[實用新型]一種應用于Aixtron Crius II機型的石墨盤

有效

• 申請號: 201820793500.9
• 申請日: 2018-05-25
• 公開（公告）號: CN208201121U
• 公開（公告）日: 2018-12-07
• 發明（設計）人: 朱耀強;周佐華;徐平
• 申請（專利權）人: 湘能華磊光電股份有限公司
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458
• 代理公司: 長沙七源專利代理事務所(普通合伙) 43214
• 代理人: 鄭雋;吳婷

1.一種應用于Aixtron Crius II機型的石墨盤，包括：盤體(1)、放片槽(2)、限位塊(3)、第一臺階(4)、溝槽(5)、凸臺(6)、第二臺階(7)、第三臺階(8)；其特征在于：所述放片槽(2)通過嵌入方式設置在盤體(1)上；所述限位塊(3)通過嵌入方式設置在放片槽(2)的內壁上；所述溝槽(5)位于放片槽(2)的底端；所述第一臺階(4)設置在溝槽(5)的一側；所述凸臺(6)設置在溝槽(5)的另一側；所述第二臺階(7)設置在凸臺(6)的另一側；所述第三臺階(8)設置在第二臺階(7)的另一側。

2.根據權利要求1所述的一種應用于Aixtron Crius II機型的石墨盤，其特征在于：所述放片槽(2)共設置有十四個，且放片槽(2)在盤體(1)上呈環形陣列狀分布有兩圈，放片槽(2)在內圈設置的數目為四個，在外圈設置的數目為十個。

3.根據權利要求1所述的一種應用于Aixtron Crius II機型的石墨盤，其特征在于：所述放片槽(2)頂端與盤體(1)的連接處設置有圓角過渡。

4.根據權利要求1所述的一種應用于Aixtron Crius II機型的石墨盤，其特征在于：所述限位塊(3)的俯視面呈“Ω”形，且每個放片槽(2)內均設置有六個限位塊，限位塊在放片槽(2)的內壁上呈環形陣列狀分布。

5.根據權利要求1所述的一種應用于Aixtron Crius II機型的石墨盤，其特征在于：所述溝槽(5)的寬度設置為0-1毫米。

6.根據權利要求1所述的一種應用于Aixtron Crius II機型的石墨盤，其特征在于：所述第一臺階(4)頂端與溝槽(5)頂端之間的高度差設置為0-0.25毫米。

7.根據權利要求1所述的一種應用于Aixtron Crius II機型的石墨盤，其特征在于：所述凸臺(6)的剖切面呈弧形狀，且凸臺(6)最頂端與溝槽(5)頂端之間的高度差設置為0-0.02毫米。

8.根據權利要求1所述的一種應用于Aixtron Crius II機型的石墨盤，其特征在于：所述第二臺階(7)頂端與凸臺(6)最低端之間的高度差設置為0-0.03毫米。

9.根據權利要求1所述的一種應用于Aixtron Crius II機型的石墨盤，其特征在于：所述第三臺階(8)頂端與第二臺階(7)頂端之間的高度差設置為0-0.03毫米。