[實用新型]一種自清潔式硅片翻轉機構

有效

• 申請號: 201820036701.4
• 申請日: 2018-01-10
• 公開（公告）號: CN207800577U
• 公開（公告）日: 2018-08-31
• 發明（設計）人: 李世山;陽軍;吳會旭;李釗
• 申請（專利權）人: 蘇州聚晶科技有限公司
• 主分類號: H01L21/687
• 分類號: H01L21/687;H01L21/67
• 代理公司: 蘇州市指南針專利代理事務所(特殊普通合伙) 32268
• 代理人: 李先鋒

本實用新型公開了一種自清潔式硅片翻轉機構，包括底座、固定座、氣缸、滑動板、支座、伺服電機、第一齒輪、轉軸、第二齒輪、過渡板、夾爪氣缸、自清洗機構，氣缸能推動與滑動板固連的支座前移，當滑動板觸發第一接近開關時，經進氣管向分流箱內泵入壓縮空氣，壓縮空氣經分流孔吹出，兩件自清洗機構相互清洗墊板上的灰塵，隨后，夾爪氣缸帶動兩自清洗機構合攏，從而將硅片夾緊，隨后，氣缸復位，當滑動板觸發第二接近開關后，伺服電機通過第一齒輪帶動轉軸轉動180°，從而帶動夾持有硅片的夾爪氣缸翻轉180°。該裝置結構簡單，能對硅片自動翻轉，而且翻轉時先自動清洗夾持硅片的墊板，防止由于墊板不干凈產生的二次污染。

技術領域

本實用新型涉及一種機械裝置，尤其涉及一種自清潔式硅片翻轉機構。

背景技術

半導體器件生產中硅片須經嚴格清洗，微量污染也會導致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染雜質，清除污染的方法有物理清洗和化學清洗，物理清洗主要是采用刷洗或擦洗的方法將硅片表面雜質去除，實際生產過程中，在對硅片進行清洗時，往往需要將硅片翻轉180°，現有方法采用人工手動翻轉，不僅效率低，而且有可能產生二次污染。鑒于以上缺陷，實有必要設計一種自清潔式硅片翻轉機構。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題在于：提供一種自清潔式硅片翻轉機構，來解決手動翻轉硅片不僅效率低而且有可能產生二次污染的問題。

為解決上述技術問題，本實用新型的技術方案是：一種自清潔式硅片翻轉機構，包括底座、固定座、氣缸、滑動板、支座、伺服電機、第一齒輪、轉軸、第二齒輪、過渡板、夾爪氣缸、自清洗機構，所述的固定座位于底座上端左側，所述的固定座與底座通過螺栓相連，所述的氣缸位于固定座左側，所述的氣缸與固定座通過螺栓相連，所述的滑動板位于底座上端左側且位于氣缸右側，所述的滑動板與氣缸螺紋相連，所述的支座位于滑動板頂部，所述的支座與滑動板通過螺栓相連，所述的伺服電機位于支座上端左側，所述的伺服電機與支座通過螺栓相連，所述的第一齒輪位于伺服電機右側，所述的第一齒輪與伺服電機鍵相連，所述的轉軸貫穿支座，所述的轉軸與支座轉動相連，所述的第二齒輪位于第一齒輪下端且被轉軸貫穿，所述的第二齒輪與第一齒輪嚙合相連且與轉軸鍵相連，所述的過渡板位于轉軸右側，所述的過渡板與轉軸螺紋相連，所述的夾爪氣缸位于過渡板外側，所述的夾爪氣缸與過渡板螺紋相連，所述的自清洗機構數量為2件，分別與夾爪氣缸的夾爪固連。

本實用新型進一步的改進如下：

進一步的，所述的底座還設有導軌，所述的導軌位于底座上端，所述的導軌與底座通過螺栓相連。

進一步的，所述的底座還設有定位塊，所述的定位塊位于底座上端右側，所述的定位塊與底座通過螺栓相連。

進一步的，所述的定位塊還設有第一接近開關，所述的第一接近開關貫穿定位塊，所述的第一接近開關與定位塊螺紋相連。

進一步的，所述的固定座還設有第二接近開關，所述的第二接近開關貫穿固定座，所述的第二接近開關與固定座螺紋相連。

進一步的，所述的滑動板還設有滑塊，所述的滑塊位于滑動板底部且被導軌貫穿，所述的滑塊與滑動板通過螺栓相連，所述的滑塊可以沿導軌左右滑動。

進一步的，所述的自清洗機構還包括連接板、設有若干分流孔的分流箱、墊板，所述的連接板與夾爪氣缸的夾爪固連，所述的分流箱位于連接板下端，所述的分流箱與連接板通過螺栓相連，所述的墊板位于分流箱下端，所述的墊板與分流箱粘接相連，所述的分流孔位于分流箱下端。

進一步的，所述的分流箱還設有進氣管，所述的進氣管位于分流箱上端，所述的進氣管與分流箱螺紋相連。