[實用新型]一種可調(diào)節(jié)脫模角度的紫外納米壓印裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820035502.1 | 申請日: | 2018-01-10 |
| 公開(公告)號: | CN207663211U | 公開(公告)日: | 2018-07-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 谷巖;周巖;戴得恩;鄭艷蘋;張群;李景鵬;鄭恭承;易正發(fā);馮開拓;曹東旭;田旭;康洺碩;楊繼犇;王點正;張成龍 | 申請(專利權(quán))人: | 長春工業(yè)大學 |
| 主分類號: | G03F7/00 | 分類號: | G03F7/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 130012 吉*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 脫模 襯底 調(diào)節(jié)裝置 紫外納米壓印 壓印圖案 壓印裝置 可調(diào)節(jié) 收卷輥 本實用新型 固化裝置 宏觀微觀 涂膠裝置 微動平臺 微觀調(diào)節(jié) 位移平臺 壓印區(qū)域 放卷輥 分辨率 工作臺 固定架 缺陷率 支撐輥 紫外燈 卷收 涂膠 壓印 粘附 固化 對準 簡易 圖案 傳輸 回收 緩解 宏觀 | ||
一種可調(diào)節(jié)脫模角度的紫外納米壓印裝置,本裝置包括調(diào)節(jié)裝置、壓印裝置、固化裝置、調(diào)節(jié)裝置固定架、工作臺,放卷輥放出襯底,收卷輥卷收襯底,涂膠裝置對襯底進行涂膠,被涂過膠的襯底通過支撐輥一傳輸至壓印裝置進行壓印,紫外燈對準壓印區(qū)域,對其進行固化,在對襯底進行脫模前,調(diào)節(jié)裝置通過位移平臺和微動平臺對調(diào)節(jié)輥進行宏觀與微觀調(diào)節(jié),調(diào)節(jié)到一個合適的脫模角度后,進行脫模,最后得到帶有微納圖案的襯底,再通過收卷輥將襯底回收,本實用新型采用宏觀微觀結(jié)合可精確調(diào)節(jié)脫模角度,從而緩解脫模過程中脫模力、粘附力和摩擦力對脫模過程的影響,降低壓印圖案的缺陷率,提高壓印圖案精度及分辨率且裝置簡易,操作簡單,效率高,成本低。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及納米壓印領(lǐng)域,尤其是一種可調(diào)節(jié)脫模角度的紫外納米壓印裝置。
背景技術(shù)
1995年,普林斯頓大學納米結(jié)構(gòu)實驗室的Stephen Y.Chou教授提出了納米壓印光刻技術(shù),開啟了一個新方向,一種低成本,操作簡單,工作效率高的高精度壓印技術(shù)。納米壓印光刻技術(shù)是將光刻膠涂抹在襯底上,對帶有納米圖案的模板施加機械力使模板與襯底上的膠體等比例進行壓印納米圖案。相對于光刻、刻蝕技術(shù),納米壓印技術(shù)不受光學光刻波長的限制。由于納米壓印技術(shù)的應(yīng)用的巨大前景,自從被提出以來就受到了各國政府與科學家的普遍重視,已致近十幾年來納米壓印技術(shù)迅速發(fā)展,成為當下熱門研究領(lǐng)域之一。
紫外納米壓印技術(shù)是由M.Bender和M.Otto提出的一種利用紫外光固化高分子的壓印光刻技術(shù)。紫外納米壓印技術(shù)內(nèi)容:首先將紫外光刻膠涂抹于襯底上,將其置于具有納米微結(jié)構(gòu)圖案的模具下,對模具施以機械力,對紫外光刻膠進行壓印,壓印完成后紫外燈光對壓印區(qū)域進行固化,然后進行脫模。相對于熱壓印技術(shù)必須經(jīng)過高溫高壓,冷卻處理的過程,紫外納米壓印具有能在室溫、低壓環(huán)境下工作的優(yōu)點。
目前的紫外納米壓印技術(shù)尚未完全發(fā)展成熟,仍然存在著一些問題,例如壓印完成后,對其進行紫外燈光固化,隨后脫模。對于每一個模板有著與其相對應(yīng)的脫模工藝參數(shù)(如脫模角度),通過最佳的脫模角度能夠有效的減少所需的脫模力以及粘附力和摩擦力對脫模過程的影響。粘附力和摩擦力是紫外納米壓印中影響圖案的主要因素,若工藝參數(shù)(如脫模角度)不能有效的減少所需的脫模力以及粘附力和摩擦力對脫模過程的影響,將會導致微納圖案的撕裂或在邊界處損傷,從而導致圖案的精度降低,甚至會對模板造成損傷。當襯底與模板進行脫模分離時,隨著脫模角度的變化,模具與壓印材料接觸區(qū)域的脫模應(yīng)力也發(fā)生相對應(yīng)的變化,因此選取一個合適的脫模角度是決定壓印完成后得到的納米微結(jié)構(gòu)圖案的精度與分辨率的重要因素。但在壓印裝置中常常會使用不同的模板,脫模角度會因為初始裝配而固定,難以改變。需要一種裝置調(diào)節(jié)襯底與壓印輥之間的包角以調(diào)整其脫模角度,從而降低減少所需的脫模力以及粘附力和摩擦力對脫模過程的影響。
綜上所述,目前輥對輥紫外納米壓印主要存在以下問題:
脫模時,當脫模角度不適宜時會影響脫模后得到的納米微結(jié)構(gòu)圖案精度與分辨率。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的是提供一種可調(diào)節(jié)脫模角度的紫外納米壓印裝置,用于調(diào)節(jié)一個合適的紫外納米壓印脫模角度,從而緩解脫模過程中脫模力以及粘附力和摩擦力對脫模過程的影響,降低壓印圖案的缺陷率,提高壓印圖案精度及分辨率,且裝置簡易,操作簡單,效率高,成本低。
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