[實用新型]一種激光濺射離子源

有效

• 申請號: 201820178108.3
• 申請日: 2018-02-01
• 公開（公告）號: CN207752964U
• 公開（公告）日: 2018-08-21
• 發明（設計）人: 徐春風;胡修穩;張鋒
• 申請（專利權）人: 合肥美亞光電技術股份有限公司
• 主分類號: H01J49/14
• 分類號: H01J49/14;H01J49/10
• 代理公司: 合肥市浩智運專利代理事務所(普通合伙) 34124
• 代理人: 丁瑞瑞

本實用新型公開了一種激光濺射離子源，該離子源包括靶體、離子通道、脈沖閥、激光器，所述離子通道與脈沖閥固定在安裝座上，所述的離子通道連接脈沖閥，所述的離子通道上設有通光孔，所述的激光器出射的激光通過通光孔打在靶體的轟擊面，所述靶體外周套設有靶體套筒，靶體套筒通過靶體安裝座與驅動機構連接，所述驅動機構包括帶動靶體橫向往復移動的第一驅動機構和帶動靶體縱向往復移動的第二驅動機構；所述靶體套筒內還設有彈力單元，所述彈力單元的一端與遠離靶體轟擊面的一端抵接，另一端與靶體安裝座抵接，實現靶體的轟擊面緊貼離子通道。

技術領域

本實用新型涉及離子源發生裝置技術領域，更具體涉及一種激光濺射離子源。

背景技術

激光濺射離子源作為一種穩定的質譜離子源，正在被廣泛使用。此離子源的原理是利用一束脈沖激光束照射金屬靶體產生離子，配合脈沖閥將離子送往后面的質譜分析部分。實驗過程中發現，若激光束持續照射靶體上同一點，靶體上很快會被“轟擊”出一個深孔，導致產生的離子無法有效輸送到下一級，探測器觀測到的信號明顯減弱甚至觀測不到信號，從而需要頻繁更換靶體，給使用帶來極大不便。

公開號為CN206819968U的中國實用新型專利公開了一種激光濺射離子源的發生裝置，該發生裝置包括離子源的靶體，還包括反應源，所述反應源上設有一通孔，還包括設置于反應源后側的脈沖激光器，所述脈沖激光器射出的激光束經過透鏡聚焦后穿過通孔打在靶體前端的A面上；所述靶體前端的A面與反應源前側的B面面接觸，所述靶體相對反應源前側的B面做自轉和上下往復滑動的動作。通過靶體上下方向上的運動并結合靶體的自傳運動，可以使位置固定的激光束照射在靶面的每個部位上，能夠對靶體的靶面材料進行較為全面的燒蝕和利用。上述發生裝置結構結構復雜，不易實現。因此，需要提供一種新的結構簡單、易于實現的激光濺射離子源的發生裝置。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題在于如何提高靶體利用率，同時，保證激光濺射離子源結構簡單、易于實現。

本實用新型是通過以下技術方案解決上述技術問題的：

一種激光濺射離子源，包括靶體、離子通道、脈沖閥、激光器，所述離子通道與脈沖閥固定在安裝座上，所述的離子通道連接脈沖閥，所述的離子通道上設有通光孔，所述的激光器出射的激光通過通光孔打在靶體的轟擊面，所述靶體外周套設有靶體套筒，靶體套筒通過靶體安裝座與驅動機構連接，所述驅動機構包括帶動靶體橫向往復移動的第一驅動機構和帶動靶體縱向往復移動的第二驅動機構；

所述靶體套筒內還設有彈力單元，所述彈力單元的一端與遠離靶體轟擊面的一端抵接，另一端與靶體安裝座抵接，實現靶體的轟擊面緊貼離子通道。

進一步地，所述靶體套筒設有軸向且向內的至少一個凸緣，所述靶體上開設有與上述凸緣相配合的軸向的凹槽，所述靶體沿靶體套筒長度方向套設在靶體套筒內。

進一步地，所述靶體在遠離靶體轟擊面的一端設有可拆卸的裝配體，所述裝配體與所述彈力單元的一端抵接。

進一步地，所述裝配體為中空腔體結構，所述靶體在遠離靶體轟擊面的一端設有一桿，所述桿插在所述中空腔體結構中并通過緊定件固定。

進一步地，所述裝配體上設有凹槽，所述凹槽與靶體套筒上的凸緣相配合，所述裝配體沿靶體套筒凸緣長度方向安裝在靶體套筒中。

進一步地，所述第一驅動機構包括X軸步進電機、X軸絲杠導軌、X軸推進擋塊和X軸滑臺，所述X軸步進電機的主軸通過聯軸器連接X軸絲杠導軌中的絲杠，所述的X軸推進擋塊設置在X軸絲杠導軌中的絲杠上，沿著絲杠軸向移動，所述的X軸滑臺固定在X軸推進擋塊上；

所述的第二驅動機構包括Y軸步進電機、Y軸絲杠導軌、Y軸推進擋塊和Y軸滑臺，所述的Y軸步進電機的主軸通過聯軸器連接Y軸絲杠導軌中的絲杠，所述的Y軸推進擋塊設置在Y軸絲杠導軌中的絲杠上，沿著絲杠軸向移動，所述的Y軸滑臺固定在Y軸推進擋塊上；