[實用新型]一種帶有過濾功能的金屬弧靶

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201820279750.0
• 申請日: 2018-02-27
• 公開（公告）號: CN208087736U
• 公開（公告）日: 2018-11-13
• 發(fā)明（設計）人: 趙中紅;劉偉;胡曉忠
• 申請（專利權(quán)）人: 溫州馳誠真空機械有限公司
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32
• 代理公司: 溫州名創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 33258
• 代理人: 陳加利

本實用新型涉及一種帶有過濾功能的金屬弧靶，包括安裝座，安裝座上設置有金屬靶源以及電極座，金屬靶源上設置有濺射面，安裝座位于濺射面位置設置有過濾擋板，過濾擋板包括沿遠離濺射面外徑逐漸變小的若干環(huán)狀擋板以及封閉外徑最小環(huán)狀擋板環(huán)口的環(huán)口封閉板，相鄰環(huán)狀擋板中，外徑較大的環(huán)狀擋板的內(nèi)徑小于外徑較小的環(huán)狀擋板的外徑，相鄰環(huán)狀擋板之間設置有用于連接兩環(huán)狀擋板的連接件。采用上述方案，提供一種通過在濺射面位置設置層層相疊的環(huán)狀擋板構(gòu)成過濾擋板，使得濺射出來的金屬顆粒撞擊于環(huán)狀擋板上而無法到達被鍍金屬表面，而電子及金屬離子可通過外加磁場引出的方式穿過過濾擋板，從而實現(xiàn)高質(zhì)量的多弧離子鍍的一種帶有過濾功能的金屬弧靶。

技術領域

本實用新型涉及真空鍍膜中的多弧離子鍍領域，具體是指一種帶有過濾功能的金屬弧靶。

背景技術

真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍工件于真空腔內(nèi)，采用蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜或者多弧離子鍍的方式加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

其中多弧離子鍍是目前較為高端且廣泛的鍍膜方式，采用電子轟擊真空腔內(nèi)的氣體分子，使氣體分子電離，并通過電離的氣體分子轟擊靠近陰極側(cè)的金屬弧靶，使金屬弧靶濺射出金屬離子，從而使得濺射出的金屬離子飛濺并鍍于被鍍工件表面，使得工件表面形成多弧離子鍍。

但是現(xiàn)有的真空鍍膜機由于氣體分子在轟擊金屬靶時，不但轟擊出了金屬離子，而且還轟擊出了金屬固體顆粒，因此金屬固體殼體在濺射過程中，同樣會濺射于被鍍工件表面，使得被鍍工件表面即含有金屬離子還含有金屬顆粒，使得金屬離子的鍍層中含有金屬顆粒雜質(zhì)，從而降低了鍍層的質(zhì)量。

發(fā)明內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術存在的不足，本實用新型的目的在于提供一種通過在濺射面位置設置層層相疊的環(huán)狀擋板構(gòu)成過濾擋板，使得濺射出來的金屬顆粒撞擊于環(huán)狀擋板上而無法到達被鍍金屬表面，而電子及金屬離子可通過外加磁場引出的方式穿過過濾擋板，從而實現(xiàn)高質(zhì)量的多弧離子鍍的一種帶有過濾功能的金屬弧靶。

為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供了如下技術方案：包括安裝座，所述安裝座上設置有用于鍍至被鍍工件表面的金屬靶源以及與陰極相連的電極座，所述金屬靶源上設置有一受轟擊并濺射出電子、金屬離子及金屬顆粒的濺射面，所述金屬靶源連接設置于電極座，所述安裝座位于濺射面位置設置有用于過濾濺射面上濺射出來的金屬顆粒的過濾擋板，所述過濾擋板包括沿遠離濺射面外徑逐漸變小的若干環(huán)狀擋板以及用于封閉外徑最小的環(huán)狀擋板的環(huán)口的環(huán)口封閉板，相鄰所述環(huán)狀擋板中，外徑較大的環(huán)狀擋板的內(nèi)徑小于外徑較小的環(huán)狀擋板的外徑，相鄰所述環(huán)狀擋板之間設置有用于連接兩環(huán)狀擋板的連接件。

通過采用上述技術方案，電極座接上陰極之后便可使金屬靶源呈現(xiàn)出陰極性質(zhì)，因此便可吸引來電離的氣體分子轟擊濺射面，使濺射面無規(guī)則朝四周濺射出電子、金屬離子及金屬顆粒，為了使金屬顆粒無法到達被鍍工件表面，在濺射面位置設置層層相疊的環(huán)狀擋板構(gòu)成過濾擋板，且相鄰環(huán)狀擋板中，外徑較大的環(huán)狀擋板的內(nèi)徑小于外徑較小的環(huán)狀擋板的外徑，使兩者之間構(gòu)成一定相交的區(qū)域，因此濺射出來的金屬顆粒若想跨過過濾擋板必定撞擊于環(huán)狀擋板，使得金屬顆粒大部分撞擊于不同的環(huán)狀擋板上而失去動能而掉落，從而實現(xiàn)對金屬顆粒的阻擋，而電子及金屬離子雖然可會撞擊于環(huán)狀擋板，但是可通過外加磁場引出的方式穿過過濾擋板而成功朝被鍍工件表面移動，并最終使金屬離子鍍于被鍍工件表面，形成高質(zhì)量的多弧離子鍍，從而克服了傳統(tǒng)鍍膜中摻雜金屬顆粒雜質(zhì)的低質(zhì)量鍍膜法。

本實用新型進一步設置為：所述環(huán)狀擋板數(shù)量為5片，外徑從大到小分別為第一擋板、第二擋板、第三擋板、第四擋板及第五擋板。

通過采用上述技術方案，環(huán)狀擋板數(shù)量為5片的設置，使得可供金屬離子及電子穿出的位置增多，從而提高了鍍膜的效率。