[實(shí)用新型]一種真空槽有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820301502.1 | 申請日： | 2018-03-05 |
| 公開（公告）號： | CN207938579U | 公開（公告）日： | 2018-10-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 張運(yùn);孫者利 | 申請（專利權(quán)）人： | 濟(jì)南卓微電子有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/67 | 分類號： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 250200 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 真空槽體 緩沖室 真空槽 本實(shí)用新型 兩側(cè)設(shè)置 上端口 底部密封 法蘭連接 緩沖作用 兩端設(shè)置 上端敞口 更換槽 耐磨層 室內(nèi)壁 真空泵 產(chǎn)能 緩沖 平行 施加 節(jié)約 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種真空槽,包括真空槽體，其特征在于：在所述真空槽體兩側(cè)設(shè)置真空的緩沖室，在所述緩沖室的兩端設(shè)置法蘭連接真空泵，所述緩沖室是底部密封上端敞口的容器，所述緩沖室的上端口與所述真空槽體的上端口平行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空槽，其特征在于：在所述真空槽體和所述緩沖室的內(nèi)壁貼覆耐磨材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空槽，其特征在于：所述耐磨材料為非金屬耐磨材料，所述非金屬耐磨材料為橡膠、尼龍。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空槽，其特征在于：所述緩沖室的高度h是所述真空槽體高度H的五分之一。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空槽，其特征在于：所述緩沖室寬度l是所述真空槽體寬度L的八分之一。
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H01 基本電氣元件
H01L 半導(dǎo)體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導(dǎo)體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
