[實用新型]一種雙面真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201820340474.4
• 申請日: 2018-03-13
• 公開（公告）號: CN207958491U
• 公開（公告）日: 2018-10-12
• 發明（設計）人: 桂禮家;徐地華
• 申請（專利權）人: 南昌正業科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 長沙智德知識產權代理事務所(普通合伙) 43207
• 代理人: 左祝安

1.一種雙面真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置，其特征在于：包括控制箱（1）、立柱（2）、加強筋（3）和鍍膜箱（4），所述立柱（2）一側設置有所述控制箱（1），所述立柱（2）遠離所述控制箱（1）一側設置有所述加強筋（3），所述加強筋（3）遠離所述立柱（2）一側設置有所述鍍膜箱（4），所述鍍膜箱（4）上設置有導向輪架（6），所述導向輪架（6）上設置有導向輪（5），所述立柱（2）上設置有機架（7），所述機架（7）上設置有收料輥架（8），所述收料輥架（8）上設置有收料輥（9），所述收料輥（9）一側設置有皮帶輪（10），所述皮帶輪（10）上設置有皮帶（11），所述皮帶（11）遠離所述皮帶輪（10）一端設置有收料電機（12），所述收料電機（12）遠離所述收料輥架（8）的一側設置有真空泵箱（13），所述鍍膜箱（4）上設置有驅動電機（14），所述驅動電機（14）一側設置有防護罩（15），所述防護罩（15）內設置有鏈輪（18），所述鏈輪（18）上設置有鏈條（16），所述機架（7）上設置有放料輥架（21），所述放料輥架（21）上設置有放料輥（19），所述放料輥（19）上設置有基材（17），所述放料輥（19）一側設置有軸承端蓋（20），所述鍍膜箱（4）內設置有真空腔（25），所述真空腔（25）內設置有主動輥（23），所述主動輥（23）一側設置有陰極靶（22），所述鍍膜箱（4）底部設置有深冷泵（24），所述主動輥（23）遠離所述陰極靶（22）的一側設置有從動輥（26），所述從動輥（26）一側設置有漲緊輪（27），所述控制箱（1）上設置有顯示屏（28），所述顯示屏（28）下方設置有急停按鈕（29），所述急停按鈕（29）一側設置有控制按鈕（30）。

2.根據權利要求1所述的一種雙面真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置，其特征在于：所述控制箱（1）通過螺栓與所述立柱（2）連接，所述立柱（2）通過螺栓與所述機架（7）連接。

3.根據權利要求1所述的一種雙面真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置，其特征在于：所述加強筋（3）通過螺釘與所述立柱（2）連接，所述加強筋（3）與所述鍍膜箱（4）通過焊接連接，所述鍍膜箱（4）上設置有兩個所述加強筋（3）。

4.根據權利要求1所述的一種雙面真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置，其特征在于：所述防護罩（15）通過螺釘與所述鍍膜箱（4）連接，所述鍍膜箱（4）上設置有兩個所述導向輪架（6），所述導向輪架（6）與所述鍍膜箱（4）通過焊接連接。

5.根據權利要求1所述的一種雙面真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置，其特征在于：所述鍍膜箱（4）內設置有六個所述漲緊輪（27），所述鍍膜箱（4）內設置有六個所述陰極靶（22）。

6.根據權利要求1所述的一種雙面真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置，其特征在于：所述收料輥架（8）通過螺栓與所述機架（7）連接，所述放料輥架（21）通過螺栓與所述機架（7）連接。

7.根據權利要求1所述的一種雙面真空磁控濺射卷繞鍍膜裝置，其特征在于：所述收料電機（12）通過螺栓與所述機架（7）連接，所述真空泵箱（13）通過螺釘與所述鍍膜箱（4）連接。