[實(shí)用新型]氯硅烷液體中和處理裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820090366.6 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-19 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207941522U | 公開(公告)日: | 2018-10-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳中明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 德山化工(浙江)有限公司 |
| 主分類號(hào): | B01J19/18 | 分類號(hào): | B01J19/18 |
| 代理公司: | 上海唯源專利代理有限公司 31229 | 代理人: | 曾耀先 |
| 地址: | 314201 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液體流出口 氯硅烷液體 供應(yīng)管 中和處理裝置 本實(shí)用新型 堿性中和液 惰性氣體 鹽酸腐蝕 儲(chǔ)存槽 噴射管 噴射 堵塞 二氧化硅 技術(shù)手段 裝置結(jié)構(gòu) 側(cè)壁 圍設(shè) 中和 儲(chǔ)存 | ||
1.一種氯硅烷液體中和處理裝置,包括中和所述氯硅烷液體的堿性中和液及儲(chǔ)存所述堿性中和液的儲(chǔ)存槽,其特征在于,所述處理裝置還包括:
供應(yīng)所述氯硅烷液體的供應(yīng)管,所述供應(yīng)管的下端成形有氯硅烷液體流出口,所述液體流出口延伸至所述堿性中和液的儲(chǔ)存槽內(nèi),所述液體流出口位于所述堿性中和液的液面上方;
用于噴射惰性氣體的噴射管,所述噴射管包括噴射管管體及送氣管,所述噴射管管體的一端成形有向下的氣體噴出口,所述氣體噴出口的高度高于所述氯硅烷液體流出口,所述噴射管設(shè)于所述液體流出口的周圍以向圍設(shè)形成所述液體流出口的液體流出口側(cè)壁周圍噴射惰性氣體,所述送氣管與所述噴射管管體連通設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯硅烷液體中和處理裝置,其特征在于,所述供應(yīng)管的液體流出口與所述堿性中和液的液面之間的距離為500~2000mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氯硅烷液體中和處理裝置,其特征在于,所述供應(yīng)管的上端連接有清洗管,所述清洗管與所述供應(yīng)管之間設(shè)有閥門以控制所述清洗管與所述供應(yīng)管的連通與閉合;所述供應(yīng)管的側(cè)部形成有分支管,所述氯硅烷液體通過所述分支管進(jìn)入所述供應(yīng)管。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氯硅烷液體中和處理裝置,其特征在于,所述噴射管與所述供應(yīng)管為雙層管結(jié)構(gòu),所述噴射管的內(nèi)壁與所述供應(yīng)管的外壁之間有惰性氣體的容納空間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的氯硅烷液體中和處理裝置,其特征在于,所述噴射管的氣體噴出口的口徑小于所述噴射管的口徑,圍設(shè)形成所述氣體噴出口的側(cè)壁為傾斜面。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的氯硅烷液體中和處理裝置,其特征在于,所述噴射管的氣體噴出口的四周設(shè)置有庇板,所述庇板通過向下擴(kuò)徑形成阻擋所述惰性氣體上升的擋板;所述供應(yīng)管的外部還設(shè)有外筒以令所述惰性氣體與外部空間隔開。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氯硅烷液體中和處理裝置,其特征在于,所述噴射管的氣體噴出口的底端距離所述供應(yīng)管的液體流出口底端的距離為0~30mm。
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