[實用新型]一種可調節脫模角度的紫外納米壓印裝置

有效

• 申請號: 201820035502.1
• 申請日: 2018-01-10
• 公開（公告）號: CN207663211U
• 公開（公告）日: 2018-07-27
• 發明（設計）人: 谷巖;周巖;戴得恩;鄭艷蘋;張群;李景鵬;鄭恭承;易正發;馮開拓;曹東旭;田旭;康洺碩;楊繼犇;王點正;張成龍
• 申請（專利權）人: 長春工業大學
• 主分類號: G03F7/00
• 分類號: G03F7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種可調節脫模角度的紫外納米壓印裝置，其特征在于，該裝置包括工作臺、壓印裝置、伺服電機一、伺服電機二、涂膠裝置、固化裝置、調節裝置固定架一、調節裝置固定架二、調節裝置、放卷輥、收卷輥、支撐輥一、襯底，所述的襯底具有可透光性，壓印裝置通過軸承配合在工作臺上，伺服電機一、伺服電機二均通過螺釘連接固定于工作臺上，伺服電機一與放卷輥連接，伺服電機二與收卷輥連接，襯底從放卷輥放出，由收卷輥收卷，伺服電機一和伺服電機二同步轉動，使襯底平整運動，涂膠裝置位于襯底上方，一端通過螺釘固定在支撐板二上，另一端通過螺釘固定在支撐板一上，固化裝置通過螺釘將一端固定在支撐板二上，另一端固定在支撐板一上，調節裝置固定架一通過螺釘固定于工作臺的支撐板二上，調節裝置固定架二通過螺釘固定于工作臺的支撐板一上，調節裝置通過螺釘固定于調節裝置固定架一和調節裝置固定架二上，放卷輥、收卷輥、支撐輥一和支撐輥二均通過軸承配合于支撐板一與支撐板二之間。

2.根據權利要求1中所述的一種可調節脫模角度的紫外納米壓印裝置，其特征在于，所述的工作臺包括底板、支腳、支撐板一、支撐板二、肋板，所述的支腳通過螺紋連接固定于底板下方，支撐板二固連于底板上方，支撐板一通過螺釘固定在底板與支撐板二上，肋板焊接于底板與支撐板二上。

3.根據權利要求1中所述的一種可調節脫模角度的紫外納米壓印裝置，其特征在于，所述的調節裝置包括一維位移平臺一、一維位移平臺二、連接塊一、微動平臺一、微動平臺二、連接塊二、連接塊三、調節輥，所述的一維位移平臺一、一維位移平臺二分別通過螺釘固定于調節裝置固定架一和調節裝置固定架二上，連接塊一通過螺釘固定于一維位移平臺一的滑塊一上方，連接塊三通過螺釘固定于一維位移平臺二的滑塊二上方，微動平臺一通過螺釘固定在連接塊一中，微動平臺二通過螺釘固定在連接塊三中，連接塊二的一端通過螺釘固定于微動平臺一上方，連接塊二另一端通過螺釘固定于微動平臺二上方，調節輥通過軸承配合于微動平臺一與微動平臺二上。

4.根據權利要求3所述的一種可調節脫模角度的紫外納米壓印裝置，其特征在于，所述的微動平臺一包括微動平臺一固定框、預緊螺釘一、壓電陶瓷一、柔性鉸鏈一，所述的預緊螺釘一頂端與壓電陶瓷一聯接，壓電陶瓷一通過預緊螺釘一預緊，并固定于微動平臺一固定框中。

5.根據權利要求3所述的一種可調節脫模角度的紫外納米壓印裝置，其特征在于，所述的微動平臺二包括微動平臺二固定框、預緊螺釘二、壓電陶瓷二、柔性鉸鏈二，所述的預緊螺釘頂端二與壓電陶瓷二聯接，壓電陶瓷二通過預緊螺釘二預緊，并固定于微動平臺二固定框中。

6.根據權利要求3所述的一種可調節脫模角度的紫外納米壓印裝置，其特征在于，所述的一維位移平臺一包括一維位移平臺框架一、一維位移平臺一電機、滾珠絲杠一、導軌一、滑塊一、絲杠支撐座一，所述的滾珠絲杠一、導軌一、絲杠支撐座一置于一維位移平臺框架一內，導軌一固定在一維位移平臺框架一上，絲杠支撐座一通過螺釘固定在一維位移平臺框架一上，滾珠絲杠一通過軸承配合于一維位移平臺框架一上，并且滾珠絲杠一通過軸承固定在絲杠支撐座一上，一維位移平臺一電機通過螺釘固定于一維位移平臺框架一上，一維位移平臺一電機與滾珠絲杠一連接，滑塊一裝卡在導軌一上。

7.根據權利要求3所述的一種可調節脫模角度的紫外納米壓印裝置，其特征在于，所述的一維位移平臺二包括一維位移平臺框架二、一維位移平臺二電機、滾珠絲杠二、導軌二、滑塊二，絲杠支撐座二，所述的滾珠絲杠二、導軌二、絲杠支撐座二置于一維位移平臺框架二內，導軌二固定在一維位移平臺框架二上，絲杠支撐座二通過螺釘固定在一維位移平臺框架二上，滾珠絲杠二通過軸承配合在一維位移平臺框架二上，并且滾珠絲杠二通過軸承固定在絲杠支撐座二上，一維位移平臺二電機通過螺釘固定于一維位移平臺框架二上，一維位移平臺二電機與滾珠絲杠二連接，滑塊二裝卡在導軌二上。