[實用新型]一種基片裝夾裝置

有效

• 申請號: 201820287578.3
• 申請日: 2018-02-28
• 公開（公告）號: CN207834332U
• 公開（公告）日: 2018-09-07
• 發明（設計）人: 劉旭
• 申請（專利權）人: 北京創昱科技有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18;H01L21/687
• 代理公司: 北京維澳專利代理有限公司 11252
• 代理人: 周放;張應

本實用新型公開了一種基片裝夾裝置，通過將設置壓片第二端遠離所述載板，使得所述壓片第二端可通過旋轉帶動所述壓片第一端與所述基片接觸或分離，如此可避免在載板上打孔，壓片本身即可實現壓裝基片，從而避免濺射材料穿過載板通孔濺射到基片側圍；本實用新型結構簡單，應用方便。

技術領域

本實用新型涉及太陽能電池加工領域，尤其涉及一種基片裝夾裝置。

背景技術

物理氣相沉積(PVD)是指利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以使某些有特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。PVD基本方法：真空蒸發、濺射、離子鍍等。

在競爭越發激烈的半導體和太陽能生產中，為了實現規模效應以降低成本、增加產品的競爭力，越來越多的工廠在推動生產的自動化，而基片的裝卸載就是其中很重要的一部分內容。

在通常的自動化應用中，有一種基片裝夾機構，在載板上設置基座，在基座上通過扭簧軸連接一個活動的壓片，壓片下方的載板上設置通孔，驅動機構穿過該通孔與壓片接觸并驅動壓片的端部打開，從而將基片夾持在壓片的端部與載板之間；釋放基片的過程反之。

在常規的應用中，該機構并沒有問題，但是在一些特殊的鍍膜材料和鍍膜要求下，例如GaAs薄膜柔性太陽能電池片的生產中，嚴格要求了不允許繞鍍的存在，尤其是該工藝中包含了某種很容易產生繞鍍的材料，該材料濺射工藝時，濺射材料會通過通孔繞鍍到基片周側，因此此種結構無法使用。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種基片裝夾裝置，以解決現有技術中的問題，避免濺射材料繞鍍到基片周側。

本實用新型提供了一種基片裝夾裝置，所述基片裝夾裝置包括：

設置在載板上的基座，所述基座與濺射源位于所述載板的相對兩側；

與所述基座軸連接的壓片，且所述壓片第一端用于將基片壓裝在所述載板上；

所述壓片第二端遠離所述載板，且所述壓片第二端可通過旋轉帶動所述壓片第一端與所述基片接觸或分離。

作為優選，所述壓片第二端包括弧形凸部，當所述壓片第一端與基片接觸時，所述弧形凸部向遠離載板的一側偏曲。

作為優選，所述基片裝夾裝置還包括：驅動機構，所述驅動機構設置在載板的靠近基座的一側，所述驅動機構用于驅動所述壓片第二端旋轉。

作為優選，所述驅動機構包括連接的動力機與推動桿，所述推動桿與所述壓片第二端接觸且用于驅動所述壓片旋轉。

作為優選，所述驅動機構還包括轉接板，所述動力機通過所述轉接板與所述推動桿連接，且所述轉接板可與多個推動桿連接。

作為優選，所述推動桿上與所述壓片第二端接觸的一端為圓弧形。

作為優選，所述壓片第一端與基片的接觸處設置有壓裝凸部，所述壓裝凸部用于與基片接觸，并將所述基片壓裝在所述載板上。

作為優選，所述壓片第一端與基片的接觸處設置有壓裝凹臺，所述壓裝凹臺用于與基片接觸，并將所述基片壓裝在所述載板上。

作為優選，所述壓片與所述基座之間還設置有扭簧。

本實用新型提供的基片裝夾裝置，通過將設置壓片第二端遠離所述載板，使得所述壓片第二端可通過旋轉帶動所述壓片第一端與所述基片接觸或分離，如此可避免在載板上打孔，壓片本身即可實現壓裝基片，從而避免濺射材料穿過載板通孔濺射到基片側圍；本實用新型結構簡單，應用方便。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例提供的基片裝夾裝置的結構示意圖；