[實用新型]光阻容器及涂布機光阻供應系統

有效

• 申請號: 201820308806.0
• 申請日: 2018-03-06
• 公開（公告）號: CN208098509U
• 公開（公告）日: 2018-11-16
• 發明（設計）人: 汪杰;陳聰文;聶行健;趙敏
• 申請（專利權）人: 東旭（昆山）顯示材料有限公司;東旭集團有限公司;東旭科技集團有限公司
• 主分類號: B05C11/10
• 分類號: B05C11/10;G03F7/16
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司 11283
• 代理人: 王亞男;鄺圓暉

本實用新型涉及半導體制造領域，具體公開了一種光阻容器及涂布機光阻供應系統。所述光阻容器包括：漏斗式殼體(1)、動力裝置、涂布管路、流量計(2)以及用于控制所述動力裝置操作的控制單元，所述漏斗式殼體具有頂部開口和底部出液口，所述動力裝置用于封閉所述頂部開口并對所述開口加壓以推動光阻從出液口排出，所述涂布管路連接于所述出液口，所述流量計設置在所述涂布管路的靠近所述出液口的位置。本實用新型能夠基本上無殘留的將光阻推動送出，有效提高光阻的利用率，替代了傳統氣體加壓方式，能夠避免容器爆炸風險。此外，通過在涂布管路上設置有流量計，可根據流量數據反饋，使得動力裝置實現自動調整以保持穩定的推動力。

技術領域

本實用新型屬于半導體制造領域，具體地涉及一種光阻容器及涂布機光阻供應系統。

背景技術

TFT-LCD及半導體行業中，光阻劑的應用十分廣泛，例如，彩色濾光片的生產就需要光阻劑。但是，在彩色濾光片的生產過程中，經常會產生由于光阻劑涂布不均勻、光阻劑脫落、異物干擾等引起的光阻劑缺失不良的問題。對于這些問題，通常采用光阻劑涂覆的方法進行修理。

光阻劑涂覆需要使用涂布機光阻供應系統，現有的光阻供應系統如圖1所示，由依次連接的光阻桶13、中間容器10、排泡裝置6、一次過濾器11、注射泵7、壓力表8、二次過濾器12以及噴嘴9組成，光阻劑在材質為PE的光阻桶13中經CDA(空氣壓縮)加壓推動進入中間容器10，再依次經過排泡、過濾過程最終從噴嘴噴出。其中，光阻桶13的桶口處有安裝壓力計和瀉壓閥，當桶內壓力過大時(超過上限值)，瀉壓閥打開瀉壓，防止光阻桶13發生爆炸。

但是現有的涂布機光阻供應系統存在以下缺點：①光阻桶13內容易殘余光阻，無法實現充分利用；②采用CDA氣體加壓容易使光阻內混入氣泡，造成產品缺陷；③氣體加壓容易導致光阻桶發生爆炸。

實用新型內容

本實用新型的目的是為了克服現有技術存在的光阻殘余問題，提供一種光阻容器，該容器在自身的形狀結構與動力裝置的推動力相配合下能夠完全將光阻推出，使得容器內無光阻殘留，從而有效提高光阻的利用率。

為了實現上述目的，本實用新型一方面提供一種光阻容器，該光阻容器包括：

漏斗式殼體，該漏斗式殼體用于儲存光阻，所述漏斗式殼體具有設置在頂部的開口和設置在底部的出液口；

動力裝置，該動力裝置用于封閉所述開口并對所述儲存在所述漏斗式殼體內的光阻加壓以推動所述光阻從所述出液口排出；

涂布管路，該涂布管路用于輸送光阻并連接于所述出液口；

流量計，該流量計用于監測光阻流量，所述流量計設置在所述涂布管路的靠近所述出液口的位置；

控制單元，該控制單元用于控制所述動力裝置操作，所述控制單元與所述流量計電連接。

優選地，所述動力裝置為氣缸，所述氣缸包括缸體和設置在所述缸體內的活塞桿，所述缸體與所述漏斗式殼體呈密封的一體設置。

優選地，所述漏斗式殼體包括圓筒部和設置在所述圓筒部下方的錐斗部，所述圓筒部的頂部完全開放以形成所述開口，所述動力裝置包括與所述開口形狀適配的擋板、與所述擋板相連的連桿以及驅動該連桿往復運動的驅動件。

優選地，所述圓筒部包括呈階梯狀同軸設置的上桶體和下桶體，所述上桶體的直徑小于所述下桶體的直徑，所述上桶體的頂部完全開放以形成所述開口，所述下桶體的底部與所述錐斗部相連。

優選地，所述漏斗式殼體為透明殼體。

本實用新型第二方面提供一種涂布機光阻供應系統，包括依次連接的光阻容器、排泡裝置、注射泵以及噴嘴，所述注射泵用于將經所述排泡裝置處理后的光阻泵送至所述噴嘴，所述光阻容器為上述的光阻容器。