[實(shí)用新型]蒸鍍坩堝以及具有其的真空蒸鍍裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201820149620.5
• 申請(qǐng)日: 2018-01-29
• 公開（公告）號(hào): CN207775339U
• 公開（公告）日: 2018-08-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 吳新風(fēng);李菲;胡友元;欒夢(mèng)雨;王欣竹;李慧慧;楊凱
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/24
• 分類號(hào): C23C14/24
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 黃德海

1.一種蒸鍍坩堝，其特征在于，包括：

坩堝本體，所述坩堝本體具有容納腔以及至少一個(gè)與所述容納腔相連通的排出口，所述容納腔用于容納待蒸鍍的源材料；

伸縮件，所述伸縮件設(shè)置在所述排出口的內(nèi)側(cè)，所述伸縮件具有用于供蒸發(fā)后的源材料排出容納腔外的蒸發(fā)孔，所述伸縮件被構(gòu)造成可在電場(chǎng)和/或磁場(chǎng)作用下伸縮以相應(yīng)控制所述蒸發(fā)孔縮小或擴(kuò)大。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述伸縮件包括電極組件和電致伸縮體，所述電極組件用于為所述電致伸縮體生成電場(chǎng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述電致伸縮體為套狀，所述電極組件包括第一電極和第二電極，所述第一電極連接在所述電致伸縮體和所述排出口的內(nèi)壁之間，所述第二電極連接在所述電致伸縮體的內(nèi)壁上，所述第二電極的內(nèi)側(cè)限定出所述蒸發(fā)孔，所述第一電極和所述第二電極中的一個(gè)為陽(yáng)極且另一個(gè)為陰極。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述第二電極的形狀與所述電致伸縮體的內(nèi)壁的形狀相一致，所述第二電極設(shè)有多個(gè)沿周向均布的分隔縫，所述第二電極被所述多個(gè)分隔縫分隔成多個(gè)陰極片。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述電致伸縮體被構(gòu)造成：在無(wú)電場(chǎng)作用時(shí)處于自然狀態(tài)、在所述電極組件的電場(chǎng)作用下常處于收縮狀態(tài)、在所述電場(chǎng)去除后從所述收縮狀態(tài)伸長(zhǎng)并恢復(fù)至自然狀態(tài)。

6.一種真空蒸鍍裝置，其特征在于，包括：

如權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的蒸鍍坩堝；

蒸發(fā)速率感應(yīng)元件，所述蒸發(fā)速率感應(yīng)元件用于檢測(cè)源材料的蒸發(fā)速率且設(shè)于所述蒸鍍坩堝外；

控制組件，所述控制組件與所述蒸發(fā)速率感應(yīng)元件電連接，所述控制組件被構(gòu)造成可根據(jù)所述蒸發(fā)速率相應(yīng)改變電場(chǎng)或磁場(chǎng)的強(qiáng)度。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述伸縮件包括電極組件和電致伸縮體，所述電極組件用于為所述電致伸縮體生成電場(chǎng)，所述控制組件包括：

信號(hào)轉(zhuǎn)化器，所述信號(hào)轉(zhuǎn)化器與所述蒸發(fā)速率感應(yīng)元件電連接以將所述蒸發(fā)速率感應(yīng)元件檢測(cè)到的信號(hào)轉(zhuǎn)化為電信號(hào)；

控制器，所述控制器與所述信號(hào)轉(zhuǎn)化器電連接以接收所述信號(hào)轉(zhuǎn)化器發(fā)出的電信號(hào)；

以及

信號(hào)發(fā)生器，所述信號(hào)發(fā)生器分別與所述控制器和所述電極組件電連接，所述控制器根據(jù)接收到的電信號(hào)調(diào)整所述信號(hào)發(fā)生器施加給所述電極組件的電壓以改變電場(chǎng)強(qiáng)度。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述控制組件被構(gòu)造成：在所述蒸發(fā)速率感應(yīng)元件檢測(cè)到的蒸發(fā)速率低于第一速率閾值時(shí)，控制所述伸縮件收縮以使所述蒸發(fā)孔擴(kuò)大，直至所述蒸發(fā)速率感應(yīng)元件檢測(cè)到的蒸發(fā)速率達(dá)到第二預(yù)設(shè)速率閾值。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述控制組件被構(gòu)造成：在所述伸縮件的收縮量達(dá)到預(yù)設(shè)值時(shí)或者在檢測(cè)到的所述蒸發(fā)速率持續(xù)低于第一速率閾值的時(shí)長(zhǎng)超過(guò)預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)時(shí)，控制所述伸縮件伸長(zhǎng)以使所述蒸發(fā)孔縮小，直至所述蒸發(fā)速率感應(yīng)元件檢測(cè)到的蒸發(fā)速率達(dá)到第二預(yù)設(shè)速率閾值。

10.根據(jù)權(quán)利要求6-9中任一項(xiàng)所述的真空蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍坩堝的個(gè)數(shù)為至少一個(gè)，所述真空蒸鍍裝置還包括：

外殼體，所述蒸鍍坩堝設(shè)于所述外殼體內(nèi)；和

加熱件，所述加熱件位于所述外殼體內(nèi)且位于所述蒸鍍坩堝外，以對(duì)所述坩堝本體進(jìn)行加熱。