[實(shí)用新型]一種可改變自轉(zhuǎn)周期的蒸鍍行星鍋有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820292363.0 | 申請日: | 2018-03-02 |
| 公開(公告)號: | CN207918944U | 公開(公告)日: | 2018-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王玉泉 | 申請(專利權(quán))人: | 丹東英普朗特科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24 |
| 代理公司: | 沈陽優(yōu)普達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 俞魯江 |
| 地址: | 118009 遼寧省丹*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 行星 硅晶圓 支撐臂 自轉(zhuǎn) 本實(shí)用新型 齒型凹槽 自轉(zhuǎn)周期 可改變 承片 齒圈 通孔 蒸鍍 支架 坩堝 軌道 蒸發(fā) 電子束轟擊 電機(jī)帶動 外側(cè)設(shè)置 支架固定 齒嚙合 轉(zhuǎn)軸軸 鍋蓋 電機(jī) | ||
本實(shí)用新型公開一種可改變自轉(zhuǎn)周期的蒸鍍行星鍋,包括電機(jī)、支架、支撐臂、行星鍋及坩堝;電機(jī)帶動支架旋轉(zhuǎn),支撐臂的一端與支架固定,支撐臂的另外一端與行星鍋的轉(zhuǎn)軸軸接;行星鍋外緣設(shè)置齒,軌道上設(shè)置與所述齒嚙合的齒型凹槽,行星鍋在軌道上自轉(zhuǎn);電子束轟擊坩堝內(nèi)的源,源內(nèi)物質(zhì)均勻蒸發(fā)到即公轉(zhuǎn)又自轉(zhuǎn)的行星鍋內(nèi),從而均勻蒸發(fā)到固定在行星鍋內(nèi)側(cè)的硅晶圓上;行星鍋上設(shè)置多個(gè)通孔,所述通孔內(nèi)設(shè)置承片圈,硅晶圓設(shè)置在所述承片圈內(nèi);所述硅晶圓外側(cè)設(shè)置鍋蓋。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是:由于行星鍋的齒圈可換,因此,可更改齒的結(jié)構(gòu)及大小,將齒圈與軌道上的齒型凹槽進(jìn)行更改從而可更改行星鍋的自轉(zhuǎn)速度。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及電子技術(shù)領(lǐng)域,具體說是一種蒸鍍裝置。
背景技術(shù)
現(xiàn)有的蒸鍍設(shè)備結(jié)構(gòu)形式很多,典型的是硅晶圓緊貼行星鍋體,該結(jié)構(gòu)在蒸發(fā)過程中造成硅晶圓與行星鍋粘連,造成硅晶圓在取出時(shí)碎裂;現(xiàn)有的行星鍋的自轉(zhuǎn)一般采用結(jié)構(gòu)復(fù)雜的驅(qū)動系統(tǒng),不僅成本較高,而且穩(wěn)定性不好。
實(shí)用新型內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型的目的是提供一種行星鍋,可有效解決上述技術(shù)問題,具體技術(shù)方案如下:
一種蒸鍍行星鍋,包括電機(jī)、支架、支撐臂、行星鍋及坩堝;電機(jī)帶動支架旋轉(zhuǎn),支撐臂的一端與支架固定,支撐臂的另外一端與行星鍋的轉(zhuǎn)軸軸接;行星鍋外緣設(shè)置齒,軌道上設(shè)置與所述齒嚙合的齒型凹槽,行星鍋在軌道上自轉(zhuǎn);電子束轟擊坩堝內(nèi)的源,源內(nèi)物質(zhì)均勻蒸發(fā)到即公轉(zhuǎn)又自轉(zhuǎn)的行星鍋內(nèi),從而均勻蒸發(fā)到固定在行星鍋內(nèi)側(cè)的硅晶圓上;行星鍋上設(shè)置多個(gè)通孔,所述通孔內(nèi)設(shè)置承片圈,硅晶圓設(shè)置在所述承片圈內(nèi);所述硅晶圓外側(cè)設(shè)置鍋蓋。
所述行星鍋邊緣的齒設(shè)置在圓形齒圈上,所述齒圈與行星鍋有螺母固定。
本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是:
由于行星鍋的齒圈可換,因此,可更改齒的結(jié)構(gòu)及大小,將齒圈與軌道上的齒型凹槽進(jìn)行更改從而可更改行星鍋的自轉(zhuǎn)速度。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖具體說明本實(shí)用新型,如圖所示,本實(shí)用新型包括電機(jī)1、支架2、支撐臂3、行星鍋4及坩堝6;電機(jī)1帶動支架2旋轉(zhuǎn),支撐臂3的一端與支架2固定,支撐臂3的另外一端與行星鍋4的轉(zhuǎn)軸軸接;行星鍋4邊緣設(shè)置齒圈5,齒圈5的齒與軌道8上齒型凹槽嚙合,使得行星鍋4自轉(zhuǎn);電子束轟擊坩堝6內(nèi)的源7,源內(nèi)物質(zhì)均勻蒸發(fā)到即公轉(zhuǎn)又自轉(zhuǎn)的行星鍋4內(nèi),從而均勻蒸發(fā)到固定在行星鍋內(nèi)側(cè)的硅晶圓上;行星鍋上設(shè)置多個(gè)通孔,硅晶圓外側(cè)設(shè)置鍋蓋。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





