[實用新型]一種用于制備低羥基石英玻璃的真空爐

有效

• 申請號: 201820018499.2
• 申請日: 2018-01-05
• 公開（公告）號: CN207973666U
• 公開（公告）日: 2018-10-16
• 發明（設計）人: 張國君;劉小舟;萬后本;王韜;吳成晨
• 申請（專利權）人: 湖北菲利華石英玻璃股份有限公司
• 主分類號: C03B5/06
• 分類號: C03B5/06;C03B5/225;C03B5/18;C03B5/235
• 代理公司: 荊州市亞德專利事務所(普通合伙) 42216
• 代理人: 李杰

1.一種用于制備低羥基石英玻璃的真空爐；包括爐體、保溫室（1）、石墨加熱器（2）和石墨坩堝（3），其特征在于：爐體內固裝有保溫室（1），保溫室（1）內通過安裝件和石墨加熱器（2）活動安裝有石墨坩堝（3）；所述的爐體由上爐蓋（4）、中爐筒（5）和爐底盤（6）構成，上爐蓋（4）與中爐筒（5）之間固定連接，中爐筒（5）與爐底盤（6）之間活動密封貼合連接，上爐蓋（4）的頂部安裝有紅外測溫管（7），紅外測溫管（7）的一端與保溫室（1）連通，紅外測溫管（7）的另一端延伸至上爐蓋（4）上方；爐底盤（6）底部固裝有連接件（13）；爐底盤（6）通過連接件（13）與升降裝置連接。

2.根據權利要求1所述的一種用于制備低羥基石英玻璃的真空爐；其特征在于：所述的紅外測溫管（7）的一側的上爐蓋（4）上設置有真空管（9），真空管（9）與爐體內腔連通。

3.根據權利要求1所述的一種用于制備低羥基石英玻璃的真空爐；其特征在于：所述的上爐蓋（4）、中爐筒（5）和爐底盤（6）分別為夾層體，上爐蓋（4）、中爐筒（5）和爐底盤（6）上分別設置有冷卻進水管（12）和出水口（23）。

4.根據權利要求1所述的一種用于制備低羥基石英玻璃的真空爐；其特征在于：所述的中爐筒（5）內壁上設置有環形的固定板（8），保溫室（1）通過固定板（8）固定安裝在中爐筒（5）內。

5.根據權利要求1所述的一種用于制備低羥基石英玻璃的真空爐；其特征在于：所述的安裝件由支撐柱（10）、安裝底板（11）和保溫隔熱板構成，安裝底板（11）上對稱設置有支撐柱（10），支撐柱（10）上端安裝有石墨加熱器（2），石墨加熱器（2）與安裝底板（11）之間呈上下層疊狀設置有保溫隔熱板，安裝件通過支撐柱（10）與爐底盤（6）固定連接。

6.根據權利要求5所述的一種用于制備低羥基石英玻璃的真空爐；其特征在于：所述的安裝底板（11）外側的爐底盤（6）內壁上設置有環形支撐板（22），環形支撐板（22）與保溫室（1）活動接觸連接。

7.根據權利要求1所述的一種用于制備低羥基石英玻璃的真空爐；其特征在于：所述的石墨坩堝（3）由支撐板（14）、通氣板（15）、內坩堝（16）、外坩堝（17）和均熱板（18）構成，支撐板（14）上固裝有外坩堝（17），外坩堝（17）內通過隔離環（19）套裝有內坩堝（16），內坩堝（16）和外坩堝（17）之間設置有隔熱層（20），外坩堝（17）的頂部安裝有通氣板（15），內坩堝（16）內的支撐板（14）上通過墊高環（21）安裝有均熱板（18）。