[實(shí)用新型]一種晶片研磨裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201820328322.2
• 申請(qǐng)日: 2018-03-09
• 公開（公告）號(hào): CN208117546U
• 公開（公告）日: 2018-11-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周朱華;王祖勇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 嘉興晶控電子有限公司
• 主分類號(hào): B24B37/10
• 分類號(hào): B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34
• 代理公司: 嘉興啟帆專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33253
• 代理人: 李伊飏

本實(shí)用新型涉及一種晶片研磨裝置，包括底座，底座內(nèi)設(shè)置有驅(qū)動(dòng)電機(jī)，底座上轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有若干成排設(shè)置的轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸通過皮帶與皮帶輪配合與驅(qū)動(dòng)電機(jī)相連，轉(zhuǎn)軸上固定設(shè)置有鐵質(zhì)的研磨盤，研磨盤上下表面均設(shè)置有晶片固定槽，研磨盤下方的轉(zhuǎn)軸上活動(dòng)套設(shè)有下研磨塊，下研磨塊下方的轉(zhuǎn)軸上固定有限位板，下研磨塊上兩側(cè)設(shè)置有定位桿，研磨盤上方的轉(zhuǎn)軸上活動(dòng)套設(shè)有上研磨塊，上研磨塊上兩側(cè)設(shè)置有與定位桿匹配的定位孔，下研磨塊和上研磨塊內(nèi)均設(shè)置有永磁鐵圈，下研磨塊的上表面和上研磨塊的下表面均設(shè)置有研磨層，研磨層的橫截面面積大于研磨盤的橫截面面積；本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作簡(jiǎn)單、方便，具有研磨質(zhì)量好，效率高的特點(diǎn)。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及晶片生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域，具體是一種晶片研磨裝置。

背景技術(shù)

石英晶體和光學(xué)晶片是目前世界上用量最大的晶體材料，利用晶體本身具有的物理特性制造出的電子元器件，如石英晶體諧振器、晶體濾波器和石英晶體振蕩器等。因其在頻率端的穩(wěn)定性特征作為頻率基準(zhǔn)或是作為頻率源，在數(shù)字電路、電子產(chǎn)品及通訊設(shè)備領(lǐng)域均得到了廣泛的應(yīng)用。晶片的厚度加工精度要求非常高，一般都是通過研磨來獲得的，由于晶片是一個(gè)小薄片結(jié)構(gòu)，現(xiàn)有技術(shù)的研磨機(jī)不適用于晶片的研磨。

實(shí)用新型內(nèi)容

針對(duì)上述不足，本實(shí)用新型的目的在于，提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作簡(jiǎn)單、方便，具有研磨質(zhì)量好，效率高的特點(diǎn)晶片研磨裝置。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供以下技術(shù)方案：一種晶片研磨裝置，包括底座，底座內(nèi)設(shè)置有驅(qū)動(dòng)電機(jī)，底座上轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有若干成排設(shè)置的轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸通過皮帶與皮帶輪配合與驅(qū)動(dòng)電機(jī)相連，轉(zhuǎn)軸上固定設(shè)置有鐵質(zhì)的研磨盤，研磨盤上下表面均設(shè)置有晶片固定槽，研磨盤下方的轉(zhuǎn)軸上活動(dòng)套設(shè)有下研磨塊，下研磨塊下方的轉(zhuǎn)軸上固定有限位板，下研磨塊上兩側(cè)設(shè)置有定位桿，研磨盤上方的轉(zhuǎn)軸上活動(dòng)套設(shè)有上研磨塊，上研磨塊上兩側(cè)設(shè)置有與定位桿匹配的定位孔，下研磨塊和上研磨塊內(nèi)均設(shè)置有永磁鐵圈，下研磨塊的上表面和上研磨塊的下表面均設(shè)置有研磨層，研磨層的橫截面面積大于研磨盤的橫截面面積。

進(jìn)一步優(yōu)化的方案，所述的研磨層與下研磨塊和上研磨塊之間均通過連接件可拆卸連接。

再進(jìn)一步優(yōu)化的方案，所述的連接件為沉頭螺栓。

再進(jìn)一步優(yōu)化的方案，所述的下研磨塊和上研磨塊均為硬質(zhì)塑料材質(zhì)。

本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有的有益效果是：本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，操作簡(jiǎn)單、方便，具有研磨質(zhì)量好，效率高的特點(diǎn)。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為上研磨塊的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中標(biāo)號(hào)為：1-底座、2-驅(qū)動(dòng)電機(jī)、3-轉(zhuǎn)軸、4-皮帶、5-皮帶輪、6-研磨盤、7-下研磨塊、8-限位板、9-定位桿、10-上研磨塊、11-定位孔、12-永磁鐵圈、13-研磨層。

具體實(shí)施方式

為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。

在本實(shí)用新型的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ)“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。