[實用新型]蒸發源裝置以及濺射鍍膜設備

有效

• 申請號: 201820020691.5
• 申請日: 2018-01-03
• 公開（公告）號: CN207958483U
• 公開（公告）日: 2018-10-12
• 發明（設計）人: 徐旻生;莊炳河;龔文志;張永勝;滿小花;王應斌
• 申請（專利權）人: 愛發科豪威光電薄膜科技(深圳)有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/56
• 代理公司: 深圳中一聯合知識產權代理有限公司 44414
• 代理人: 張全文

1.一種蒸發源裝置，與真空鍍膜室配合使用，其特征在于，包括第一蒸發源機構、與所述第一蒸發源機構水平錯位的第二蒸發源機構以及用于驅動所述第二蒸發源機構上下運動的升降驅動機構，所述第一蒸發源機構包括具有第一蒸發腔的第一蒸發箱以及置于所述第一蒸發腔內的第一坩堝，所述第一坩堝開設有開口朝上設置并用于存放藥液的第一存藥腔，所述第一蒸發箱于其側壁開設于所述第一蒸發腔連通與所述真空鍍膜室對接的第一出料口，所述第二蒸發源機構包括具有第二蒸發腔的第二蒸發箱以及置于所述第二蒸發腔內的第二坩堝，所述第二坩堝開設有開口朝上設置并用于存放藥液的第二存藥腔，所述第二蒸發箱于其側壁開設于第二蒸發腔連通與所述真空鍍膜室對接的第二出料口。

2.如權利要求1所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述第一蒸發源機構還包括用于驅動所述第一坩堝以使所述第一坩堝在第一初始狀態和第一蒸鍍狀態之間切換的第一驅動器，所述第一坩堝在第一初始狀態時所述第一存藥腔腔口朝上設置，而在所述第一蒸鍍狀態時所述第一存藥腔腔口朝向所述第一出料口設置。

3.如權利要求1所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述第二蒸發源機構還包括用于驅動所述第二坩堝以使所述二坩堝在第二初始狀態和第二蒸鍍狀態之間切換的第二驅動器，所述第二坩堝在第二初始狀態時所述第二存藥腔腔口朝上設置，而在所述第二蒸鍍狀態時所述第二存藥腔腔口朝向所述第二出料口設置。

4.如權利要求1至3中任一項所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述第一蒸發箱開設有均與所述第一蒸發腔連通的第一真空放氣口、第一真空抽氣口以及供所述藥液送入的第一入料口，所述第二蒸發箱開設有均與所述第二蒸發腔連通的第二真空放氣口、第二真空抽氣口以及供所述藥液送入的第二入料口；

所述第一蒸發源機構還包括設于所述第一出料口處并用于截斷或導通所述第一蒸發腔和所述真空鍍膜室的第一插板閥、設于所述第一入料口處并用于截斷或導通所述第一蒸發腔與外部的第一真空閥、設于所述第一真空放氣口處的第一真空放氣閥以及設于所述第一真空抽氣口處的第一真空抽氣閥，所述第二蒸發源機構還包括設于所述第二出料口處并用于截斷或導通所述第二蒸發腔和所述真空鍍膜室的第二插板閥、設于所述第二入料口處并用于截斷或導通所述第二蒸發腔與外部的第二真空閥、設于所述第二真空放氣口處的第二真空放氣閥以及設于所述第二真空抽氣口處的第二真空抽氣閥；

所述蒸發源裝置還包括通管結構以及通過所述通管結構與所述第一真空抽氣閥和所述第二真空抽取閥連接的真空泵，所述通管結構具有與所述真空泵連接的第一管口、與所述第一真空抽氣閥連接的第二管口和與所述第二真空抽氣閥連接的第三管口，所述真空泵在所述第一插板閥截斷所述第一蒸發腔和所述真空鍍膜室、所述第一真空閥關閉、所述第一真空放氣閥關閉、所述第一真空抽氣閥打開時用于將所述第一蒸發腔抽真空，而在所述第二插板閥截斷所述第二蒸發腔和所述真空鍍膜室、所述第二真空閥關閉、所述第二真空放氣閥關閉、所述第二真空抽氣閥打開時用于將所述第二蒸發腔抽真空。

5.如權利要求4所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述第一入料口開設于所述第一蒸發箱的上側，并位于所述第一坩堝的上方，所述第二入料口開設于所述第二蒸發箱的上側，并位于所述第二坩堝的上方。

6.如權利要求5所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述蒸發源裝置包括送料組件，所述送料組件包括具有第一出料管口的第一引料管、第二出料管口的第二引料管、用于存放所述藥液的藥瓶、用于將所述藥液從所述藥瓶抽至所述第一引料管并直至所述藥液從所述第一出料管口溢出的第一柱塞泵以及用于將所述藥液從所述藥瓶抽至所述第二引料管并直至所述藥液從所述第二出料管口溢出的第二柱塞泵，所述第一出料管口位于所述第一入料口上方，所述第二出料管口位于所述第二入料口上方。

7.如權利要求4所述的蒸發源裝置，其特征在于，所述第一插板閥為方形插板閥。

8.一種濺射鍍膜設備，其特征在于，包括權利要求1至7中任一項所述的蒸發源裝置。