[實用新型]蒸發源裝置以及濺射鍍膜設備有效
| 申請號: | 201820020691.5 | 申請日: | 2018-01-03 |
| 公開(公告)號: | CN207958483U | 公開(公告)日: | 2018-10-12 |
| 發明(設計)人: | 徐旻生;莊炳河;龔文志;張永勝;滿小花;王應斌 | 申請(專利權)人: | 愛發科豪威光電薄膜科技(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/56 |
| 代理公司: | 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414 | 代理人: | 張全文 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 蒸發源機構 蒸發源裝置 升降驅動機構 上下運動 濺射鍍膜設備 水平錯位 出料口 鍍膜 驅動 真空濺射鍍膜 本實用新型 出料位置 出料量 均勻性 | ||
本實用新型屬于真空濺射鍍膜技術領域,尤其涉及一種蒸發源裝置以及濺射鍍膜設備,其中,蒸發源裝置包括第一蒸發源機構、與所述第一蒸發源機構水平錯位的第二蒸發源機構以及用于驅動所述第二蒸發源機構上下運動的升降驅動機構。由于將蒸發源裝置分為第一蒸發源機構和第二蒸發源機構,第一蒸發源機構和第二蒸發源機構能夠單獨供應,且還由于第二蒸發源機構與第一蒸發源機構水平錯位,升降驅動機構能夠驅動第二蒸發源機構上下運動,這樣,當出現出料量不同時,則可通過升降驅動機構驅動第二蒸發源機構上下運動,以改變第一出料口與第二出料口之間的出料位置,能夠調整鍍膜的厚度,從而提高鍍膜的均勻性。
技術領域
本實用新型屬于真空濺射鍍膜技術領域,尤其涉及一種蒸發源裝置以及濺射鍍膜設備。
背景技術
蒸發源裝置包括具有蒸發腔的蒸發箱以及兩個置于蒸發腔內的坩堝,蒸發箱于其側壁開設于蒸發腔連通與真空鍍膜室對接的出料口,其中,由于兩坩堝均置于同一蒸發箱內,而蒸發箱僅開設有一個出料口,這樣,在使用過程中,當出料口的上下區域的出料量不同時,不能進行調整,從而導致鍍膜的均勻性較差。
實用新型內容
本實用新型的目的在于克服上述現有技術的不足,提供了一種蒸發源裝置,其旨在解決鍍膜的均勻性較差的問題。
本實用新型是這樣實現的:
一種蒸發源裝置,與真空鍍膜室配合使用,包括第一蒸發源機構、與所述第一蒸發源機構水平錯位的第二蒸發源機構以及用于驅動所述第二蒸發源機構上下運動的升降驅動機構,所述第一蒸發源機構包括具有第一蒸發腔的第一蒸發箱以及置于所述第一蒸發腔內的第一坩堝,所述第一坩堝開設有開口朝上設置并用于存放藥液的第一存藥腔,所述第一蒸發箱于其側壁開設于所述第一蒸發腔連通與所述真空鍍膜室對接的第一出料口,所述第二蒸發源機構包括具有第二蒸發腔的第二蒸發箱以及置于所述第二蒸發腔內的第二坩堝,所述第二坩堝開設有開口朝上設置并用于存放藥液的第二存藥腔,所述第二蒸發箱于其側壁開設于第二蒸發腔連通與所述真空鍍膜室對接的第二出料口。
由于將蒸發源裝置分為第一蒸發源機構和第二蒸發源機構,第一蒸發源機構和第二蒸發源機構能夠單獨供應,且還由于第二蒸發源機構與第一蒸發源機構水平錯位,升降驅動機構能夠驅動第二蒸發源機構上下運動,這樣,當出現出料量不同時,則可通過升降驅動機構驅動第二蒸發源機構上下運動,以改變第一出料口與第二出料口之間的出料位置,能夠調整鍍膜的厚度,從而提高鍍膜的均勻性。
附圖說明
為了更清楚地說明本實用新型實施例中的技術方案,下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
圖1是本實用新型實施例提供的蒸發源裝置的結構示意圖,其中,第一蒸發箱部分結構透視,以便于觀察顯示出第一坩堝,第二蒸發箱部分結構透視,以便于觀察顯示出第二坩堝;
圖2是圖1中AA方向的剖視圖。
附圖標號說明:
具體實施方式
為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白,以下結合附圖及實施例,對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅用以解釋本實用新型,并不用于限定本實用新型。
本實用新型實施例提供一種蒸發源裝置,與真空鍍膜室配合使用,可以用于鍍制AR膜以及在鍍制AG膜后的基礎上再鍍制AF膜。
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