[實用新型]蒸鍍坩堝以及具有其的真空蒸鍍裝置

有效

• 申請號: 201820149620.5
• 申請日: 2018-01-29
• 公開（公告）號: CN207775339U
• 公開（公告）日: 2018-08-28
• 發明（設計）人: 吳新風;李菲;胡友元;欒夢雨;王欣竹;李慧慧;楊凱
• 申請（專利權）人: 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 黃德海

本實用新型公開了一種蒸鍍坩堝以及具有其的真空蒸鍍裝置。所述蒸鍍坩堝包括：坩堝本體、伸縮件，所述坩堝本體具有容納腔以及至少一個與所述容納腔相連通的排出口，所述容納腔用于容納待蒸鍍的源材料，所述伸縮件設置在所述排出口的內側，所述伸縮件具有用于供蒸發后的源材料排出容納腔外的蒸發孔，所述伸縮件被構造成可在電場和/或磁場作用下伸縮以相應控制所述蒸發孔縮小或擴大。該蒸鍍坩堝反應靈敏、能夠更精確地控制蒸發源的蒸發速率。

技術領域

本實用新型涉及真空蒸鍍技術領域，尤其涉及一種蒸鍍坩堝及具有其的真空蒸鍍裝置。

背景技術

相關技術中，真空鍍膜的工藝是將預蒸鍍的源材料放置于蒸鍍坩堝中，通過加熱至特定溫度的方式，使源材料汽化、蒸發或升華并通過蒸發孔，最終以穩定的蒸發速率凝聚在待成膜的背板表面，并在背板表面上形成均一穩定的膜層。

然而，在鍍膜過程中控制源材料的蒸發速率的穩定性是關鍵點。一般是通過控制蒸發源的溫度或待蒸鍍背板的溫度來控制蒸發速率。當溫度控制不當或源材料本身存在較大的顆粒，會導致源材料在蒸發孔不斷沉積并長大，進而堵塞蒸發孔。若蒸發孔部分堵塞會導致膜厚不均勻，影響膜層質量和產品性能；若蒸發孔全部堵塞導致成膜無法繼續進行，而且還會導致蒸鍍坩堝內剩余材料的溫度的局部上升，最終也會因影響源材料的繼續使用而造成較大的浪費。

為解決蒸發孔的堵塞問題，公開號為CN205329148U的中國專利中公開了一種真空蒸發源裝置，通過采用開口可變式蓋板以改變蒸發孔的開口，進而解決蒸發孔容易堵塞的問題，該開口采用可變光闌，通過機械驅動裝置以驅動開口變化。上述結構采用機械驅動方式控制開口變化，由于傳動機構較多，會出現反應不夠靈敏、響應不夠及時等問題，而且機械驅動裝置占用空間較大、成本較高、不方便布置。

實用新型內容

本實用新型旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本實用新型提出一種蒸鍍坩堝，該蒸鍍坩堝反應靈敏、能夠更精確地控制蒸發源的蒸發速率。

本實用新型還提出了一種具有該蒸鍍坩堝的真空蒸鍍裝置。

根據本實用新型第一方面實施例的蒸鍍坩堝包括：坩堝本體、伸縮件，所述坩堝本體具有容納腔以及至少一個與所述容納腔相連通的排出口，所述容納腔用于容納待蒸鍍的源材料，所述伸縮件設置在所述排出口的內側，所述伸縮件具有用于供蒸發后的源材料排出容納腔外的蒸發孔，所述伸縮件被構造成可在電場和/或磁場作用下伸縮以相應控制所述蒸發孔縮小或擴大。

本實用新型實施例的蒸鍍坩堝，通過在坩堝本體的排出口設置能夠在磁場和/或電場作用下發生伸縮變形的伸縮件，以在形成于伸縮件上的蒸發孔在蒸鍍過程中堵塞時，通過調整磁場和/或電場來控制伸縮件收縮，進而使蒸發孔能夠擴張，最終改變了被局部堵塞的蒸發孔的有效通過面積，以使蒸發速率能夠穩定保持在合適范圍內，進而使蒸發后的源材料能夠穩定、持續地通過坩堝蒸發孔，最終在所需背板上形成分布均勻、品質好的膜層。此外，坩堝內剩余的源材料能夠在穩定溫度以及壓力下被加熱并蒸鍍，避免材料浪費、節約了成本。

根據本實用新型一個實施例的蒸鍍坩堝，所述伸縮件包括電極組件和電致伸縮體，所述電極組件用于為所述電致伸縮體生成電場。

在一些實施例中，所述電致伸縮體為套狀，所述電極組件包括第一電極和第二電極，所述第一電極連接在所述電致伸縮體和所述排出口的內壁之間，所述第二電極連接在所述電致伸縮體的內壁上，所述第二電極的內側限定出所述蒸發孔，所述第一電極和所述第二電極中的一個為陽極且另一個為陰極。

可選地，所述第二電極的形狀與所述電致伸縮體的內壁的形狀相一致，所述第二電極設有多個沿周向均布的分隔縫，所述第二電極被所述多個分隔縫分隔成多個陰極片。

在一些實施例中，所述電致伸縮體被構造成：在無電場作用時處于自然狀態、在所述電極組件的電場作用下常處于收縮狀態、在所述電場去除后從所述收縮狀態伸長并恢復至自然狀態。