[實(shí)用新型]制絨后硅片清洗檢測裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820087447.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-01-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN207781552U | 公開(公告)日: | 2018-08-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡琴;吳家宏;張凱勝;姚偉忠;孫鐵囤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 常州億晶光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67;H01L21/02;H01L21/66 |
| 代理公司: | 常州市英諾創(chuàng)信專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32258 | 代理人: | 鄭云 |
| 地址: | 213000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 提拉槽 電阻率測試儀 硅片 制絨 本實(shí)用新型 硅片清洗 檢測裝置 電阻率 溢流管 溢流口 報(bào)警器信號(hào) 太陽能電池 工藝處理 硅片制絨 后續(xù)工藝 化學(xué)藥液 再次水洗 轉(zhuǎn)換效率 報(bào)警器 上端 檢測 放入 獲知 酸洗 連通 清洗 流出 殘留 污染 | ||
本實(shí)用新型涉及硅片制絨工藝處理技術(shù)領(lǐng)域,尤其是一種制絨后硅片清洗檢測裝置,包括PLC控制器、電阻率測試儀、報(bào)警器及裝有純水的慢提拉槽體,慢提拉槽體的上端具有溢流口,慢提拉槽體的溢流口處連通有溢流管,電阻率測試儀用于檢測溢流管中液體的電阻率,PLC控制器分別與電阻率測試儀及報(bào)警器信號(hào)連接,本實(shí)用新型通過將硅片放入到裝有純水的慢提拉槽體中,然后巧妙的利用電阻率測試儀檢測慢提提拉槽體中所溢流出的液體的電阻率是否發(fā)生變化,從而獲知硅片是否清洗干凈,確保制絨后的硅片經(jīng)水洗、酸洗及再次水洗其表面不在殘留化學(xué)藥液,有效的避免了后續(xù)制絨后的硅片被污染的問題及對(duì)后續(xù)工藝造成影響,進(jìn)而提高太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及硅片制絨工藝處理技術(shù)領(lǐng)域,尤其是一種制絨后硅片清洗檢測裝置。
背景技術(shù)
目前太陽能電池制備流程通常為清洗制絨、擴(kuò)散、刻蝕、去磷硅玻璃、PEVCD、印刷及燒結(jié)等,其中,制絨工藝包括上料、預(yù)處理工藝、水漂洗、制絨、水洗、酸洗、水洗、慢提拉、烘干及下料;在制絨工藝中硅片經(jīng)制絨步驟后,需要經(jīng)過水洗、酸洗(一方面去除硅片表面氧化物,另一方面去除硅片表面的金屬離子)及再次水洗后,經(jīng)過慢提拉脫水,才能烘干進(jìn)入下道工序,然而現(xiàn)有技術(shù)中,制絨后的硅片很難得知其經(jīng)過水洗、酸洗及再次水洗后硅片表面是否還殘留酸或堿等化學(xué)藥液或金屬離子未清洗干凈,如果硅片表面有殘余的化學(xué)藥液或金屬離子并未沖洗干凈,會(huì)污染慢提拉槽體,因?yàn)橹平q后的硅片均會(huì)經(jīng)過慢提拉槽進(jìn)行脫水,一旦慢提拉槽被污染,那么后續(xù)制絨后的硅片都會(huì)被污染。硅片表面被污染后,一方面會(huì)影響到電池的轉(zhuǎn)換效率,另一方面也會(huì)導(dǎo)致電池漏電,影響電池的成品率。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是:為了解決現(xiàn)有技術(shù)中無法監(jiān)控制絨后的硅片經(jīng)水洗、酸洗及再次水洗后硅片表面是否還殘留酸或堿等化學(xué)藥液的問題,現(xiàn)提供一種制絨后硅片清洗檢測裝置。
本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種制絨后硅片清洗檢測裝置,包括PLC控制器、電阻率測試儀、報(bào)警器及裝有純水的慢提拉槽體,所述慢提拉槽體的上端具有溢流口,所述慢提拉槽體的溢流口處連通有溢流管,所述電阻率測試儀用于檢測溢流管中液體的電阻率,所述PLC控制器分別與電阻率測試儀及報(bào)警器信號(hào)連接。
優(yōu)選地,所述報(bào)警器為聲光報(bào)警器。
具體地,所述慢提拉槽體的下端連通有進(jìn)水管,所述進(jìn)水管上設(shè)置有水泵。
本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型的制絨后硅片清洗檢測裝置通過將硅片放入到裝有純水的慢提拉槽體中,然后巧妙的利用電阻率測試儀檢測慢提提拉槽體中所溢流出的液體的電阻率是否發(fā)生變化,從而獲知硅片是否清洗干凈,確保后續(xù)制絨后的硅片經(jīng)水洗、酸洗及再次水洗其表面不在殘留化學(xué)藥液或金屬離子,有效的避免了后續(xù)制絨后的硅片被污染,從而保證太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率以及電池的成品率。
附圖說明
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。
圖1是本實(shí)用新型制絨后硅片清洗檢測裝置的示意圖。
圖中:1、PLC控制器,2、電阻率測試儀,3、報(bào)警器,4、慢提拉槽體,4-1、溢流口,5、溢流管,6、進(jìn)水管,7、水泵,8、花籃。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)在結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。這些附圖均為簡化的示意圖,僅以示意方式說明本實(shí)用新型的基本結(jié)構(gòu),因此其僅顯示與本實(shí)用新型有關(guān)的構(gòu)成,方向和參照(例如,上、下、左、右、等等)可以僅用于幫助對(duì)附圖中的特征的描述。因此,并非在限制性意義上采用以下具體實(shí)施方式,并且僅僅由所附權(quán)利要求及其等同形式來限定所請(qǐng)求保護(hù)的主題的范圍。
實(shí)施例1
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
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H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





