[實用新型]一種基片裝夾裝置有效
| 申請號: | 201820285583.0 | 申請日: | 2018-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN208054442U | 公開(公告)日: | 2018-11-06 |
| 發明(設計)人: | 劉旭 | 申請(專利權)人: | 北京創昱科技有限公司 |
| 主分類號: | B65G49/06 | 分類號: | B65G49/06 |
| 代理公司: | 北京維澳專利代理有限公司 11252 | 代理人: | 周放;張應 |
| 地址: | 102299 北京市昌平*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 通孔 壓片 阻擋件 本實用新型 裝夾裝置 載板 濺射材料 驅動機構 相對兩側 基座軸 濺射源 側圍 壓裝 穿過 驅動 應用 | ||
本實用新型公開了一種基片裝夾裝置,包括:設置在載板上的基座,所述基座與濺射源位于所述載板的相對兩側;與所述基座軸連接的壓片,且所述壓片用于將基片壓裝在所述載板上;設置在載板的遠離基座的一側的驅動機構,壓片處的載板上設置有通孔,所述驅動機構穿過所述通孔,且用于驅動所述壓片旋轉;阻擋件,所述阻擋件位于所述基片與所述通孔之間,且所述阻擋件設置在所述壓片與所述載板之間。本實用新型提供的基片裝夾裝置,通過在基片與通孔之間設置阻擋件,且阻擋件位于壓片與所述載板之間,從而實現對濺射材料從通孔到達基片側圍通道的阻斷,避免濺射材料通過通孔繞鍍到基片周側;本實用新型結構簡單,應用方便。
技術領域
本實用新型涉及太陽能電池加工領域,尤其涉及一種基片裝夾裝置。
背景技術
物理氣相沉積(PVD)是指利用物理過程實現物質轉移,將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以使某些有特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上,使得母體具有更好的性能。PVD基本方法:真空蒸發、濺射、離子鍍等。
在競爭越發激烈的半導體和太陽能生產中,為了實現規模效應以降低成本、增加產品的競爭力,越來越多的工廠在推動生產的自動化,而基片的裝卸載就是其中很重要的一部分內容。
在通常的自動化應用中,有一種基片裝夾機構,在載板上設置基座,在基座上通過扭簧軸連接一個活動的壓片,壓片下方的載板上設置通孔,驅動機構穿過該通孔與壓片接觸并驅動壓片的端部打開,從而將基片夾持在壓片的端部與載板之間;釋放基片的過程反之。
在常規的應用中,該機構并沒有問題,但是在一些特殊的鍍膜材料和鍍膜要求下,例如GaAs薄膜柔性太陽能電池片的生產中,嚴格要求了不允許繞鍍的存在,尤其是該工藝中包含了某種很容易產生繞鍍的材料,該材料濺射工藝時,濺射材料會通過通孔繞鍍到基片周側,因此此種結構無法使用。
實用新型內容
本實用新型的目的是提供一種基片裝夾裝置,以解決現有技術中的問題,避免濺射材料繞鍍到基片周側。
本實用新型提供了一種基片裝夾裝置,所述基片裝夾裝置包括:
設置在載板上的基座,所述基座與濺射源位于所述載板的相對兩側;
與所述基座軸連接的壓片,且所述壓片用于將基片壓裝在所述載板上;
設置在載板的遠離基座的一側的驅動機構,壓片處的載板上設置有通孔,所述驅動機構穿過所述通孔,且用于驅動所述壓片旋轉;
所述基片裝夾裝置還包括:
阻擋件,所述阻擋件位于所述基片與所述通孔之間,且所述阻擋件設置在所述壓片與所述載板之間。
作為優選,所述阻擋件包括方形的阻擋塊,當所述壓片將基片壓裝在所述載板上時,所述阻擋塊與所述壓片和/或所述載板相貼。
作為優選,所述阻擋件為所述壓片上的凸起和/或所述載板上的凸起。
作為優選,所述載板和/或所述壓片上設有與所述壓片上的凸起和/或所述載板上的凸起對應的容納槽,當所述壓片將所述基片壓裝在所述載板上時,所述凸起伸入所述容納槽,且與所述容納槽底部相貼。
作為優選,所述壓片上與所述基片的接觸處設置有壓裝凸部,所述壓裝凸部用于與基片接觸,并將所述基片壓裝在所述載板上。
作為優選,所述阻擋件的高度大于所述基片的厚度。
作為優選,所述壓片上與基片的接觸處設置有壓裝凹臺,所述壓裝凹臺與所述基片接觸,并將所述基片壓裝在所述載板上。
作為優選,所述驅動機構包括連接的動力機與推動桿,所述推動桿穿過所述通孔,且用于驅動所述壓片旋轉。
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