[實(shí)用新型]光阻容器及涂布機(jī)光阻供應(yīng)系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201820308806.0
• 申請(qǐng)日: 2018-03-06
• 公開（公告）號(hào): CN208098509U
• 公開（公告）日: 2018-11-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 汪杰;陳聰文;聶行健;趙敏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東旭（昆山）顯示材料有限公司;東旭集團(tuán)有限公司;東旭科技集團(tuán)有限公司
• 主分類號(hào): B05C11/10
• 分類號(hào): B05C11/10;G03F7/16
• 代理公司: 北京潤平知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11283
• 代理人: 王亞男;鄺圓暉

1.一種光阻容器，其特征在于，該光阻容器包括：

漏斗式殼體(1)，該漏斗式殼體(1)用于儲(chǔ)存光阻，所述漏斗式殼體(1)具有設(shè)置在頂部的開口和設(shè)置在底部的出液口；

動(dòng)力裝置，該動(dòng)力裝置用于封閉所述開口并對(duì)所述儲(chǔ)存在所述漏斗式殼體(1)內(nèi)的光阻加壓以推動(dòng)所述光阻從所述出液口排出；

涂布管路，該涂布管路用于輸送光阻并連接于所述出液口；

流量計(jì)(2)，該流量計(jì)(2)用于監(jiān)測(cè)光阻流量，所述流量計(jì)(2)設(shè)置在所述涂布管路的靠近所述出液口的位置；

控制單元，該控制單元用于控制所述動(dòng)力裝置操作，所述控制單元與所述流量計(jì)(2)電連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻容器，其特征在于，所述動(dòng)力裝置為氣缸，所述氣缸包括缸體(3)和設(shè)置在所述缸體(3)內(nèi)的活塞桿(4)，所述缸體(3)與所述漏斗式殼體(1)呈密封的一體設(shè)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光阻容器，其特征在于，所述漏斗式殼體(1)包括圓筒部和設(shè)置在所述圓筒部下方的錐斗部，所述圓筒部的頂部完全開放以形成所述開口，所述動(dòng)力裝置包括與所述開口形狀適配的擋板(5)、與所述擋板(5)相連的連桿(14)以及驅(qū)動(dòng)該連桿(14)往復(fù)運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)件。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光阻容器，其特征在于，所述圓筒部包括呈階梯狀同軸設(shè)置的上桶體和下桶體，所述上桶體的直徑小于所述下桶體的直徑，所述上桶體的頂部完全開放以形成所述開口，所述下桶體的底部與所述錐斗部相連。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任意一項(xiàng)所述的光阻容器，其特征在于，所述漏斗式殼體(1)為透明殼體。

6.一種涂布機(jī)光阻供應(yīng)系統(tǒng)，包括依次連接的光阻容器、排泡裝置(6)、注射泵(7)以及噴嘴(9)，所述注射泵(7)用于將經(jīng)所述排泡裝置(6)處理后的光阻泵送至所述噴嘴(9)，所述光阻容器為根據(jù)權(quán)利要求1-5中任意一項(xiàng)所述的光阻容器。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的涂布機(jī)光阻供應(yīng)系統(tǒng)，其特征在于，所述涂布機(jī)光阻供應(yīng)系統(tǒng)包括多個(gè)所述光阻容器，每個(gè)所述光阻容器分別與所述排泡裝置(6)相連。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的涂布機(jī)光阻供應(yīng)系統(tǒng)，其特征在于，所述光阻容器和排泡裝置(6)之間設(shè)有用于緩存光阻的中間容器(10)。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的涂布機(jī)光阻供應(yīng)系統(tǒng)，其特征在于，所述涂布機(jī)光阻供應(yīng)系統(tǒng)包括用于監(jiān)測(cè)所述注射泵(7)的壓力的壓力表(8)。

10.根據(jù)權(quán)利要求6-9中任意一項(xiàng)所述的涂布機(jī)光阻供應(yīng)系統(tǒng)，其特征在于，所述涂布機(jī)光阻供應(yīng)系統(tǒng)包括一次過濾器(11)和二次過濾器(12)，所述一次過濾器(11)設(shè)置在所述排泡裝置(6)和所述注射泵(7)之間，所述二次過濾器(12)設(shè)置在所述注射泵(7)和所述噴嘴(9)之間。