[實用新型]一種硅片清洗裝置

有效

• 申請號: 201820099223.1
• 申請日: 2018-01-22
• 公開（公告）號: CN208245285U
• 公開（公告）日: 2018-12-18
• 發明（設計）人: 呂海強;鄭安;黃楊康
• 申請（專利權）人: 浙江金樂太陽能科技有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;F26B21/00;H01L21/67
• 代理公司: 寧波慈恒專利代理事務所(特殊普通合伙) 33249
• 代理人: 戚秋鵬

本實用新型公開了一種硅片清洗裝置，包括底座，所述底座為矩形空腔結構，所述底座的底端內壁的中間位置安裝有驅動電機，所述驅動電機的輸出軸末端貫穿底座的頂端側壁且連接有轉軸，所述轉軸遠離驅動電機的一端連接有放置板，所述底座的頂端側壁設置有集水板，所述底座的頂端側壁設置有環形軌道，所述環形軌道內活動安裝有兩個移動裝置，兩個移動裝置位于環形軌道的兩側，所述移動裝置上連接有支撐桿，兩根支撐桿遠離移動裝置的一端連接有放置板。本實用新型結構簡單，設計新穎，清洗效果更好，可以同時實現清洗和烘干兩個功能，不需要分步進行，省時省力，同時可以對多個硅片進行清洗，簡單方便，值得推廣。

技術領域

本實用新型涉及清洗裝置技術領域，尤其涉及一種硅片清洗裝置。

背景技術

隨著科學技術的發展，硅片的應用越來越廣，在各種領域中都得到了應用，半導體器件生產中硅片須經嚴格清洗，微量污染也會導致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染雜質，包括有機物和無機物，這些雜質有的以原子狀態或離子狀態，有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面，有機污染包括光刻膠、有機溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來的油脂或纖維，無機污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等，嚴重影響少數載流子壽命和表面電導；堿金屬如鈉等，引起嚴重漏電；顆粒污染包括硅渣、塵埃、細菌、微生物、有機膠體纖維等，會導致各種缺陷。

清除污染的方法有物理清洗和化學清洗兩種，硅片清洗時需要用到清洗裝置，但是現有技術中的清洗裝置普遍存在以下幾點缺陷：1、清洗效率低下，無法將硅片的清洗過程生產線化，通常都是將硅片一起直接放置在清洗裝置內，同一洗好后取出，然后再放置下一批硅片，十分浪費時間；2、待硅片清洗取出后還要對硅片進行甩干，先清洗后甩開的方式操作起來比較浪費人力和時間。

實用新型內容

本實用新型的目的是為了解決現有技術中存在的缺點，而提出的一種硅片清洗裝置。

為了實現上述目的，本實用新型采用了如下技術方案：

一種硅片清洗裝置，包括底座，所述底座為矩形空腔結構，所述底座的底端內壁的中間位置安裝有驅動電機，所述驅動電機的輸出軸末端貫穿底座的頂端側壁且連接有轉軸，所述轉軸遠離驅動電機的一端連接有放置板，所述底座的頂端側壁設置有集水板，所述底座的頂端側壁設置有環形軌道，所述環形軌道內活動安裝有兩個移動裝置，兩個移動裝置位于環形軌道的兩側，所述移動裝置上連接有支撐桿，兩根支撐桿遠離移動裝置的一端連接有放置板，所述放置板的上表面圓周陣列設置有放置槽，所述底座上表面兩側對稱安裝有固定桿，兩根固定桿之間固定有固定板，所述固定板上表面兩側對稱設置有水箱，所述水箱上設置有清洗裝置，所述固定板的上表面中間位置安裝有風機，所述固定板下表面的中間位置固定有安裝架，所述安裝架上安裝有電熱條。

優選的，所述集水板為環形結構，且集水板位于環形軌道的內部，集水板沿圓周方向設置有凹槽。

優選的，所述移動裝置上有移動輪和安裝板，移動輪通過軸承安裝在安裝板上，且移動輪活動安裝在環形軌道上，安裝板連接有支撐桿。

優選的，所述放置槽位于集水板的正上方，且放置槽的底端側壁上均勻設置有通水孔。

優選的，所述清洗裝置包括水管和噴嘴，水管的一端連接有水箱，另一端連接有噴嘴，噴嘴沿水管長度方向等距離設置，水管上設置有水泵。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：

將硅片放置在放置槽內，通過驅動電機和轉軸帶動放置板轉動，利用清洗裝置和風機對硅片進行清洗和烘干，硅片隨著放置板的轉動而移動，通過兩個清洗裝置可以清洗兩次，清洗效果更好，清洗完成后直接將硅片取下，然后放置下一塊硅片進行清洗，省時省力，同時可以對多個硅片進行清洗，簡單方便，值得推廣。

本實用新型結構簡單，設計新穎，清洗效果更好，可以同時實現清洗和烘干兩個功能，不需要分布進行，省時省力，同時可以對多個硅片進行清洗，簡單方便，值得推廣。