上環向開設有若干凹槽，所述凹槽內設置有坩堝，所述坩堝與電子槍相對設置，所述轉動盤的周側安裝有若干感應桿，所述第二支桿上設置與感應桿適配的位置傳感器。本實用新型可快速完成多層減反光膜鍍設，生產效率高。

技術領域

本實用新型涉及光學鏡片加工技術領域，具體涉及一種減反射鍍膜系統。

背景技術

光學鏡片加工一般需要經過銑磨、精磨、拋光、鍍膜等流程，其中鍍膜是鏡片加工中重要的步驟。由于鏡片的前表面產生的反光產生虛像、炫光等現象，需要對鏡片鍍減反射膜。在進行真空鍍膜時，通常將基片安裝在真空室頂部，待真空室抽成真空后，再加熱坩堝使高純度的靶材融合并蒸發或升華，原子團或離子形式的靶材以冷凝方式沉積在基片表面，由此實現基片的鍍膜。

鍍多層減反射膜可使鏡片的減反射效果大大提高，現有技術中，多層鍍膜通常逐次進行，如在第一層膜鍍好后，將真空室打開，更換坩堝以及坩堝內的靶材，取出鏡片將其干燥后，再放入真空室內鍍設第二層膜，依此類推。現有技術中鍍設多層減反光膜需要進行多次抽真空、更換坩堝等步驟，造成浪費資源的同時，生產效率低下。

發明內容

本實用新型的目的在于提供一種快速完成多層減反光膜鍍設的減反射鍍膜系統。

為實現上述目的，本實用新型采用的技術方案是：

一種減反射鍍膜系統，包括設置在安裝架上的真空室，所述真空室內的頂部設置基片安裝機構、底部設置蒸鍍機構，還包括中部設置的烘干機構，所述烘干機構包括安裝在真空室側壁的第一支桿，所述第一支桿的頂端鉸接燈罩，所述燈罩內設置有紅外線燈，所述燈罩朝向基片安裝機構；所述蒸鍍機構包括由電機驅動的轉動盤、固定在第二支桿上的電子槍，所述轉動盤安裝在電機的轉軸上，所述第二支桿安裝在真空室的底板上，所述轉動盤上環向開設有若干凹槽，所述凹槽內設置有坩堝，所述坩堝與電子槍相對設置，所述轉動盤的周側配合凹槽安裝有若干感應桿，所述第二支桿上設置與感應桿適配的位置傳感器，所述位置傳感器的感應端朝向感應桿。

優選的，所述轉軸通過法蘭與轉動盤的中心連接。

優選的，所述凹槽為對稱設置的四個。

優選的，所述烘干機構為對稱設置的兩組。

優選的，所述電機、位置傳感器、紅外線燈受智能控制器的控制。

本實用新型的有益效果集中體現在，能夠快速完成多層減反光膜鍍設，生產效率高。具體來說，本實用新型在使用時，首先將不同靶材按鍍設順序依次放入對應的坩堝內，起始位置時，第一種靶材所在的坩堝與電子槍相對，位置由感應桿和位置傳感器進行確定，隨后啟動整個設備，進行第一層膜的鍍設，待首層膜鍍設完畢后，紅外線燈啟動進行鍍膜的烘干，與此同時，轉動盤在電機的驅動下轉動，待后一個感應桿運行至位置傳感器的對應位置時，電機關閉，使第二種靶材所在的坩堝與電子槍相對，待第一層鍍膜烘干完畢后，電子槍啟動進行第二層膜的鍍設，依此類推，直到完成全部減反光膜的鍍設。由于每層膜鍍設完畢后即通過烘干機構進行烘干，蒸鍍機構進行不同靶材的轉換，避免了多層鍍膜時重復打開倉門，進行抽真空、人工換靶材等程序，可快速完成多層減反光膜的鍍設，生產效率更高，具有很好的實施效果。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖；

圖2是本實用新型中轉動盤的俯視圖。

具體實施方式

下面結合附圖1和2進一步闡述本實用新型。