[實用新型]一種雙面真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201820340474.4
• 申請日: 2018-03-13
• 公開（公告）號: CN207958491U
• 公開（公告）日: 2018-10-12
• 發(fā)明（設計）人: 桂禮家;徐地華
• 申請（專利權）人: 南昌正業(yè)科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 長沙智德知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 43207
• 代理人: 左祝安

本實用新型公開了一種雙面真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置，包括控制箱、立柱、加強筋和鍍膜箱，所述立柱一側設置有所述控制箱，所述立柱遠離所述控制箱一側設置有所述加強筋，所述驅動電機一側設置有防護罩，所述防護罩內設置有鏈輪，所述鏈輪上設置有鏈條，所述機架上設置有放料輥架，所述放料輥架上設置有放料輥，所述控制箱上設置有顯示屏，所述顯示屏下方設置有急停按鈕，所述急停按鈕一側設置有控制按鈕。有益效果在于：本實用新型設置有深冷泵，能夠提高對連續(xù)鍍膜過程中基材的放氣抽速，從而提高了工作效率，設置有主動輪和從動輪，能夠對基材進行雙面真空磁控濺射，工作效率較高、鍍膜質量極高，經(jīng)濟性較好。

技術領域

本實用新型涉及磁控濺射鍍膜裝置技術領域，具體涉及一種雙面真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置。

背景技術

濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子沉積在基片上的技術。通常，利用低壓惰性氣體輝光放電來產(chǎn)生入射離子。陰極靶由鍍膜材料制成，基片作為陽極，真空室中通入0.1-10Pa的氬氣或其它惰性氣體，在陰極（靶）1-3KV直流負高壓或13.56MHz的射頻電壓作用下產(chǎn)生輝光放電。電離出的氬離子轟擊靶表面，使得靶原子濺出并沉積在基片上，形成薄膜。由于被濺射原子是與具有數(shù)十電子伏特能量的正離子交換動能后飛濺出來的，因而濺射出來的原子能量高，有利于提高沉積時原子的擴散能力，提高沉積組織的致密程度，使制出的薄膜與基片具有強的附著力。濺射時，氣體被電離之后，氣體離子在電場作用下飛向接陰極的靶材，電子則飛向接地的壁腔和基片。目前，市面上常見的真空磁控濺射裝置普遍應用于小面積或單面鍍膜，真正可量化生產(chǎn)的雙面連續(xù)化鍍膜裝置并不多見，且常用真空磁控濺射鍍膜裝置多存在鍍膜效率低、鍍膜質量差、產(chǎn)品良率低、制程能力差等缺點。

發(fā)明內容

本實用新型的目的就在于為了解決上述問題而提供一種雙面真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置。

本實用新型通過以下技術方案來實現(xiàn)上述目的：

一種雙面真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置，包括控制箱、立柱、加強筋和鍍膜箱，所述立柱一側設置有所述控制箱，所述立柱遠離所述控制箱一側設置有所述加強筋，所述加強筋遠離所述立柱一側設置有所述鍍膜箱，所述鍍膜箱上設置有導向輪架，所述導向輪架上設置有導向輪，所述立柱上設置有機架，所述機架上設置有收料輥架，所述收料輥架上設置有收料輥，所述收料輥一側設置有皮帶輪，所述皮帶輪上設置有皮帶，所述皮帶遠離所述皮帶輪一端設置有收料電機，所述收料電機遠離所述收料輥架的一側設置有真空泵箱，所述鍍膜箱上設置有驅動電機，所述驅動電機一側設置有防護罩，所述防護罩內設置有鏈輪，所述鏈輪上設置有鏈條，所述機架上設置有放料輥架，所述放料輥架上設置有放料輥，所述放料輥上設置有基材，所述放料輥一側設置有軸承端蓋，所述鍍膜箱內設置有真空腔，所述真空腔內設置有主動輥，所述主動輥一側設置有陰極靶，所述鍍膜箱底部設置有深冷泵，所述主動輥遠離所述陰極靶的一側設置有從動輥，所述從動輥一側設置有漲緊輪，所述控制箱上設置有顯示屏，所述顯示屏下方設置有急停按鈕，所述急停按鈕一側設置有控制按鈕。

上述結構中，啟動所述控制箱上的所述控制按鈕，所述收料電機工作，帶動所述收料輥旋轉收取磁控濺射后的所述基材，所述真空泵箱內的真空泵工作，使所述鍍膜箱內的所述真空腔達到真空狀態(tài)，所述驅動電機工作，帶動所述主動輪旋轉，進而通過所述鏈條帶動所述從動輪旋轉，帶動所述基材移動，在所述陰極靶的作用下進行磁控濺射，通過所述主動輥和所述從動輥完成雙面磁控濺射，在此過程中，所述深冷泵能夠提高對連續(xù)鍍膜過程中所述基材的放氣抽速，從而提高了工作效率，所述漲緊輪能夠根據(jù)需要進行調節(jié)，保證所述基材緊貼所述主動輥和所述從動輥。

為了進一步提高雙面鍍膜的效果，所述控制箱通過螺栓與所述立柱連接，所述立柱通過螺栓與所述機架連接。

為了進一步提高雙面鍍膜的效果，所述加強筋通過螺釘與所述立柱連接，所述加強筋與所述鍍膜箱通過焊接連接，所述鍍膜箱上設置有兩個所述加強筋。