[實(shí)用新型]一種減反射鍍膜系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201820400622.7
• 申請日: 2018-03-23
• 公開（公告）號: CN208151470U
• 公開（公告）日: 2018-11-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 高建勛
• 申請（專利權(quán)）人: 昆明勛凱瑞光學(xué)儀器有限公司
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30;C23C14/56
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種減反射鍍膜系統(tǒng)，包括設(shè)置在安裝架（1）上的真空室（2），所述真空室（2）內(nèi)的頂部設(shè)置基片安裝機(jī)構(gòu)、底部設(shè)置蒸鍍機(jī)構(gòu)（3），其特征在于：還包括中部設(shè)置的烘干機(jī)構(gòu)（4），所述烘干機(jī)構(gòu)（4）包括安裝在真空室（2）側(cè)壁的第一支桿（41），所述第一支桿（41）的頂端鉸接燈罩（42），所述燈罩（42）內(nèi)設(shè)置有紅外線燈（43），所述燈罩（42）朝向基片安裝機(jī)構(gòu)；所述蒸鍍機(jī)構(gòu)（3）包括由電機(jī)（35）驅(qū)動的轉(zhuǎn)動盤（31）、固定在第二支桿（32）上的電子槍（33），所述轉(zhuǎn)動盤（31）安裝在電機(jī)（35）的轉(zhuǎn)軸（34）上，所述第二支桿（32）安裝在真空室（2）的底板上，所述轉(zhuǎn)動盤（31）上環(huán)向開設(shè)有若干凹槽，所述凹槽內(nèi)設(shè)置有坩堝（36），所述坩堝（36）與電子槍（33）相對設(shè)置，所述轉(zhuǎn)動盤（31）的周側(cè)配合凹槽安裝有若干感應(yīng)桿（37），所述第二支桿（32）上設(shè)置與感應(yīng)桿（37）適配的位置傳感器（38），所述位置傳感器（38）的感應(yīng)端朝向感應(yīng)桿（37）。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種減反射鍍膜系統(tǒng)，其特征在于：所述轉(zhuǎn)軸（34）通過法蘭（39）與轉(zhuǎn)動盤（31）的中心連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種減反射鍍膜系統(tǒng)，其特征在于：所述凹槽為對稱設(shè)置的四個。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種減反射鍍膜系統(tǒng)，其特征在于：所述烘干機(jī)構(gòu)（4）為對稱設(shè)置的兩組。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種減反射鍍膜系統(tǒng)，其特征在于：所述電機(jī)（35）、位置傳感器（38）、紅外線燈（43）受智能控制器的控制。